JP4971703B2 - Polyester film for organic EL display substrate and gas barrier laminated polyester film for organic EL display substrate comprising the same - Google Patents

Polyester film for organic EL display substrate and gas barrier laminated polyester film for organic EL display substrate comprising the same Download PDF

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Description

本発明は、ガスバリア加工用ポリエステルフィルム及びそれからなるガスバリア性積層ポリエステルフィルムに関する。更に詳しくは、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に塗膜層を有し、基材層、平坦化層及びガスバリア層との接着性を高めることによってガスバリア性に優れ、かつ高透明なガスバリア加工用ポリエステルフィルム、及びそれからなるガスバリア性積層ポリエステルフィルム、ならびにそれを用いた有機ELディスプレイ基板および電子ペーパー基板に関するものである。   The present invention relates to a polyester film for gas barrier processing and a gas barrier laminated polyester film comprising the same. More specifically, the polyester film has a coating layer on at least one side of the polyester film, and is excellent in gas barrier properties by enhancing the adhesion with the base material layer, the flattening layer and the gas barrier layer, and a highly transparent polyester film for gas barrier processing, And a gas barrier laminated polyester film comprising the same, and an organic EL display substrate and an electronic paper substrate using the same.

ポリエステルフィルム、特にポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートの二軸延伸フィルムは、優れた機械的性質、耐熱性、耐薬品性を有するため、磁気テープ、強磁性薄膜テープ、写真フィルム、包装用フィルム、電子部品用フィルム、電気絶縁フィルム、金属ラミネート用フィルム、ガラスディスプレイ等の表面に貼るフィルム、各種部材の保護用フィルム等の素材として広く用いられている。   Polyester films, especially biaxially stretched films of polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, have excellent mechanical properties, heat resistance, and chemical resistance. Therefore, magnetic tape, ferromagnetic thin film tape, photographic film, packaging film, electronic parts It is widely used as a material such as a film for electrical use, an electrical insulation film, a film for metal lamination, a film attached to the surface of a glass display, and a protective film for various members.

液晶ディスプレイに代表される画像表示装置には、従来ガラス基板が用いられてきた。近年、画像表示装置は、より一層の薄型化、軽量化、大画面化、形状の自由度、曲面表示などが求められており、重くて割れやすいガラス基板に代えて、高透明な高分子フィルム基板が検討されるようになってきた。   Conventionally, a glass substrate has been used for an image display device represented by a liquid crystal display. In recent years, image display devices have been required to be thinner, lighter, larger in screen size, freedom of shape, curved surface display, etc., and instead of heavy and fragile glass substrates, highly transparent polymer films Substrates have been considered.

また、液晶ディスプレイはバックライトを採用せざるを得ないため、多くの部材を使用する必要があるのに対し、有機ELに代表される自発光素子はより少ない部材で対応できることから積極的に開発が進められている。かかる有機ELディスプレイ用途においても、ガラスの欠点のひとつである割れ易さや重さを改良し、またフレキシブル化の要求が高まってきている。そこで、高分子フィルム基板としてポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート、ポリカーボネートを含む様々な熱可塑性樹脂が検討されている。これら高分子フィルム基板は、ガラス基板に較べて一般にガスや水蒸気を透過しやすい。そのため、高いガスバリア性が必要とされる有機ELを含む各種の画像表示装置において、高分子フィルム基板を適用するために、高分子フィルム基板上にさらにガスバリア性を高める層を積層することが検討されており、具体的には材質や膜厚、積層構成などが種々検討されている。   In addition, the liquid crystal display must employ a backlight, so it is necessary to use a large number of members, while the self-luminous elements represented by organic EL can be handled with fewer members and are actively developed. Is underway. In such organic EL display applications, there is an increasing demand for improving flexibility and weight, which are one of the drawbacks of glass, and for increasing flexibility. Accordingly, various thermoplastic resins including polypropylene, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, and polycarbonate have been studied as polymer film substrates. These polymer film substrates are generally more permeable to gas and water vapor than glass substrates. Therefore, in various image display devices including organic ELs that require high gas barrier properties, in order to apply the polymer film substrate, it is considered to stack a layer that further enhances the gas barrier property on the polymer film substrate. Specifically, various materials, film thicknesses, laminated structures, and the like have been studied.

例えば特許文献1では特定のケイ素系化合物とポリビニルアルコール系ポリマーからなる硬化ポリマー層が提案されている。また、例えば特許文献2には、透明性に優れ、ハードコートや粘着剤への接着性に優れる塗布層を有するポリエステルフィルムが開示されている。そして、塗膜層を構成する高分子バインダーとして、ポリエステル樹脂およびオキサゾリン基とポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂との混合体が例示されており、主にハードコート層との接着性を高めることと目的としている。また、特許文献3には、熱可塑性樹脂フィルムからなる基材フィルムとガスバリア層との間に設けられるアンカー剤層は、アンカー剤とシランカップリング剤を含むことが開示されており、基材フィルムとガスバリア層との間の接着性を高めることによりガスバリア性を向上させることが提案されている。   For example, Patent Document 1 proposes a cured polymer layer composed of a specific silicon compound and a polyvinyl alcohol polymer. For example, Patent Document 2 discloses a polyester film having a coating layer that is excellent in transparency and excellent in adhesion to a hard coat or a pressure-sensitive adhesive. And as a polymer binder constituting the coating layer, a polyester resin and a mixture of an oxazoline group and an acrylic resin having a polyalkylene oxide chain are exemplified, and mainly to improve the adhesion to the hard coat layer; It is aimed. Patent Document 3 discloses that an anchor agent layer provided between a base film made of a thermoplastic resin film and a gas barrier layer includes an anchor agent and a silane coupling agent. It has been proposed to improve the gas barrier property by increasing the adhesion between the gas barrier layer and the gas barrier layer.

