JP4987580B2 - 縦型ウエハボート - Google Patents
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Description
この縦型ウエハボートは、例えば図8に示すように、成膜処理されるウエハWを搭載するための棚部2a、3a,4aが形成された複数本の支柱2,3,4と、前記支柱2,3,4の上下端部を固定する天板5及び底板6とから構成されている。
そして、前記縦型ウエハボート1の棚部2a、3a,4aに複数枚のウエハWを搭載し、ウエハWが搭載された縦型ウエハボート1を縦型熱処理炉に収容することによって、所定の熱処理がなされる。
この特許文献1において提案された縦型ウエハボートを図9に基づいて説明する。この縦型ウエハボート1は図8に示される縦型ウエハボートと同様に、天板と底板間に複数本の支柱を所定間隔をおいて立設した構造を有している。尚、図9にあっては支柱2,4のみを示している。
即ち、ウエハの外周部が支持部(棚部)に相当の面積で摺接(当接)しているため、パーティクルの発生自体は、図8に示す棚部上にウエハを搭載する場合と何ら変らないものであった。
そして、この相当量のパーティクルに対する受け面23a,24aの設計が十分とは言えず、ウエハへのパーティクル落下を完全に防止することは困難であった。
そして、縦型ウエハボートを繰り返し使用した際、前記領域S上をウエハ下面が摺接(当接)すると、前記領域S上に付着したCVD膜を剥離させ、パーティクルの発生につながっていた。
また、ウエハ載置部が延設部の上面に突出して形成されているため、この360°下方外周域の延設部上面で発生したパーティクルを受け止めることができ、下方に落下し、他のウエハへの付着を抑制することができる。更に、前記棚部の一部にウエハ載置部が形成されるため、ウエハ下面の外周部にCVD膜が形成されない部分(いわゆるロッドマーク)を、小さなものとすることができる。
また、前記ウエハ載置部上面の表面粗さRaが0.2μm〜0.5μmに形成されているため、ウエハのスリップの発生がより抑制される。
更に、前記ウエハ非載置部の上面の表面粗さRaが1μm以上に形成されるため、ウエハ非載置部の上面に付着するCVD膜の剥離が抑制され、パーティクルの発生を抑制することができる。
また、前記ウエハ載置部上面の面積が3〜15mm2に形成され、従来のウエハ載置部比べて小面積に形成されているため、ウエハWに対する引掻き、あるいはウエハの擦れを抑制でき、ウエハが欠損することによって生じるパーティクルの発生を抑制することができる。また、前記したように、ウエハ載置部が小面積に形成されているため、ウエハの下面に形成される、いわゆるロッドマークを小さくすることができる。
ひこのように構成されているため、ウエハ搭載時に、ウエハ載置部上にパーティクルが存在する場合にも、ウエハ非載置部で前記パーティクルを受け止めることができ、前記パーティクルの落下を防止することができる。
延設部の上面でパーティクルを受け止めることができる確率が向上し、前記パーティクルの落下をより防止することができる。
従来の縦型ウエハボートと本発明の一実施形態にかかる縦型ウエハボートとは、棚部の形状が異なっている。そのため、この実施形態の説明では棚部について詳述し、その他の構成の説明は省略する。また、夫々の支柱2,3,4の棚部は同一形状であるため、支柱2に形成された一つの棚部について説明する。
すなわち、前記ウエハ非載置部13は、前記ウエハ載置部12よりも支柱2側の延設部の上面に、前記ウエハ載置部12よりも低く、かつ延設部の上面より高く形成されている。
このような構成となっているため、ウエハ非載置部13に落下するパーティクルの移動自由度が小さく、より確実にウエハ非載置部13において、パーティクルを捕獲することができる。
尚、前記延設部11の下縁部11d1〜11d5(11d4,11d5は図示せず)についても、前記延設部11の上縁部11c1〜11c5と同様に、曲面加工しても良い。
従来の縦型ウエハボート1の棚部2a,3a,4a(ウエハが搭載される部分)の面積は、一般的に30〜120mm2程度に形成されている。
これに比べてウエハ載置部12は小面積に形成されているため、ウエハWに対する引掻き、あるいはウエハWの擦れを抑制でき、ウエハWが欠損することによって生じるパーティクルの発生を抑制することができる。また、前記したように、ウエハ載置部12は小面積に形成されているため、ウエハWの下面に形成される、いわゆるロッドマークを小さくすることができる。
このように、ウエハ載置部12の上面12aが載置されたウエハWの内周部側から外周部側に向けてウエハWとの接触面積が増大するように形成されているため、小面積での支持に関わらず搭載されたウエハWをより安定して支持することができる。
