JP4981625B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
この半導体装置900では、半導体チップ904の周縁部がスペーサ903の周縁部よりも突出しており、半導体チップ904の周縁部がオーバーハングした状態となっている。このような半導体装置900において、保持板905は半導体チップ904に対し、自重を加え、半導体チップ904のひずみを抑制する役割を有する。半導体チップ904のそりを抑制するためには、保持板905は、半導体チップ904のオーバーハング部を被覆する必要がある。
図17に示すように、ワイヤ906を設ける工程では、ワイヤ906のループを形成するために、ワイヤ906を保持するキャピラリ907を保持板905側に移動させる必要がある(リバース動作)。このとき、キャピラリ907およびワイヤ906の軌跡は図17の実線Aで示すようなものとなる。
そのため、キャピラリ907やワイヤ906と、保持板905とが干渉するという問題がある。
このようにすることで、ワイヤを設ける際に、キャピラリやワイヤと、スペーサのオーバーハング部を被覆する被覆部とが干渉することを防止できる。これにより、オーバーハング部と被接続部とをワイヤにより確実に接続できる。
なお、一般には、ワイヤは、第一半導体チップの少なくとも一辺に沿って複数本配置されるので、スペーサの被覆部の最外周縁のうち、少なくとも、第一半導体チップのワイヤが設けられた辺に沿った一辺の高さが、ワイヤの頂点よりも低ければよい。
はじめに、図1を参照して、本実施形態の半導体装置1の概要について説明する。
本実施形態の半導体装置1は、第一半導体チップ11と、この第一半導体チップ11の下方に設置され、第一半導体チップ11を支持する支持体12と、第一半導体チップ11上に固着されるスペーサ13と、第一半導体チップ11よりも下方に位置し、第一半導体チップ11に対しワイヤ14を介して電気的に接続される被接続部(基板15)とを有する。
第一半導体チップ11の周縁部の少なくとも一部は、支持体12の周縁部よりも側方に突出したオーバーハング部111とされている。
スペーサ13には、オーバーハング部111上面の一部を覆う被覆部131が形成されている。
ワイヤ14は、オーバーハング部111上面のうち、スペーサ13の被覆部131の最外周縁の側方であって、スペーサ13の被覆部131により被覆されていない領域に接続される。
第一半導体チップ11上面を基準とした場合のワイヤ14の頂点の高さH1が、スペーサ13の被覆部131の最外周縁のうち少なくともワイヤ14が側方に配置されている部分の前記基準からの高さH2よりも高い。
ここで、図1は、第一半導体チップ11の上面と直交し、かつ、ワイヤ14の第一半導体チップ11との接続点およびワイヤ14の基板15との接続点を通る断面図である。
半導体装置1は、前述した第一半導体チップ11、支持体12、スペーサ13、ワイヤ14、被接続部15に加えて、第二半導体チップ16、ワイヤ17を有する。
被接続部15は、本実施形態では基板であり、この基板15上に、第二半導体チップ16、支持体12、第一半導体チップ11、スペーサ13がこの順番で積層されている。
ここで、基板15は、インターポーザーや、フレキシブル配線基板等である。
第二半導体チップ16の上面周縁部(第二半導体チップ16の支持体12よりも突出した部分)と、基板15とはワイヤ17(たとえば、金線)により接続されている。
この第二半導体チップ16の直上には支持体12が配置されている。
基板15の基板面側からの平面視において、支持体12は平面矩形形状であり、支持体12の平面の大きさは、第二半導体チップ16の平面の大きさよりも小さい。第二半導体チップ16の周縁部が支持体12の周縁部よりも側方(基板15の基板面に沿った方向)に突出している。換言すると、第二半導体チップ16の各辺が支持体12の各辺よりも側方に突出している。
この第二半導体チップ16の突出部分に、前述したワイヤ17が接続されている。
この第一半導体チップ11の厚みはたとえば、200μm以下であることが好ましい。
基板15の基板面側からの平面視において、第一半導体チップ11は平面矩形形状であり、第一半導体チップ11の平面の大きさは、支持体12の平面の大きさよりも大きい。第一半導体チップ11の周縁部の少なくとも一部は、支持体12の周縁部よりも側方(基板15の基板面に沿った方向)に突出している。本実施形態では、第一半導体チップ11の周縁部の全周が、支持体12の周縁部よりも側方に突出している。換言すると、第一半導体チップ11の各辺が、支持体12の各辺の側方に突出している。