しかしながら、有機ELディスプレイや電子ペーパーなどといった、水分や酸素によって素子に劣化が生じやすい画像表示装置に用いる場合、これらの塗膜層ではポリエステル基材フィルムとガスバリア層との接着性が未だ不充分であり、有機ELディスプレイや電子ペーパーに必要とされる高度なガスバリア性が得られていないのが現状である。   However, when used in an image display device such as an organic EL display or electronic paper, where the element is likely to be deteriorated by moisture or oxygen, the adhesion between the polyester base film and the gas barrier layer is still insufficient with these coating layers. The present situation is that high gas barrier properties required for organic EL displays and electronic paper are not obtained.

特開平10−111500号公報JP-A-10-111500 特開2004−9362号公報JP 2004-9362 A 特開2005−1242号公報JP-A-2005-1242

本発明の目的は、かかる従来技術の課題を解消し、ガスバリア層を積層した場合に高度なガスバリア性を有し、高透明性および易加工性を備えたガスバリア加工用ポリエステルフィルムを提供することにある。また本発明の他の目的は、ガスバリア性、高透明性、易加工性を備えるとともに、さらに高温熱処理後もガスバリア性が維持されたガスバリア加工用ポリエステルフィルムを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a polyester film for gas barrier processing which has a high gas barrier property when the gas barrier layer is laminated, and has high transparency and easy processability, by solving the problems of the prior art. is there. Another object of the present invention is to provide a polyester film for gas barrier processing that has gas barrier properties, high transparency, and easy processability, and that maintains the gas barrier properties even after high-temperature heat treatment.

さらに本発明の他の目的として、高透明性、易加工性を有し、湿度変化に対する寸法安定性が高いために、高いガスバリア性を有するガスバリア性積層ポリエステルフィルムを提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a gas barrier laminated polyester film having high transparency and easy processability and high dimensional stability against changes in humidity, and thus has high gas barrier properties.

本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、ポリエステルからなる基材フィルムの少なくとも片面に、コポリエステル樹脂、ポリビニルアルコールおよび微粒子をそれぞれ特定の割合で含む塗膜層を設けることにより、該塗膜層を介してポリエステルからなる基材フィルムと、平坦化層またはガスバリア層との接着性が高まる結果、水蒸気や酸素の透過経路となるような欠陥が少なくなること、また何らかの応力がかかった場合に、それぞれの界面剥離あるいはガスバリア層にクラックが発生する欠陥が生じにくくなることから高度なガスバリア性が得られ、かつ透明性にも優れたポリエステルフィルムが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors provide a coating layer containing a copolyester resin, polyvinyl alcohol and fine particles in a specific ratio on at least one side of a base film made of polyester. As a result, the adhesion between the base film made of polyester and the flattening layer or the gas barrier layer is increased through the coating layer, so that defects such as water vapor and oxygen permeation paths are reduced, and some stress is applied. It has been found that a polyester film having high gas barrier properties and excellent transparency can be obtained because it becomes difficult for defects to be generated at each interface separation or cracks to occur in the gas barrier layer. The invention has been completed.

すなわち本発明によれば、本発明の目的は、ポリエステルからなる基材フィルムの少なくとも片面に塗膜層が設けられたポリエステルフィルムであって、基材フィルムを構成するポリエステルがポリエチレンナフタレートであり、該塗膜層が塗膜層の重量を基準として(A)ガラス転移点が20〜90℃であるコポリエステル樹脂を50〜80重量%、(B)ケン化度が74〜90mol%であるポリビニルアルコールを10〜30重量%(C)微粒子を3〜25重量%、および(D)架橋剤を1〜20重量%を含有し、該ポリエステルフィルムの全光線透過率が85%以上、ヘイズが1.5%以下であり、かつ200℃×10分における熱収縮率がMD方向、TD方向それぞれ0.2%以下であ有機ELディスプレイ基板用ポリエステルフィルム(項1)によって達成される。 That is, according to the present invention, an object of the present invention, there is provided a port Li ester film coating layer is provided on at least one surface of a substrate film made of polyester, polyester constituting the substrate film be polyethylene naphthalate The coating layer is based on the weight of the coating layer (A) 50 to 80% by weight of a copolyester resin having a glass transition point of 20 to 90 ° C., and (B) the degree of saponification is 74 to 90 mol%. polyvinyl alcohol 10 to 30 wt%, (C) fine particles 3 to 25% by weight, and (D) a crosslinking agent containing from 1 to 20 wt%, total light transmittance of the polyester film 85% or more, haze There is 1.5% or less, and 200 ° C. × thermal shrinkage MD direction at 10 minutes, TD directions Ru der 0.2% or less organic EL display substrate Po Riesute This is achieved by a film (item 1).

また本発明の有機ELディスプレイ基板用ポリエステルフィルムは、好ましい態様として、150℃×30分における熱収縮率がMD方向、TD方向それぞれ0.1%以下である態様も包含する。 The organic EL Po Li ester film for display substrate of the present invention includes, as a preferred embodiment, the heat shrinkage MD direction at 0.99 ° C. × 30 minutes, and TD directions than 0.1% der Ru state like.

