JP4973762B2 - 磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 - Google Patents
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外径65mm、内径20mm、板厚0.635mmの磁気記録媒体用ガラス基板用に、フロート法で成形されたSiO2を主成分とするガラス基板をドーナツ状円形ガラス基板(中央部に円孔を有する円盤形状ガラス基板)に加工した。
端面加工後のガラス基板は、研磨具として硬質ウレタン製の研磨パッドと酸化セリウム砥粒を含有する研磨液(平均粒子直径、以下、平均粒径と略す、約1.3μmの酸化セリウムを主成分した研磨液組成物)を用いて、22B型両面研磨装置(スピードファム社製、製品名:DSM22B−6PV−4MH)により上下主平面を1次研磨した。
A1とA6:磁気記録媒体用ガラス基板の外径側領域の板厚、A2とA5:磁気記録媒体用ガラス基板の中間領域の板厚、A3とA4:磁気記録媒体用ガラス基板の内径側領域の板厚、
20:両面研磨装置、30:上定盤の研磨面、40:下定盤の研磨面、50:キャリア、201:上定盤、202:下定盤、203:サンギア、204:インターナルギア、
tp1:上定盤の内周端側の表面温度測定領域、tp2:上定盤の外周端側の表面温度測定領域、
D:定盤面内の任意の位置における上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離、D1:内周端側における上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離、D2:外周端側における上定盤の研磨面30と下定盤の研磨面40との距離、
501:ガラス基板保持穴、501A:内径側保持穴、501B:中間部保持穴、501C:外径側保持穴。
Claims (6)
- 板形状を有するガラス基板の形状付与工程と、前記ガラス基板の主平面の研削工程と、前記主平面の研磨工程と、前記ガラス基板の洗浄工程と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記研磨工程は、両面研磨装置の上定盤と下定盤の対向する面にそれぞれ研磨パッドを装着し、上定盤に装着した研磨パッドの研磨面と下定盤に装着した研磨パッドの研磨面との間に板形状を有するガラス基板を保持したキャリアを配置し、ガラス基板の両主平面に上定盤の研磨パッドの研磨面と下定盤の研磨パッドの研磨面を互いに押圧させた状態で、ガラス基板の主平面に研磨液を供給するとともに、ガラス基板と研磨面を相対的に動かして、ガラス基板の両主平面を同時に研磨するものであり、
前記上定盤及び前記下定盤は、内周端と外周端のある円盤形状を有し、
ガラス基板の両主平面を同時に研磨したときの上定盤の内周端側で測定した表面温度tp1と外周端側で測定した表面温度tp2との差Δtp(tp1−tp2)の絶対値が3℃以下、tp1≧tp2(tp1−tp2=0〜+3℃)であり、
前記上定盤の研磨パッドの研磨面と前記下定盤の研磨パッドの研磨面との研磨面間の距離Dは、上定盤と下定盤の内周端側の研磨面間の距離D1と外周端側の研磨面間の距離D2が、D2−D1=0〜+30μmである
ことを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記研磨工程において同一ロットで複数のガラス基板を研磨加工し、前記複数のガラス基板は前記研磨工程を経ることにより、ガラス基板間の板厚偏差が1.0μm以下とされる請求項1に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨工程を経ることにより得られるガラス基板は、前記磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域の中間部において、0°、90°、180°、270°の計4箇所の位置で測定した板厚の最大板厚値と最小板厚値の差(同一ガラス基板面内の板厚偏差)である平行度aが0.5μm以下とされる請求項1又は2のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨工程において同一ロットで複数のガラス基板を研磨加工し、前記複数のガラス基板は、前記平行度aの偏差が0.4μm以下とされる請求項3に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨工程を経ることにより得られるガラス基板は、レーザ干渉計を用いて測定した、少なくとも記録再生領域における両主平面の平行度bが0.6μm以下とされる請求項1〜4のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨工程において同一ロットで複数のガラス基板を研磨加工し、前記複数のガラス基板は、前記平行度bの偏差が0.4μm以下とされる請求項5に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010114142A JP4973762B2 (ja) | 2010-05-18 | 2010-05-18 | 磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010114142A JP4973762B2 (ja) | 2010-05-18 | 2010-05-18 | 磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011248628A Division JP2012033265A (ja) | 2011-11-14 | 2011-11-14 | 磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011243252A JP2011243252A (ja) | 2011-12-01 |
JP4973762B2 true JP4973762B2 (ja) | 2012-07-11 |
Family
ID=45409771
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010114142A Expired - Fee Related JP4973762B2 (ja) | 2010-05-18 | 2010-05-18 | 磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4973762B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5333563B2 (ja) * | 2011-11-10 | 2013-11-06 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス基板および磁気記録媒体 |
JP6337602B2 (ja) * | 2014-05-09 | 2018-06-06 | 旭硝子株式会社 | 研磨基板を製造する方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02274464A (ja) * | 1989-04-17 | 1990-11-08 | Nkk Corp | 半導体ウエハの研磨装置及び方法 |
JP2007136560A (ja) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Hamai Co Ltd | 平面研磨装置 |
JP5334428B2 (ja) * | 2008-03-10 | 2013-11-06 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
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2010
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011243252A (ja) | 2011-12-01 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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