また、基板15の基板面側からの平面視において、第一半導体チップ11の平面の大きさは、第二半導体チップ16の平面の大きさと同じである。
従って、第一半導体チップ11の周縁部を構成する各辺はそれぞれ4つのオーバーハング部111となっており、オーバーハング部111と、第二半導体チップ16の周縁部との間には空隙が形成されている。
4つのオーバーハング部111のうち、対向する2つのオーバーハング部111の突出方向先端部には、ワイヤ14が接続される。
本実施形態では、第一半導体チップ11には4つのオーバーハング部111が形成されており、4つのオーバーハング部111は、矩形枠を構成する。
このスペーサ13は、たとえば、シリコンの板材である。スペーサ13は電磁波を遮蔽する部材で構成されていることが好ましい。さらに、スペーサ13は金属製であることが好ましい。
スペーサ13は、その周縁部から中心部まで厚みが均一である平板状である。このスペーサ13の厚みは、たとえば、200μm以下であることが好ましい。なかでも100μm以下であることが特に好ましい。
このようなスペーサ13は基板15の基板面側からの平面視において、平面矩形形状であり、スペーサ13は、接着剤等を介して第一半導体チップ11上面に固着されている。
第一半導体チップ11の周縁部の一部は、スペーサ13の周縁部よりも側方に突出している。本実施形態では、第一半導体チップ11の周縁部を構成する4つの辺のうち、対向する2辺は、スペーサ13の周縁部を構成する2辺よりも側方に突出している。なお、第一半導体チップ11の周縁部を構成する4つの辺のうち、対向する他の2辺は、スペーサ13の周縁部を構成する他の2辺から突出していない。
なお、スペーサ13の周縁部を構成する4本の辺のうち、対向する他の2辺は、オーバーハング部111全面を被覆する被覆部132である。この被覆部132は、オーバーハング部111よりも側方に突出している。
本実施形態では、スペーサ13の各辺は、矩形枠状のオーバーハング部111それぞれの辺の上面に位置している。
ワイヤ14は、オーバーハング部111上面のうち、スペーサ13の被覆部131の最外周縁の側方であって、スペーサ13の被覆部131により被覆されていない領域、本実施形態では、オーバーハング部111の突出方向先端部に接続されている。
そして、第一半導体チップ11上面を基準とした場合のワイヤ14の頂点の高さH1(ワイヤ14の最大高さ)が、スペーサ13の被覆部131の最外周縁のうちワイヤ14が側方に配置されている部分の基準からの高さH2よりも高い。
ワイヤ14は、第一半導体チップ11の対向する2辺に沿って所定の間隔で配置されているため、本実施形態では、スペーサ13の被覆部131の最外周縁のうち、第一半導体チップ11のワイヤ14が配置された辺に沿った一辺の高さが、ワイヤ14の頂点よりも低ければよい。
なお、本実施形態では、スペーサ13は平板状であるため、ワイヤ14の頂点が、スペーサ13の上面よりも上方に位置することとなる。
ここで、たとえば、第一半導体チップ11の上面からワイヤ14の頂点の高さH1が100μmである場合、スペーサ13の第一半導体チップ11上面からの厚みH2は50μmとする。
スペーサ13は、第一半導体チップ11上に配置されており、スペーサ13の被覆部131は、第一半導体チップ11のオーバーハング部111の一部を覆っている。第一半導体チップ11上面は、スペーサ13に固着されているため、オーバーハング部111が上面側からスペーサ13の被覆部131により上方に引っ張られることとなる。そのため、第一半導体チップ11のオーバーハング部111が下方に撓んでしまうことを抑制することができ、第一半導体チップ11のそりの発生を抑制することができる。
これに加え、本実施形態では、ワイヤ14の最大高さ位置であるワイヤ14の頂点の高さH1が、スペーサ13の被覆部131の高さH2よりも高い。
このようなワイヤ14を形成することで、ワイヤ14を設ける際に、ワイヤ14やワイヤ14を保持するキャピラリと、スペーサ13との干渉を防止できる。
すなわち、図3に示すように、ワイヤ14を設ける際には、キャピラリおよびワイヤ14は、一点鎖線Aで示したような軌跡を描く。この場合には、キャピラリやワイヤ14はスペーサ13と干渉しない。