また本発明は、有機ELディスプレイ基板用ポリエステルフィルムの少なくとも1つの塗膜層上にガスバリア層が積層された積層構成、あるいは該塗膜層上に平坦化層、ガスバリア層が順次積層された積層構成、のいずれかの積層構成を有する有機ELディスプレイ基板用ガスバリア性積層ポリエステルフィルムにおけるMD方向およびTD方向の湿度膨張係数αhがそれぞれ1〜10ppm/%RHである有機ELディスプレイ基板用ガスバリア性積層ポリエステルフィルムを包含する。
さらに本発明は、かかる有機ELディスプレイ基板用ガスバリア性積層ポリエステルフィルムを含む有機ELディスプレイ基板も包含するものである。
The present invention is laminated stacked construction gas barrier layer is laminated on at least one coating layer of Po Li ester film for an organic EL display substrate, or the planarizing layer coating film layer, the gas barrier layer are sequentially stacked configuration, one of the MD direction and the TD direction of the humidity expansion coefficient αh organic EL display substrate for the gas barrier laminated polyester respectively 1-10 ppm /% RH in the gas barrier laminated polyester film for an organic EL display substrate having a laminated structure of Includes film.
Further, the present invention also encompasses an organic EL display substrate comprising such an organic EL display gas barrier laminate polyester film for the substrate.

本発明によれば、本発明のガスバリア加工用ポリエステルフィルムは、さらにガスバリア層を設けた場合に高度なガスバリア性を有し、しかも高透明性及び易滑性を備えることから、これらの特性が求められる有機ELディスプレイ、電子ペーパーなどの基板フィルムとして好適に用いることができる。また本発明のガスバリア性積層ポリエステルフィルムは、高度なガスバリア性を有し、しかも高透明性及び易滑性を備えることから、これらの特性が求められる有機ELディスプレイ基板、電子ペーパー基板として好適に用いることができる。   According to the present invention, the polyester film for gas barrier processing according to the present invention has a high gas barrier property when a gas barrier layer is further provided, and also has high transparency and slipperiness. It can be suitably used as a substrate film such as an organic EL display and electronic paper. Moreover, since the gas barrier laminated polyester film of the present invention has high gas barrier properties and also has high transparency and slipperiness, it is suitably used as an organic EL display substrate and electronic paper substrate that require these characteristics. be able to.

以下、本発明を詳しく説明する。
<基材フィルム>
本発明の基材フィルムはポリエステルによって構成される。本発明のポリエステルとしては、芳香族ジカルボン酸またはそのエステル形成性誘導体とジオールまたはそのエステル形成性誘導体とから合成される芳香族ポリエステルを用いることができる。芳香族ジカルボン酸成分としては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸が例示され、ジオール成分として、例えばエチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,6−ヘキサンジオールが例示される。本発明のポリエステルは、具体的にはポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ(1,4−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート)、ポリエチレンナフタレート、ポリトリメチレンナフタレートが例示される。特に力学的物性や光学物性等のバランスの点からポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましく、さらにガスバリア性、熱収縮率で表される耐熱性の点でポリエチレンナフタレートが最も好ましい。ポリエステルは、ホモポリマー、第三成分を共重合したコポリマー、ポリマーブレンドのいずれであってもよい。
The present invention will be described in detail below.
<Base film>
The base film of the present invention is made of polyester. As the polyester of the present invention, an aromatic polyester synthesized from an aromatic dicarboxylic acid or an ester-forming derivative thereof and a diol or an ester-forming derivative thereof can be used. Examples of the aromatic dicarboxylic acid component include terephthalic acid, isophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, and 4,4′-diphenyldicarboxylic acid. Examples of the diol component include ethylene glycol, 1,3-propanediol, and 1,4- Examples include butanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, and 1,6-hexanediol. Specific examples of the polyester of the present invention include polyethylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, poly (1,4-cyclohexylenedimethylene terephthalate), polyethylene naphthalate, and polytrimethylene naphthalate. In particular, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferable from the viewpoint of balance between mechanical properties and optical properties, and polyethylene naphthalate is most preferable from the viewpoint of gas barrier properties and heat resistance expressed by heat shrinkage. The polyester may be a homopolymer, a copolymer copolymerized with a third component, or a polymer blend.

ポリエステルがポリエチレンナフタレートである場合、主たるジカルボン酸成分としてナフタレンジカルボン酸が用いられ、主たるジオール成分としてエチレングリコールが用いられる。ナフタレンジカルボン酸は、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸を挙げることができ、これらの中で2,6−ナフタレンジカルボン酸が好ましい。ここで「主たる」とは、ポリエステルを構成する全繰返し単位の少なくとも90モル%、好ましくは少なくとも95モル%を意味する。   When the polyester is polyethylene naphthalate, naphthalenedicarboxylic acid is used as the main dicarboxylic acid component, and ethylene glycol is used as the main diol component. Examples of the naphthalenedicarboxylic acid include 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, and 1,5-naphthalenedicarboxylic acid. Among these, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid is preferable. Here, “main” means at least 90 mol%, preferably at least 95 mol% of all repeating units constituting the polyester.