また、前記上面12aは、図3に示すように、前記延設部11の上面11aから0.8mm〜2mmの高さt1に形成され、前記上面12aと前記延設部11の上面11aとは平行な面として形成されている。
前記上面12aが延設部11の上面11aから0.8mm以下の場合、搭載されたウエハが熱処理中に変形し、前記延設部11の上縁部11c1〜11c5に接触し、スリップが発生する虞があるためである。一方、前記上面12aが延設部11の上面から2mmを超えると、パーティクルが延設部11の上面11aに捕獲され難く、下方に位置するウエハ上に落下し、付着する確率が高まるためである。
この距離L1が2mm未満であると落下するパーティクルを延設部11が受ける確率が少なからず低下し、一方、この距離L1が10mmを超えると、搭載されたウエハが熱処理中に変形し、前記延設部11の上縁部11c1〜11c5に接触する虞があるためである。
このウエハ非載置部13は,図4に示すように、平面視上、略三角形状に形成されたウエハ載置部12に続いて略台形形状に形成されている。即ち、前記ウエハ載置部12の最大幅B1(ウエハ載置部の支柱側の上縁部寸法)以上の幅(ウエハ非載置部のウエハ載置部側の上縁部寸法)B2を有した台形形状に形成されている。
そのため、ウエハ搭載時に、ウエハ載置部12上にパーティクルが存在する場合にも、ウエハ搭載方向奥側のウエハ非載置部13で前記パーティクルを受け止めることができ、前記パーティクルの落下を防止することができる。
尚、前記ウエハ非載置部13は台形形状である必要はなく、搭載されるウエハの内周部側から外周部側に向けて拡がる形状であれば良く、例えば、円弧状形状であっても良い。
前記上面13aがウエハ載置部12の上面12aから0.2mm未満の低い場合には、ウエハ載置部12の上面12aにウエハを搭載する際、ウエハWが摺接(当接)し、前記ウエハ非載置部13の上面13a上に付着したCVD膜を剥離させ、パーティクルを発生させる虞があるためであり、パーティクルの落下防止効果が低減する傾向にある。また、ウエハ搭載時にウエハWの外周側面が当接し、ウエハWの外周側面に傷を与える虞がある。
尚、前記上面13aがウエハ載置部12の上面12aから1mmを超えて低い場合には、より確実なパーティクル防止効果が低減する傾向にある。
第2の変形例と同様に、延設部の上面、ウエハ非載置部13の上面でパーティクルを受け止めることができる確率が向上し、前記パーティクルの落下をより防止することができる。
2,3,4 支柱
2a,3a,4a 棚部
5 天板
6 底板
10 棚部
11 延設部
11a 面取り部
11b 上面
12 ウエハ載置部
12a ウエハ載置部の上面
13 ウエハ非載置部
13a ウエハ非載置部の上面
t1 上面12aからの上面13aの高さ
L1 上面12a上縁部と上面11aの上縁までの距離
B1 ウエハ載置部の最大幅
B2 ウエハ非載置部の最小幅
B3 支柱の幅
B4 延設部の幅
W ウエハ
Claims (5)
- 成膜処理されるウエハを搭載するための棚部が形成された複数本の支柱と、前記支柱の上下端部を固定する天板及び底板とを備え、
前記棚部が、前記支柱の側面から延設された延設部と、この延設部の上面に突出して形成されたウエハ載置部と、前記ウエハ載置部よりも支柱側の延設部の上面に、前記ウエハ載置部よりも低い高さに突出して形成されたウエハ非載置部とを有し、
前記ウエハ載置部が、前記延設部の上面の中央部分に突出して、平面視上、三角形状、半円形状、半楕円形状のいずれかの形状に形成され、
かつ、前記延設部の上面の表面粗さRaが1μm以上に形成され、前記ウエハ載置部上面の表面粗さRaが0.2μm〜0.5μmに形成され、前記ウエハ非載置部の上面の表面粗さRaが1μm以上に形成され、
更に、前記ウエハ載置部上面の面積が3〜15mm2に形成されていることを特徴とする縦型ウエハボート。 - 前記ウエハ載置部が、平面視上、頂角が50°〜120°の三角形状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の縦型ウエハボート。
- 前記ウエハ載置部の前側部が、半径0.5mm〜8mmの曲面に形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の縦型ウエハボート。
- 前記ウエハ非載置部の最も短い幅が、前記ウエハ載置部の最も長い幅以上の寸法をもって形成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の縦型ウエハボート。
- 前記ウエハ載置部の幅が前記支柱の幅よりも小さな寸法に形成され、かつ前記延設部の幅が支柱の幅よりも大きな寸法をもって形成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の縦型ウエハボート。
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