これに対し、前述したように、従来のような構成の半導体装置900では、キャピラリやワイヤ906が保持板905と干渉してしまう。従来の半導体装置900において、キャピラリやワイヤ906と保持板905との干渉を防止するためには、図18に示したように、保持板905の端部を除去すればよい。しかしながら、この場合には、オーバーハング部を保持板905で被覆できなくなり、半導体チップ904のそりを抑制することが困難となる可能性がある。
本実施形態では、第一半導体チップ11のオーバーハング部111をスペーサ13の被覆部131で被覆すると同時に、ワイヤ14の頂点の高さ位置を、スペーサ13の被覆部131の最外周縁のうち、すくなくともワイヤ14が側方に配置された部分の高さ(本実施形態では、被覆部131全体の高さ)よりも高くすることで、第一半導体チップ11のそりを抑制することができる。
特に、本実施形態では、スペーサ13の被覆部131は、オーバーハング部111の突出寸法の1/3以上を覆っているので、より確実にオーバーハング部111の反りの発生を抑制することができる。
これに加え、スペーサ13は、第一半導体チップ11の上面の2/3以上を被覆しているので、第一半導体チップ11全体での反りの発生も抑制することができる。
すなわち、被接続部を基板15ではなく、たとえば、リードフレームとした場合には、ワイヤ14の本数に応じてリードフレームを設ける必要があるが、リードフレームの設置本数には限界がある。これに対し、基板15を使用することで、より多数のワイヤ14により、基板15と第一半導体チップ11とを接続することが可能となる。
これにより、ワイヤ14の接合不良の発生を抑制するこができる。
図4を参照して、本発明の第二実施形態について説明する。
前記実施形態では、スペーサ13は平板状であった。
これに対し、本実施形態では、スペーサ23は、周縁部に段差部230が形成されたものとなっている。スペーサの形状以外の点においては、本実施形態の半導体装置2は、前記実施形態の半導体装置1と同じである。
なお、図4は、第一半導体チップ11の上面と直交し、かつ、ワイヤ14の第一半導体チップ11との接続点およびワイヤ14の基板15との接続点を通る断面図である。
第一スペーサ部231は接着剤等を介して第一半導体チップ11上面に固着される。この第一スペーサ部231は平板状であり、第一スペーサ部231の第一半導体チップ11上面からの高さ寸法は、ワイヤ14の頂点の高さ寸法よりも低くなっている。
この第一スペーサ部231の周縁部(本実施形態では、第一スペーサ部231の各辺)は、オーバーハング部111上に位置している。
また、図示しないが、平面視において第一スペーサ部231の対向する他の一対の辺それぞれは、第二スペーサ部232の対向する他の一対の辺それぞれと同位置にある。
第二スペーサ部232の第一半導体チップ11上面からの高さ寸法は、ワイヤ14の頂点の高さ寸法よりも高くなっている。
この第一スペーサ部231の第二スペーサ部232よりも側方に突出した周縁部の上面と、第二スペーサ部232の周縁部先端面とで前述した段差部230が構成される。
換言すると、この第一スペーサ部231の第二スペーサ部232よりも側方に突出した前記一対の辺と、第二スペーサ部232の前記一対の辺とで、一対の段差部230が構成される。
この段差部230は、オーバーハング部111上に位置しており、段差部230を構成する第二スペーサ部232の2辺は、それぞれオーバーハング部111を被覆している。
従って、本実施形態では、第一スペーサ部231の周縁部の一部と、第二スペーサ部232の周縁部の一部とで被覆部233が構成される。
なお、本実施形態では第一スペーサ部231および第二スペーサ部232は別体とされていたが、これに限らず、図5に示すように、第一スペーサ部231と第二スペーサ部232とが一体成形されていてもよい。
また、前記実施形態と同様、被覆部233は、オーバーハング部111の突出寸法の1/3以上を覆うとともに、スペーサ23は第一半導体チップ11の上面の2/3以上を被覆する。さらには、スペーサ23の最大厚み(すなわち、第一スペーサ部231の厚みと第二スペーサ部232の厚みの合計)は200μm以下である。
本実施形態では、スペーサ23の段差部230は、オーバーハング部111上に位置しており、第二スペーサ部232の周縁部は、オーバーハング部111を被覆している。