ポリエチレンナフタレートがコポリマーである場合、コポリマーを構成する共重合成分としては、例えば蓚酸、アジピン酸、フタル酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、テトラリンジカルボン酸、デカリンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸等の如きジカルボン酸;p−オキシ安息香酸、p−オキシエトキシ安息香酸の如きオキシカルボン酸;或いはトリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、シクロヘキサンメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ビスフェノールスルホンのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物、ジエチレングリコール、ポリエチレンオキシドグリコールの如きジオールを好ましく用いることができる。これらの共重合成分は、1種または2種以上用いてもよい。これらの共重合成分の中で、好ましい酸成分としては、イソフタル酸、テレフタル酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、p−オキシ安息香酸であり、好ましいジオール成分としては、トリメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ビスフェノールスルホンのエチレンオキサイド付加物である。   When polyethylene naphthalate is a copolymer, examples of copolymer components constituting the copolymer include oxalic acid, adipic acid, phthalic acid, sebacic acid, dodecanedicarboxylic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 4 , 4′-diphenyldicarboxylic acid, phenylindanedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, tetralindicarboxylic acid, decalindicarboxylic acid, diphenyletherdicarboxylic acid and the like; p-oxybenzoic acid, p-oxyethoxybenzoic acid Or trimethylene glycol, tetramethylene glycol, hexamethylene glycol, cyclohexane methylene glycol, neopentyl glycol, ethylene oxide of bisphenol sulfone Addendum, ethylene oxide adduct of bisphenol A, diethylene glycol, can be preferably used such diol polyethylene oxide glycol. These copolymer components may be used alone or in combination of two or more. Among these copolymer components, preferred acid components are isophthalic acid, terephthalic acid, 4,4′-diphenyldicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, p-oxybenzoic acid, and preferred diol components. Is an ethylene oxide adduct of trimethylene glycol, hexamethylene glycol, neopentyl glycol, bisphenol sulfone.

ポリエチレンナフタレートがポリマーブレンドである場合、ブレンド成分としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリエチレン−4,4’−テトラメチレンジフェニルジカルボキシレート、ポリエチレン−2,7−ナフタレンジカルボキシレート、ポリトリメチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート、ポリネオペンチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート、ポリ(ビス(4−エチレンオキシフェニル)スルホン)−2,6−ナフタレンジカルボキシレート等のポリエステルを挙げることができる。これらのブレンド成分は、1種または2種以上用いてもよい。   When polyethylene naphthalate is a polymer blend, the blend components include polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polytrimethylene terephthalate, polyethylene-4,4′-tetramethylene diphenyldicarboxylate, polyethylene-2,7-naphthalene dicarboxylate. , Polytrimethylene-2,6-naphthalene dicarboxylate, polyneopentylene-2,6-naphthalene dicarboxylate, poly (bis (4-ethyleneoxyphenyl) sulfone) -2,6-naphthalene dicarboxylate And the like. These blend components may be used alone or in combination of two or more.

また、本発明のポリエスエルは、例えば安息香酸、メトキシポリアルキレングリコールなどの一官能性化合物によって末端の水酸基および/またはカルボキシル基の一部または全部を封鎖したものであってもよい。また、極く少量のグリセリン、ペンタエリスリトール等の三官能以上のエステル形成性化合物で実質的に線状のポリマーが得られる範囲内で共重合したものであってもよい。   The polyester of the present invention may be one in which a terminal hydroxyl group and / or carboxyl group is partially or entirely blocked with a monofunctional compound such as benzoic acid or methoxypolyalkylene glycol. Further, it may be copolymerized with a very small amount of trifunctional or higher functional ester-forming compound such as glycerin and pentaerythritol within a range where a substantially linear polymer is obtained.

本発明のポリエステルは従来公知の方法、例えばジカルボン酸とジオールの反応で直接低重合度ポリエステルを得る方法、またはジカルボン酸の低級アルキルエステルとジオールとを従来公知のエステル交換触媒、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、ストロンチウム、チタン、ジルコニウム、マンガン、コバルトを含む化合物の1種または2種以上を用いて反応させた後、重合触媒の存在下で重合反応を行う方法で得ることができる。重合触媒としては、三酸化アンチモン、五酸化アンチモンのようなアンチモン化合物、二酸化ゲルマニウムで代表されるようなゲルマニウム化合物、テトラエチルチタネート、テトラプロピルチタネート、テトラフェニルチタネートまたはこれらの部分加水分解物、蓚酸チタニルアンモニウム、蓚酸チタニルカリウム、チタントリスアセチルアセトネートのようなチタン化合物を用いることができる。
エステル交換反応を経由して重合を行う場合は、重合反応前にエステル交換触媒を失活させる目的でトリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリ−n−ブチルホスフェート、正リン酸等のリン化合物が通常は添加される。リン化合物は、ポリエステルの熱安定性の点から、ポリエステル中の含有量がリン元素として20〜100ppmであることが好ましい。
なお、ポリエステルは、溶融重合後これをチップ化し、加熱減圧下または窒素などの不活性気流中において更に固相重合を施してもよい。
The polyester of the present invention is a conventionally known method, for example, a method of directly obtaining a low-polymerization degree polyester by reaction of a dicarboxylic acid and a diol, or a lower alkyl ester of a dicarboxylic acid and a diol are converted to a conventionally known transesterification catalyst such as sodium, potassium, It can be obtained by a method in which a reaction is carried out using one or more of compounds containing magnesium, calcium, zinc, strontium, titanium, zirconium, manganese, and cobalt, followed by a polymerization reaction in the presence of a polymerization catalyst. Polymerization catalysts include antimony compounds such as antimony trioxide and antimony pentoxide, germanium compounds represented by germanium dioxide, tetraethyl titanate, tetrapropyl titanate, tetraphenyl titanate or partial hydrolysates thereof, and titanyl ammonium oxalate. , Titanium compounds such as potassium titanyl oxalate and titanium trisacetylacetonate can be used.
When polymerization is performed via a transesterification reaction, a phosphorus compound such as trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tri-n-butyl phosphate, or normal phosphoric acid is usually added for the purpose of deactivating the transesterification catalyst before the polymerization reaction. Is done. The phosphorus compound preferably has a polyester content of 20 to 100 ppm as a phosphorus element from the viewpoint of thermal stability of the polyester.
The polyester may be converted into chips after melt polymerization, and further subjected to solid phase polymerization under heating under reduced pressure or in an inert gas stream such as nitrogen.

