JP4972207B2 - 広帯域uhfアンテナ用セラミック誘電体処方 - Google Patents

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Description

本発明は、セラミック誘電体材料に関する。特に、本発明は、望ましい組み合わせの固有の誘電率と損失係数が得られるようなUHFアンテナへの応用に適したセラミック誘電体材料に関するものである。
無線周波数(RF)用およびマイクロ波の周波数用のアンテナにおいては、幾つかの異なる誘電体セラミックスの使用が有望視されている。マイクロ波装置における誘電体使用の利点は、媒体中の電磁波の長さがその誘電率(λ〜1/√K)の平方根に反比例するという現象を利用して、アンテナのサイズを縮小できる点である。大半の商用マイクロ波材料の誘電率は、10以下から30〜40までの範囲、あるいは、80〜100までの範囲で可変であり、後者の場合には、アンテナや共振器を最大で10倍縮小できる。そのような材料の一部は、特許文献:US5840642、US5569632、KR20040051732、CN1519216、RU2167842、WO9721642、特開平3−192606、特開平3−183657、US4442220、に記載されており、ここでは、これらの特許文献の全てを引用により開示する。
しかしながら、30〜60cmの波長範囲のUHFドメイン(470MHz〜870MHz)においては、材料の誘電率について顕著な増加が要求されるため、10倍のサイズ縮小では不十分である。格段に高い誘電率(>1000)を有する材料は、強誘電体系をベースとしており、UHFにおいて、高い誘電損失と顕著な周波数依存性という特徴を有する。望ましいUHF周波数範囲450MHz〜900MHzに関して実行可能なUHFアンテナを形成するためには、アンテナの縮小化を可能とするために、妥当な組み合わせの誘電率と損失係数を誘電体に持たせなければならない。
UHFアンテナ等の用途に用いられる誘電体材料の改善が必要とされている。
したがって、本発明の第1の目的、特徴、あるいは効果は、この技術分野の状況を改善することである。
本発明の他の目的、特徴、あるいは効果は、UHFアンテナの用途に適した高特性の誘電体材料を提供することである。
本発明の他の目的、特徴、あるいは効果は、焼結時に特別な雰囲気制御を必要としないセラミック誘電体材料を提供することである。
本発明の他の目的、特徴、あるいは効果は、銀、ニオブ、タンタル等の高価な金属を使用しないセラミック誘電体材料を提供することである。
本発明の他の目的、特徴、あるいは効果は、比較的高い誘電率と低い誘電損失を有するセラミック誘電体材料を提供することである。
本発明のこれらの、あるいは他の目的、特徴、あるいは効果は、本明細書の以下の記載および請求の範囲から明らかである。
本発明の誘電体セラミック組成物は、1MHzにおいて、少なくとも200の誘電率(K)と、0.0006以下の誘電損失(DF)を有する。誘電体セラミック組成物は、雰囲気制御せずに空気中で焼成して焼結させることによって形成される。誘電体セラミック組成物は、92.49〜97.5wt%の主要成分として、60.15〜68.2wt%のチタン酸ストロンチウム、11.02〜23.59wt%のチタン酸カルシウム、および、7.11〜21.32wt%のチタン酸バリウムを含み、2.50〜7.51wt%の微量成分として、1.18〜3.55wt%のジルコン酸カルシウム、0.50〜1.54wt%の三酸化ビスマス、0.2〜0.59wt%のジルコニア、0.02〜0.07wt%の二酸化マンガン、0.12〜0.35wt%の酸化亜鉛、0.12〜0.35wt%の無鉛ガラスフリット、0.24〜0.71wt%のカオリン粘土、および、0.12〜0.35wt%の酸化セリウムを含む。この誘電体セラミック組成物は、広帯域UHFアンテナ、誘電体共振器、電気フィルタ、基板、モノリシックセラミック部品等において使用可能である。