従って、オーバーハング部111の一部は、第一スペーサ部231と、第二スペーサ部232とで被覆され、スペーサ23の厚みのあつい部分で被覆されることとなる。従って、オーバーハング部111が下方にたわんでしまうのを第一スペーサ部231,第二スペーサ部232で確実に抑制することができる。
このようにすることで、上方に向かってキャピラリの移動スペースを徐々に広く確保することができる。これにより、スペーサ23の周縁部先端と、ワイヤ14の接続点とを接近させても、キャピラリがスペーサ23と干渉してしまうことを防止できる。
さらには、図8に示すように、スペーサ23の露出した上面に放熱板Sを設置して、放熱効率をさらに高めてもよい。
図9を参照して、本実施形態の半導体装置3について説明する。図9は、第一半導体チップ11の上面と直交し、かつ、ワイヤ14の第一半導体チップ11との接続点およびワイヤ14の基板15との接続点を通る断面図である。
半導体装置3は、スペーサ33が断面台形形状となっている。
スペーサの形状以外の点については、前記各実施形態と同様である。
スペーサ33は、基板15の基板面側から平面視した場合において、平面矩形形状であり、また、基板15の基板面と直交する方向の断面が台形形状となっている。
このスペーサ33は、スペーサ33の上面の面積が、底面の面積よりも小さく、上面の各辺よりも底面の各辺が側方(外方)に突出している。そして、上面の各辺から、底面の各辺(最外周縁)に向かって傾斜した傾斜面が形成されている。
スペーサ33の周縁部の4辺のうち、対向する2辺は、対向する2つのオーバーハング部111の一部を被覆する被覆部331となっているため、被覆部331には、スペーサ33上面側から最外周縁に向かって高さが低くなる傾斜面が形成されていることとなる。
被覆部331の最外周縁の側方(傾斜面の側方)には、ワイヤ14が配置されている。
従って、傾斜面は、スペーサ33の上面からワイヤ14の第一半導体チップ11との接続点に向かって傾斜し、高さが低くなっているといえる。
なお、スペーサ33の周縁部の4辺のうち、対向する他の2辺は、対向する他の2つのオーバーハング部111の全面を被覆している。
また、前記実施形態と同様、被覆部331は、オーバーハング部111の突出寸法の1/3以上を覆うとともに、スペーサ33は第一半導体チップ11の上面の2/3以上を被覆する。さらには、スペーサ33の最大厚みは200μm以下である。
通常、リバース動作は、段階的にキャピラリをスペーサ側に移動させる。従って、上方に行くにしたがい、移動スペースが広く必要となる。
本実施形態では、スペーサ33の周縁部に、ワイヤ14の第一半導体チップ11との接続点に向かって高さが低くなる傾斜面を形成し、スペーサ33を断面台形形状としている。すなわち、第一半導体チップ11上面と直交し、ワイヤ14と第一半導体チップ11との接続点を通る断面において、ワイヤ14と第一半導体チップ11との接続点を通り、第一半導体チップ11上面と直交する垂線と、ワイヤ14が側方に配置された被覆部331との距離が被覆部331下方側から上方側に向かって大きくなっているといえる。具体的には、図10に示すように、距離L1よりもL2の方がおおきくなっており、上方に向かってキャピラリの移動スペースを徐々に広く確保することができる。そのため、スペーサ33の周縁部先端と、ワイヤ14の接続点とを接近させても、キャピラリがスペーサ33と干渉してしまうことを防止できる。
従って、スペーサ33のオーバーハング部111の被覆面積を大きく確保することができ、オーバーハング部111の反りの発生を抑制できる。
さらには、図12に示すように、スペーサ33の露出した上面に放熱板Sを設置して、放熱効率をさらに高めてもよい。
図13を参照して、本実施形態について説明する。ここで、図13は、第一半導体チップ11の上面と直交し、かつ、ワイヤ14の第一半導体チップ11との接続点およびワイヤ14の基板15との接続点を通る断面図である。
本実施形態の半導体装置4は、スペーサ13にかえて、2つのスペーサ43、44を有する。
第一実施形態では、スペーサ13は、その周縁部全周がオーバーハング部111上面を被覆していた。
これに対し、本実施形態のスペーサ43、44は、周縁部の一部のみがオーバーハング部111が上面を被覆している。
スペーサ43,44は離間配置されており、スペーサ44は半導体チップ(第三半導体チップ)である。