ポリエステルの固有粘度は0.40dl/g以上であることが好ましく、0.40〜0.90dl/gであることが更に好ましい。固有粘度が0.40dl/g未満ではフィルム製膜工程において切断が多発することがある。また固有粘度が0.90dl/gより高いと溶融粘度が高いため溶融押出が困難であり、また重合時間が長く不経済である。また二軸配向フィルムに製膜した後のポリエステルの固有粘度は0.38〜0.85dl/gであることが好ましく、0.40〜0.80g/dlであることがさらに好ましい。なお、固有粘度はo−クロロフェノールを溶媒として用いて、35℃で測定した値である。   The intrinsic viscosity of the polyester is preferably 0.40 dl / g or more, and more preferably 0.40 to 0.90 dl / g. If the intrinsic viscosity is less than 0.40 dl / g, cutting may occur frequently in the film forming process. If the intrinsic viscosity is higher than 0.90 dl / g, melt extrusion is difficult because of high melt viscosity, and the polymerization time is long and uneconomical. Further, the intrinsic viscosity of the polyester after being formed on the biaxially oriented film is preferably 0.38 to 0.85 dl / g, and more preferably 0.40 to 0.80 g / dl. The intrinsic viscosity is a value measured at 35 ° C. using o-chlorophenol as a solvent.

本発明の基材フィルムは、滑剤として用いられる微粒子を含有しないことが好ましい。
本発明の基材フィルムは、MD方向(以下、連続製膜方向、長手方向、縦方向と称することがある)およびTD方向(以下、幅方向、横方向と称することがある)ともにヤング率が4.5GPa以上であることが好ましい。基材フィルムのヤング率が下限に満たない場合、後述する湿度膨張係数に関して、塗膜層およびガスバリア層の部分が適切であっても、積層フィルムとしての湿度膨張係数αhを10ppm/%RH以下の範囲にすることができないことがある。基材フィルムのヤング率をMD方向およびTD方向とも4.5GPa以上にするための具体的手段として、基材フィルムが2.9倍以上の倍率でMD方向およびTD方向に延伸されることが挙げられる。一方、基材フィルムのヤング率の上限は、温度変化、特に200℃の高温域での寸法安定性を高め、かかる熱履歴を受けた後でも高いガスバリア性を維持させる場合は、MD方向およびTD方向とも7.0GPa以下であることが好ましい。基材フィルムのヤング率が上限を超える場合、200℃での耐熱寸法安定性が悪く、ガスバリア層にひびが入るなどして破壊される結果、熱履歴を受けた後はガスバリア性が低下することがある。基材フィルムのヤング率をMD方向およびTD方向とも7.0GPa以下にするための具体的手段として、基材フィルムが3.9倍以下の倍率でMD方向およびTD方向に延伸されることが挙げられる。
The base film of the present invention preferably does not contain fine particles used as a lubricant.
The base film of the present invention has a Young's modulus in both the MD direction (hereinafter sometimes referred to as a continuous film-forming direction, the longitudinal direction, and the longitudinal direction) and the TD direction (hereinafter sometimes referred to as a width direction and a lateral direction). It is preferable that it is 4.5 GPa or more. When the Young's modulus of the substrate film is less than the lower limit, the humidity expansion coefficient αh as a laminated film is 10 ppm /% RH or less even if the coating layer and the gas barrier layer are appropriate for the later-described humidity expansion coefficient. May not be in range. As a specific means for setting the Young's modulus of the base film to 4.5 GPa or more in both the MD direction and the TD direction, the base film is stretched in the MD direction and the TD direction at a magnification of 2.9 times or more. It is done. On the other hand, the upper limit of the Young's modulus of the base film is the MD direction and TD in the case of increasing the dimensional stability at a temperature change, particularly at a high temperature range of 200 ° C., and maintaining a high gas barrier property even after receiving such a thermal history. The direction is preferably 7.0 GPa or less. When the Young's modulus of the base film exceeds the upper limit, the heat-resistant dimensional stability at 200 ° C. is poor, and the gas barrier layer deteriorates as a result of being broken due to cracks in the gas barrier layer. There is. As a specific means for setting the Young's modulus of the base film to 7.0 GPa or less in both the MD direction and the TD direction, the base film is stretched in the MD direction and the TD direction at a magnification of 3.9 times or less. It is done.