本発明の製造方法は、セラミック誘電体材料の供給を含み、このセラミック誘電体材料は、92.49〜97.5wt%の主要成分として、60.15〜68.2wt%のチタン酸ストロンチウム、11.02〜23.59wt%のチタン酸カルシウム、および、7.11〜21.32wt%のチタン酸バリウムを含み、2.50〜7.51wt%の微量成分として、1.18〜3.55wt%のジルコン酸カルシウム、0.50〜1.54wt%の三酸化ビスマス、0.2〜0.59wt%のジルコニア、0.02〜0.07wt%の二酸化マンガン、0.12〜0.35wt%の酸化亜鉛、0.12〜0.35wt%の無鉛ガラスフリット、0.24〜0.71wt%のカオリン粘土、および、0.12〜0.35wt%の酸化セリウムを含む材料を主材料として構成される。この方法はさらに、このセラミック誘電体材料の焼成を含む。
本発明のセラミック誘電体材料の異なる例における誘電率と誘電損失を示すグラフである。 本発明のセラミック誘電体処方により形成されたUHFアンテナの一形態を示す図である。
本発明は、焼結してセラミック基板を生成した場合に、高い誘電率(>200)と低損失(<0.00060(1MHz))を有する材料を提供可能なセラミック処方を提供するものである。チューナ回路要素と組み合わせた場合に、この基板は、有効な広帯域UHFアンテナとなる。また、国際出願公報WO9803446に記載されているAg(Nb,Ta)O3系とは異なり、本発明は、焼結中の雰囲気制御を必要とすることもなく、銀、ニオブ、タンタル等の高価な金属を使用するものでもない。
SrTiO3−BaTiO3−CaTiO3系のセラミック処方の示量性の調査によって、広帯域UHFアンテナ用としての特性について妥当な組み合わせを示す処方範囲が明らかとなった。調査した組成物を以下の表1に示す。
Figure 0004972207
これらのセラミック組成物を、この技術分野の周知の方法により処方してセラミックスリップとし、鋳造して基板を生成した。焼成処理において有機物を除去した後、最終的な焼結処理を、大気中で、(他の温度についても調査したが)1270℃と1250℃の温度でそれぞれ行った。1MHzでの誘電特性を測定したところ、表2に示す結果が得られた。
Figure 0004972207
この2つの異なる焼成温度において、誘電率(K)は非常に類似しており、誘電損失(DF)の差も小さい。静電容量温度係数(TCC: temperature coefficient of capacitance)もまた、両方の焼成温度において類似している。これらの組成物の静電容量温度係数(TCC)が、「Class 1 C0G」の積層コンデンサ処方(−55℃〜+125℃の温度範囲で±30ppm/℃)または狭帯域マイクロ波アンテナに比較して、非常に高いことは重要である。積層コンデンサまたは狭帯域アンテナの場合、温度揺らぎによる規格からのドリフトを防止するために、安定した温度特性が要求される。しかし、これらのセラミックは、広い周波数帯域用のUHFアンテナにおいて使用されるため、温度安定性はそれほど重要ではなく、より高い静電容量温度係数(TCC)が許容可能である。
低損失を保持する一方でアンテナを小型化するためには、低損失を保持しながら誘電率を最大化しなければならない。図1は、複数の実施例の誘電率(K)と誘電損失(DF)を示すグラフである。表2に記載された誘電率(K)と誘電損失(DF)をグラフ化したことによって、誘電体処方(セラミック組成物)B,C,Dのみが、300以上の誘電率(K)と0.0005以下の誘電損失(DF)を有することが分かる。
図2は、セラミック誘電体処方により形成されたUHFアンテナの一形態を示す図である。UHFアンテナ10は、前述したようなセラミック組成物を焼結して生成したセラミック基板12を含む。UHFアンテナ10はまた、チューナ回路要素14を含む。このUHFアンテナ10は、電子機器16に組み込まれる。
本発明のセラミック誘電体材料は、UHFアンテナの用途に加えて、他の目的でも使用可能である。例えば、誘電体共振器、フィルタ、マイクロエレクトロニクス回路基板、あるいは、各種の電子機器に対する組み込み用として使用可能である。
本発明は、上記の具体的な開示内容に限定されるものではない。本発明の範囲内で、誘電体セラミック組成物の処方や特定の応用、誘電体セラミック組成物を組み込んだモノリシックセラミック部品の種別、UHFアンテナを組み込んだ電子機器の種別等について、多種多様な変形例が考えられる。