スペーサ44の被覆部のうち、1つの被覆部は、オーバーハング部111の一部を覆う被覆部441であり、この被覆部441の側方にワイヤ14が配置されている。
このスペーサ44は中心部から周縁部にむかって厚みが均一である平板状であり、スペーサ44の厚みはワイヤ14の第一半導体チップ11上面からの最大高さ(ワイヤ14の頂点の高さ)よりも小さくなっている。
スペーサ43の被覆部のうち、1つの被覆部は、オーバーハング部111の一部を覆う被覆部431であり、この被覆部431の側方にワイヤ14が配置されている。
このスペーサ43も中心部から周縁部にむかって厚みが均一である平板状であり、スペーサ43の厚みはワイヤ14の第一半導体チップ11上面からの最大高さ(ワイヤ14の頂点の高さ)よりも小さくなっている。
なお、スペーサ43は、配線としての機能を有しており、スペーサ44は、スペーサ43を介して基板15に接続されている。
具体的にはスペーサ44とスペーサ43とをワイヤ40Aで接続し、さらにスペーサ43を基板15にワイヤ40Bを介して接続している。
ここで、スペーサ43は具体的にはシリコンウェハ等の半導体ウェハに配線を形成したものである。
このような本実施形態によれば、第一実施形態と同様の効果を奏することができる。
なお、また、前記実施形態と同様、被覆部431、441は、オーバーハング部111の突出寸法の1/3以上を覆うとともに、スペーサ43、44により、第一半導体チップ11の上面の2/3以上が被覆される。さらには、スペーサ43、44の最大厚みは200μm以下である。
前記各実施形態では第一半導体チップ11を、ワイヤ14を介して基板15と接続したが、これに限らず、たとえば、第一半導体チップと、被接続部としてのリードフレームとをワイヤを介して接続してもよい。
さらに、前記各実施形態では、基板15と、第二半導体チップ16とをワイヤ17を介して接続していたが、これに限らず、図14に示すように、第二半導体チップ16の裏面にバンプBを設け、第二半導体チップ16と基板15とをバンプBを介して接続してもよい。この場合には第二半導体チップ16が第一半導体チップ11を支持する支持体となる。
同様に、第三実施形態においても、スペーサ33の上面の各辺から、底面の各辺(最外周縁)に向かって傾斜した傾斜面が形成されていたが、これに限らず、ワイヤ14が側方に配置される2辺にのみ傾斜面を形成してもよい。
しかしながら、これに限らず、たとえばワイヤが複数本配置されないような場合には、スペーサの被覆部の最外周縁のうち少なくともワイヤが側方に配置されている部分の高さがワイヤの頂点よりも低ければよい。
ここで、スペーサの被覆部の最外周縁のうちワイヤが側方に配置されている部分とは、図15に示すように、半導体装置を半導体チップ上面側から平面視した場合において、被覆部の最外周縁のうち、ワイヤの半導体チップとの接続点Dおよび被接続部との接続点Cを結ぶ直線の延長線L3がぶつかる部分(図15の点線で囲まれた部分)を含み、ワイヤやキャピラリがリバース動作できる範囲(たとえば、少なくとも接続点Dから0.1mmの範囲内、好ましくは0.2mm以上の範囲内)であればよい。すなわち、ワイヤの半導体チップとの接続点Dおよび被接続部との接続点Cを結ぶ直線の延長線L3がぶつかる部分の高さ寸法およびワイヤやキャピラリがリバース動作する範囲内の高さ寸法が、ワイヤの頂点よりも低い必要がある。
なお、上記実施形態には以下の発明が開示されている。
(付記1)
第一半導体チップと、
この第一半導体チップの下方に設置され、前記第一半導体チップを支持する支持体と、
前記第一半導体チップ上に固着されるスペーサと、
前記第一半導体チップよりも下方に位置し、前記第一半導体チップに対しワイヤを介して電気的に接続される被接続部とを有し、
前記第一半導体チップの周縁部の少なくとも一部は、前記支持体の周縁部よりも側方に突出したオーバーハング部とされ、
前記スペーサには、前記オーバーハング部上面の一部を覆う被覆部が形成され、
前記ワイヤは、前記オーバーハング部上面のうち、前記スペーサの前記被覆部の最外周縁の側方であって、前記スペーサの前記被覆部により被覆されていない領域に接続され、
前記第一半導体チップ上面位置を基準とした場合の前記ワイヤの頂点の高さが、前記スペーサの前記被覆部の最外周縁のうち少なくとも前記ワイヤが側方に配置されている部分の前記基準からの高さよりも高い半導体装置。
(付記2)
付記1に記載の半導体装置において、
前記スペーサは、平板状であり、