基材フィルムの厚みは、有機ELディスプレイ、電子ペーパー、液晶ディスプレイ、太陽電池、有機TFT等の支持体として使用する場合に必要な強度および屈曲性を得るために、12〜500μmであることが好ましい。電子ペーパーの支持体として使用する場合の基材フィルムの厚みは、さらに好ましい範囲として12〜50μm、特に好ましくは12〜25μmである。また有機ELディスプレイ、液晶ディスプレイ、太陽電池、有機TFT等の支持体として使用する場合の基材フィルムの厚みは、さらに好ましくは25〜350μm、特に好ましくは50〜250μmである。基材フィルムの厚みが下限に満たない場合、基材フィルムの片面に塗膜層及びガスバリア層を含む層構成において、当該層構成による水蒸気の拡散速度の低減効果が十分に発現しないために湿度膨張係数αhが上限を超え、ガスバリア性が低下することがある。   The thickness of the base film is preferably 12 to 500 μm in order to obtain strength and flexibility required for use as a support for organic EL displays, electronic paper, liquid crystal displays, solar cells, organic TFTs, and the like. . When used as a support for electronic paper, the thickness of the substrate film is more preferably 12 to 50 μm, particularly preferably 12 to 25 μm. Moreover, the thickness of the base film when used as a support for an organic EL display, a liquid crystal display, a solar cell, an organic TFT or the like is more preferably 25 to 350 μm, and particularly preferably 50 to 250 μm. When the thickness of the base film is less than the lower limit, in the layer configuration including the coating film layer and the gas barrier layer on one side of the base film, the moisture expansion due to the insufficient effect of reducing the water vapor diffusion rate by the layer configuration is exhibited. The coefficient αh may exceed the upper limit, and the gas barrier property may decrease.

基材フィルムの厚みは、厚ければ厚いほど当該層構成による水蒸気の拡散速度の低減効果が発現しやすくなる。しかしながら、屈曲性、および特性を満たす範囲内で基材フィルムに薄肉化が求められることから、基材フィルムの厚みの上限は上述の範囲であることが好ましい。   The thicker the base film, the more easily the effect of reducing the diffusion rate of water vapor due to the layer structure. However, since the base film is required to be thin within a range satisfying flexibility and characteristics, the upper limit of the thickness of the base film is preferably in the above-described range.

<塗膜層>
本発明のポリエステルからなる基材フィルムは、少なくとも片面に以下の(A)〜(C)を含む塗膜層を有する。塗膜層は、(A)〜(C)を含む塗布液を基材フィルム上に塗布した後に乾燥することによって得られる。
(A)コポリエステル樹脂50〜80重量%
(B)ポリビニルアルコール10〜30重量%
(C)微粒子3〜25重量%
ここで、塗膜層の重量は、塗布液に含まれる固形分と同量である。(A)〜(C)各成分の含有量は、塗膜層の重量を100重量%とした含有量である。
<Coating layer>
The base film made of the polyester of the present invention has a coating layer containing the following (A) to (C) on at least one surface. A coating-film layer is obtained by drying, after apply | coating the coating liquid containing (A)-(C) on a base film.
(A) Copolyester resin 50-80% by weight
(B) 10-30% by weight of polyvinyl alcohol
(C) 3-25% by weight of fine particles
Here, the weight of the coating layer is the same as the solid content contained in the coating solution. (A)-(C) Content of each component is content which made the weight of the coating-film layer 100 weight%.

本発明の塗膜層は、上記成分で構成されていることにより、該塗膜層を介してポリエステルからなる基材フィルムと、平坦化層(塗膜層上に平坦化層を積層した場合)またはガスバリア層(塗膜層上にガスバリア層を積層した場合)との接着性が高まる。その結果、透明性、フィルム加工性に優れ、かつガスバリア層を更に積層させた場合に優れたガスバリア性が発現する。   The coating film layer of the present invention is composed of the above components, so that the base film made of polyester and the planarization layer (when the planarization layer is laminated on the coating film layer) via the coating film layer Or adhesiveness with a gas barrier layer (when a gas barrier layer is laminated | stacked on a coating-film layer) increases. As a result, excellent gas barrier properties are exhibited when the gas barrier layer is further laminated with excellent transparency and film processability.

特に、ガスバリア性に着目した各成分の顕著な効果として、(A)コポリエステル成分はポリエステル基材層との接着性を高める効果を有し、(B)ポリビニルアルコール成分は平坦化層またはガスバリア層との接着性を高める効果を有する。また、以下に詳述するように、各成分の含有量もガスバリア性能に寄与する。   In particular, as a remarkable effect of each component focusing on the gas barrier property, (A) the copolyester component has an effect of enhancing the adhesiveness with the polyester base layer, and (B) the polyvinyl alcohol component is a flattening layer or a gas barrier layer. It has the effect of improving the adhesiveness. Further, as described in detail below, the content of each component also contributes to gas barrier performance.

<コポリエステル樹脂>
塗膜層を形成するコポリエステル樹脂(A)は、多塩基酸またはそのエステル形成誘導体とポリオールまたはそのエステル形成誘導体とからなり、かつ酸成分を少なくとも2種用いて合成されたコポリエステルである。コポリエステル樹脂を用いた場合、ガラス転移点、結晶化温度の調整を簡便に行うことができる。
<Copolyester resin>
The copolyester resin (A) that forms the coating layer is a copolyester composed of a polybasic acid or an ester-forming derivative thereof and a polyol or an ester-forming derivative thereof, and synthesized using at least two acid components. When a copolyester resin is used, the glass transition point and the crystallization temperature can be easily adjusted.

コポリエステル樹脂(A)は、ガラス転移点が20〜90℃の範囲にあるコポリエステル樹脂であることが好ましい。ガラス転移点が20℃未満ではフィルム同士がブロッキングしやすく、一方90℃を超えると、フィルムの削れ性が低下したり、塗膜層が脆くなり接着性が保てなくなることがある。   The copolyester resin (A) is preferably a copolyester resin having a glass transition point in the range of 20 to 90 ° C. When the glass transition point is less than 20 ° C., the films are likely to block each other. On the other hand, when the glass transition point exceeds 90 ° C., the scraping property of the film may be lowered, or the coating layer may become brittle and the adhesion may not be maintained.