10…UHFアンテナ
12…セラミック基板
14…チューナ回路要素
16…電子機器

Claims (13)

  1. 1MHzにおいて、少なくとも200の誘電率(K)と、0.0006以下の誘電損失(DF)を有する誘電体セラミック組成物であって、
    92.49〜97.5wt%の主要成分として、
    60.15〜68.2wt%のチタン酸ストロンチウム、
    11.02〜23.59wt%のチタン酸カルシウム、および、
    7.11〜21.32wt%のチタン酸バリウム
    を含み、
    2.50〜7.51wt%の微量成分として、
    1.18〜3.55wt%のジルコン酸カルシウム、
    0.50〜1.54wt%の三酸化ビスマス、
    0.2〜0.59wt%のジルコニア、
    0.02〜0.07wt%の二酸化マンガン、
    0.12〜0.35wt%の酸化亜鉛、
    0.12〜0.35wt%の無鉛ガラスフリット、
    0.24〜0.71wt%のカオリン粘土、および、
    0.12〜0.35wt%の酸化セリウム
    を含むことを特徴とする誘電体セラミック組成物。
  2. 前記誘電体セラミック組成物を焼成して焼結体を形成したことを特徴とする請求項1に記載の誘電体セラミック組成物。
  3. 請求項1に記載の誘電体セラミック組成物から構成されたことを特徴とする広帯域UHFアンテナ。
  4. 請求項3に記載の広帯域UHFアンテナを有することを特徴とする電子機器。
  5. 1MHzにおいて、少なくとも300の誘電率(K)と、0.0005以下の誘電損失(DF)を有することを特徴とする請求項1に記載の誘電体セラミック組成物。
  6. 請求項1に記載の誘電体セラミック組成物から構成されたことを特徴とするモノリシックセラミック部品。
  7. 92.49〜97.5wt%の主要成分として、
    60.15〜68.2wt%のチタン酸ストロンチウム、
    11.02〜23.59wt%のチタン酸カルシウム、および、
    7.11〜21.32wt%のチタン酸バリウム
    を含み、
    2.50〜7.51wt%の微量成分として、
    1.18〜3.55wt%のジルコン酸カルシウム、
    0.50〜1.54wt%の三酸化ビスマス、
    0.2〜0.59wt%のジルコニア、
    0.02〜0.07wt%の二酸化マンガン、
    0.12〜0.35wt%の酸化亜鉛、
    0.12〜0.35wt%の無鉛ガラスフリット、
    0.24〜0.71wt%のカオリン粘土、および、
    0.12〜0.35wt%の酸化セリウム
    を含む材料を主材料として構成されるセラミック誘電体材料を供給する供給処理と、
    前記セラミック誘電体材料を焼成する焼成処理
    を有することを特徴とするセラミック誘電体材料の製造方法。
  8. 前記セラミック誘電体材料を焼成する焼成処理において、該セラミック誘電体材料を焼成して焼結することで基板を生成することを特徴とする請求項7に記載のセラミック誘電体材料の製造方法。
  9. 前記基板を広帯域UHFアンテナに結合したことを特徴とする請求項8に記載のセラミック誘電体材料の製造方法。
  10. 前記セラミック誘電体材料は、1MHzにおいて、少なくとも200の誘電率(K)と、0.0006以下の誘電損失(DF)を有することを特徴とする請求項7に記載のセラミック誘電体材料の製造方法。
  11. 前記セラミック誘電体材料は、1MHzにおいて、少なくとも300の誘電率(K)と、0.0005以下の誘電損失(DF)を有することを特徴とする請求項7に記載のセラミック誘電体材料の製造方法。
  12. 前記セラミック誘電体材料からモノリシックセラミック部品を形成することを特徴とする請求項7に記載のセラミック誘電体材料の製造方法。
  13. 前記セラミック誘電体材料を焼成する焼成処理は、前記セラミック誘電体材料を焼成して焼結体を形成する処理を含むことを特徴とする請求項7に記載のセラミック誘電体材料の製造方法。
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