前記スペーサの周縁部の少なくとも一部が、前記オーバーハング部を覆う前記被覆部とされ、
前記ワイヤの前記頂点の高さが、前記スペーサ上面の前記基準からの高さよりも高い半導体装置。
(付記3)
付記1に記載の半導体装置において、
前記第一半導体チップ上面と直交する断面において、
前記ワイヤと前記第一半導体チップとの接続点を通り、前記第一半導体チップ上面と直交する垂線と、
前記被覆部との距離が、前記被覆部下方側から上方側に向かって大きくなる半導体装置。
(付記4)
付記3に記載の半導体装置において、
前記スペーサは、前記第一半導体チップ上に設置され、その上面の前記基準に対する高さが前記ワイヤの頂点の高さよりも低い第一スペーサ部と、
この第一スペーサ部上に設置される第二スペーサ部とを有し、
前記第一スペーサ部の周縁部のうち少なくとも一部は、前記第二スペーサ部の周縁部よりも側方に突出するとともに、前記被覆部を構成し、
前記第一スペーサ部の前記周縁部の少なくとも一部と前記第二スペーサ部の周縁部とで段差部が形成され、
この段差部の側方に前記ワイヤが配置されている半導体装置。
(付記5)
付記4に記載の半導体装置において、
前記段差部を構成する前記第二スペーサ部の周縁部は、前記オーバーハング部上に位置し、前記第一スペーサ部の前記段差部を構成する周縁部とともに前記被覆部を構成する半導体装置。
(付記6)
付記3に記載の半導体装置において、
前記スペーサの前記被覆部には、前記スペーサ上面側から前記最外周縁に向かって傾斜した傾斜面が形成されており、
前記傾斜面の側方に前記ワイヤが配置されている半導体装置。
(付記7)
付記3乃至6のいずれか1つに記載の半導体装置において、
当該半導体装置は、樹脂により封止されており、
前記スペーサの上面が前記樹脂から露出している半導体装置。
(付記8)
付記7に記載の半導体装置において、
前記スペーサ上には放熱板が設置されている半導体装置。
(付記9)
付記1乃至8のいずれか1つに記載の半導体装置において、
第二半導体チップと、
この第二半導体チップ上に設置される前記支持体とを有し、
前記第二半導体チップの周縁部の少なくとも一部は、前記支持体の周縁部よりも側方に突出し、
前記第二半導体チップの前記支持体よりも突出した領域と、前記被接続部とがワイヤ接続されている半導体装置。
(付記10)
付記1乃至9のいずれか1つに記載の半導体装置において、
前記オーバーハング部の突出方向先端部は、前記スペーサの前記被覆部よりも側方に突出し、
前記スペーサの前記被覆部は、前記オーバーハング部の前記支持体からの突出寸法の1/3以上を覆い、
前記スペーサは、前記第一半導体チップの上面の2/3以上を被覆する半導体装置。
(付記11)
付記1乃至10のいずれか1つに記載の半導体装置において、
前記第一半導体チップ上には、前記スペーサと、第三半導体チップとが設置され、
前記スペーサと前記被接続部とが電気的に接続されており、
前記第三半導体チップは、前記スペーサを介して前記被接続部に電気的に接続されている半導体装置。
(付記12)
付記1乃至11のいずれか1つに記載の半導体装置において、
前記スペーサの最大厚みは200μm以下である半導体装置。
(付記13)
付記1乃至12のいずれか1つに記載の半導体装置において、
前記第一半導体チップの厚みは200μm以下である半導体装置。
(付記14)
付記1乃至13のいずれか1つに記載の半導体装置において、
前記被接続部は基板である半導体装置。
2 半導体装置
3 半導体装置
4 半導体装置
11 第一半導体チップ
12 支持体
13 スペーサ
14 ワイヤ
15 基板(被接続部)
16 第二半導体チップ
17 ワイヤ
23 スペーサ
33 スペーサ
40A ワイヤ
40B ワイヤ
43 スペーサ
44 スペーサ
111 オーバーハング部
131 被覆部
132 被覆部
230 段差部
231 第一スペーサ部
232 第二スペーサ部
233 被覆部
331 被覆部
431 被覆部
441 被覆部
900 半導体装置
901 半導体チップ
902 ダイパッド
903 スペーサ
904 半導体チップ
905 保持板
906 ワイヤ
907 キャピラリ
B バンプ
C 接続点
D 接続点
R 樹脂
S 放熱板
Claims (12)
- 第一半導体チップと、
この第一半導体チップの下方に設置され、前記第一半導体チップを支持する支持体と、
前記第一半導体チップ上に固着されるスペーサと、