かかるガラス転移点を有するポリエステル樹脂の構成成分として、以下のものを用いることができる。すなわち、主たる多塩基酸成分としてテレフタル酸、イソフタル酸、2,6―ナフタレンジカルボン酸、フタル酸、無水フタル酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸等が挙げられる。また、不飽和多塩基酸成分のマレイン酸、イタコン酸等及びp−ヒドロキシ安息香酸等のヒドロキシカルボン酸を極少量用いることができる。また、ポリオール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、1,4―ブタンジオール、1,6―ヘキサンジオール、1,4―シクロヘキサンジメタノール、キシレングリコール、ジメチロールプロパン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ポリ(エチレンオキシド)グリコール、ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコール、ビスフェノール―Aのアルキレンオキシド付加物等が挙げられる。   The following can be used as a structural component of the polyester resin having such a glass transition point. That is, terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, phthalic acid, phthalic anhydride, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid as main polybasic acid components And dimer acid. Further, an extremely small amount of unsaturated polybasic acid components such as maleic acid, itaconic acid and the like and p-hydroxybenzoic acid and the like can be used. In addition, as a polyol component, ethylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, xylene glycol, dimethylolpropane, trimethylolpropane, glycerin, Examples include poly (ethylene oxide) glycol, poly (tetramethylene oxide) glycol, and bisphenol-A alkylene oxide adducts.

コポリエステル樹脂(A)は、親水性を付与するため、スルホン酸塩基を有するジカルボン酸成分を用いてもよい。スルホン酸塩基を有するジカルボン酸成分として、5―ナトリウムスルホイソフタル酸、5―カリウムスルホイソフタル酸、5―カリウムスルホテレフタル酸等が挙げられる。スルホン酸塩基を有するジカルボン酸成分は、分子内の全酸成分に対し1〜16モル%共重合されていることが好ましく、さらに好ましくは1.5〜14モル%である。スルホン酸塩基を有するジカルボン酸成分が下限に満たない場合、コポリエステル樹脂の親水性が不足することがあり、一方上限を超えると、塗膜層の耐湿性が低下しガスバリア性に乏しくなることがある。   The copolyester resin (A) may use a dicarboxylic acid component having a sulfonate group in order to impart hydrophilicity. Examples of the dicarboxylic acid component having a sulfonate group include 5-sodium sulfoisophthalic acid, 5-potassium sulfoisophthalic acid, and 5-potassium sulfoterephthalic acid. The dicarboxylic acid component having a sulfonate group is preferably copolymerized in an amount of 1 to 16 mol%, more preferably 1.5 to 14 mol%, based on the total acid components in the molecule. When the dicarboxylic acid component having a sulfonate group is less than the lower limit, the hydrophilicity of the copolyester resin may be insufficient. On the other hand, when the upper limit is exceeded, the moisture resistance of the coating layer may be reduced and the gas barrier property may be poor. is there.

コポリエステル樹脂(A)の含有量は、塗膜層の重量を基準として50〜80重量%である。コポリエステル樹脂の含有量が50重量%未満の場合、ポリエステルフィルムとの接着性が不足し、一方80重量%を超えると、平坦化層またはガスバリア層との接着性が低下する。そのためコポリエステル樹脂(A)の含有量がかかる範囲を超える場合、積層フィルムの湿度膨張係数αhが上限を超え、十分なガスバリア性能が得られない。   Content of a copolyester resin (A) is 50 to 80 weight% on the basis of the weight of a coating-film layer. When the content of the copolyester resin is less than 50% by weight, the adhesion with the polyester film is insufficient. On the other hand, when the content exceeds 80% by weight, the adhesion with the planarizing layer or the gas barrier layer is lowered. Therefore, when the content of the copolyester resin (A) exceeds this range, the humidity expansion coefficient αh of the laminated film exceeds the upper limit, and sufficient gas barrier performance cannot be obtained.

<ポリビニルアルコール>
塗膜層を形成するポリビニルアルコール(B)として、ポリビニルアルコールまたはその共重合体が用いられる。ポリビニルアルコール共重合体として、ビニルアルコール−酢酸ビニル共重合体、ビニルアルコール−ビニルブチラール共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、分子内にシリル基を有するポリビニルアルコール系高分子が例示され、これらの中でもビニルアルコール−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体が好ましい。通常ビニルアルコールの共重合比率がケン化度で表わされる。本発明のポリビニルアルコール(B)は、ケン化度が74〜90mol%であることが好ましい。ケン化度が74mol%未満では、塗膜層の耐湿性が低下しガスバリア性に乏しくなることがある。一方ケン化度が90mol%を超えると平坦化層またはガスバリア層に対する接着性や耐ブロッキング性が低下することがある。
<Polyvinyl alcohol>
Polyvinyl alcohol or a copolymer thereof is used as the polyvinyl alcohol (B) that forms the coating layer. Examples of the polyvinyl alcohol copolymer include a vinyl alcohol-vinyl acetate copolymer, a vinyl alcohol-vinyl butyral copolymer, an ethylene-vinyl alcohol copolymer, and a polyvinyl alcohol polymer having a silyl group in the molecule. Of these, vinyl alcohol-vinyl acetate copolymer and ethylene-vinyl alcohol copolymer are preferable. Usually, the copolymerization ratio of vinyl alcohol is represented by the degree of saponification. The polyvinyl alcohol (B) of the present invention preferably has a saponification degree of 74 to 90 mol%. If the degree of saponification is less than 74 mol%, the moisture resistance of the coating layer may be lowered and the gas barrier property may be poor. On the other hand, when the degree of saponification exceeds 90 mol%, the adhesion to the planarizing layer or the gas barrier layer and the blocking resistance may be lowered.