前記第一半導体チップよりも下方に位置し、前記第一半導体チップに対しワイヤを介して電気的に接続される被接続部とを有し、
前記第一半導体チップの周縁部の少なくとも一部は、前記支持体の周縁部よりも側方に突出したオーバーハング部とされ、
前記スペーサには、前記オーバーハング部上面の一部を覆う被覆部が形成され、
前記ワイヤは、前記オーバーハング部上面のうち、前記スペーサの前記被覆部の最外周縁の側方であって、前記スペーサの前記被覆部により被覆されていない領域に接続され、
前記第一半導体チップ上面位置を基準とした場合の前記ワイヤの頂点の高さが、前記スペーサの前記被覆部の最外周縁のうち少なくとも前記ワイヤが側方に配置されている部分の前記基準からの高さよりも高く、
前記第一半導体チップ上面と直交する断面において、
前記ワイヤと前記第一半導体チップとの接続点を通り、前記第一半導体チップ上面と直交する垂線と、
前記被覆部との距離が、前記被覆部下方側から上方側に向かって大きくなる半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記スペーサは、前記第一半導体チップ上に設置され、その上面の前記基準に対する高さが前記ワイヤの頂点の高さよりも低い第一スペーサ部と、
この第一スペーサ部上に設置される第二スペーサ部とを有し、
前記第一スペーサ部の周縁部のうち少なくとも一部は、前記第二スペーサ部の周縁部よりも側方に突出するとともに、前記被覆部を構成し、
前記第一スペーサ部の前記周縁部の少なくとも一部と前記第二スペーサ部の周縁部とで段差部が形成され、
この段差部の側方に前記ワイヤが配置されている半導体装置。 - 請求項2に記載の半導体装置において、
前記段差部を構成する前記第二スペーサ部の周縁部は、前記オーバーハング部上に位置し、前記第一スペーサ部の前記段差部を構成する周縁部とともに前記被覆部を構成する半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記スペーサの前記被覆部には、前記スペーサ上面側から前記最外周縁に向かって傾斜した傾斜面が形成されており、
前記傾斜面の側方に前記ワイヤが配置されている半導体装置。 - 請求項1乃至4のいずれか一項に記載の半導体装置において、
当該半導体装置は、樹脂により封止されており、
前記スペーサの上面が前記樹脂から露出している半導体装置。 - 請求項5に記載の半導体装置において、
前記スペーサ上には放熱板が設置されている半導体装置。 - 請求項1乃至6のいずれか一項に記載の半導体装置において、
第二半導体チップと、
この第二半導体チップ上に設置される前記支持体とを有し、
前記第二半導体チップの周縁部の少なくとも一部は、前記支持体の周縁部よりも側方に突出し、
前記第二半導体チップの前記支持体よりも突出した領域と、前記被接続部とがワイヤ接続されている半導体装置。 - 請求項1乃至7のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記オーバーハング部の突出方向先端部は、前記スペーサの前記被覆部よりも側方に突出し、
前記スペーサの前記被覆部は、前記オーバーハング部の前記支持体からの突出寸法の1/3以上を覆い、
前記スペーサは、前記第一半導体チップの上面の2/3以上を被覆する半導体装置。 - 請求項1乃至8のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記第一半導体チップ上には、前記スペーサと、第三半導体チップとが設置され、
前記スペーサと前記被接続部とが電気的に接続されており、
前記第三半導体チップは、前記スペーサを介して前記被接続部に電気的に接続されている半導体装置。 - 請求項1乃至9のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記スペーサの最大厚みは200μm以下である半導体装置。 - 請求項1乃至10のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記第一半導体チップの厚みは200μm以下である半導体装置。 - 請求項1乃至11のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記被接続部は基板である半導体装置。
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