ポリビニルアルコール(B)の含有量は、塗膜層の重量を基準として10〜30重量%である。ポリビニルアルコールの含有量が10重量%未満であると平坦化層またはガスバリア層との接着性が十分に得られない。一方ポリビニルアルコールの含有量が30重量%を超えると、耐ブロッキング性が低下したり、耐湿性が低下してガスバリア性に乏しくなる。   The content of polyvinyl alcohol (B) is 10 to 30% by weight based on the weight of the coating layer. If the content of polyvinyl alcohol is less than 10% by weight, sufficient adhesion to the planarizing layer or gas barrier layer cannot be obtained. On the other hand, when the content of the polyvinyl alcohol exceeds 30% by weight, the blocking resistance is lowered or the moisture resistance is lowered, resulting in poor gas barrier properties.

<微粒子>
塗膜層を形成する微粒子(C)は有機、無機のいずれでもよく、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜鉛、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子が例示される。本発明の微粒子(C)は、平均粒径が20〜100nmであることが好ましい。微粒子の平均粒径が20nm未満では、フィルム同士がブロッキングしやすくなり、一方100nmを超えると削れ性が低下したり、平坦化層またはガスバリア層との接着性が低下することがある。
<Fine particles>
The fine particles (C) forming the coating layer may be either organic or inorganic, and include calcium carbonate, calcium oxide, aluminum oxide, kaolin, silicon oxide, zinc oxide, crosslinked acrylic resin particles, crosslinked polystyrene resin particles, melamine resin particles, Crosslinked silicone resin particles are exemplified. The fine particles (C) of the present invention preferably have an average particle size of 20 to 100 nm. When the average particle size of the fine particles is less than 20 nm, the films are likely to block each other. On the other hand, when the average particle size exceeds 100 nm, the shaving property may be deteriorated or the adhesion with the planarizing layer or the gas barrier layer may be deteriorated.

微粒子(C)の含有量は、塗膜層の重量を基準として3〜25重量%である。微粒子の含有量が3重量%未満では、フィルムの滑性(搬送性)が不足し、一方25重量%を超えると、ヘーズが低下したり、平坦化層またはガスバリア層との接着性や削れ性が低下し、ガスバリア性に乏しくなる。   Content of microparticles | fine-particles (C) is 3-25 weight% on the basis of the weight of a coating-film layer. If the content of the fine particles is less than 3% by weight, the slipperiness (conveyability) of the film is insufficient. Decreases and the gas barrier property becomes poor.

<架橋剤>
本発明の塗膜層は、さらに(D)架橋剤を1〜20重量%含有してもよい。架橋剤を含有することにより、さらにガスバリア性を向上させることができる。塗膜層を形成する架橋剤(D)としては、オキサゾリン基含有ポリマー、尿素系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種を用いるのが好ましい。架橋剤の含有量が1重量%に満たない場合、塗膜層のブロッキング性が不足してガスバリア性の改良が不十分であることがあり、一方20重量%を超えると塗膜の形成が困難となり、平坦化層またはガスバリア層との接着性が十分に得られず、ガスバリア性の改良が不十分となることがある。
<Crosslinking agent>
The coating layer of the present invention may further contain (D) 1 to 20% by weight of a crosslinking agent. By containing a crosslinking agent, the gas barrier property can be further improved. As the crosslinking agent (D) for forming the coating layer, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of an oxazoline group-containing polymer, a urea resin, a melamine resin, and an epoxy resin. When the content of the crosslinking agent is less than 1% by weight, the blocking property of the coating layer may be insufficient and the gas barrier property may be insufficiently improved. On the other hand, when the content exceeds 20% by weight, it is difficult to form a coating film. Thus, sufficient adhesion with the planarization layer or the gas barrier layer may not be obtained, and the improvement of the gas barrier property may be insufficient.

オキサゾリン基含有ポリマーとして具体的に、下記式(I)で表わされる付加重合性オキサゾリン(a)、および必要に応じて他のモノマー(b)を重合させて得られる重合体が挙げられる。

Figure 0004971703
(式中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ、水素、ハロゲン、アルキル基、アラルキル基、フェニル基および置換フェニル基からなる群から選ばれる置換基を示し、R5は付加重合性不飽和結合基を有する非環状有機基を示す。) Specific examples of the oxazoline group-containing polymer include a polymer obtained by polymerizing an addition-polymerizable oxazoline (a) represented by the following formula (I) and, if necessary, another monomer (b).
Figure 0004971703
(Wherein, R 1, R 2, R 3 and R 4 each represents hydrogen, a halogen, an alkyl group, an aralkyl group, a substituent selected from the group consisting of a phenyl group and a substituted phenyl group, R 5 is added An acyclic organic group having a polymerizable unsaturated bond group is shown.)

前記式(I)で表わされる付加重合性オキサゾリン(a)の具体例としては、2−ビニル−2−オキサゾリン、2−ビニル−4−メチル−2−オキサゾリン、2−ビニル−5−メチル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−4−メチル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−5−メチル−2−オキサゾリン等を挙げることができ、これらは1種または2種以上の混合物として使用することができる。これらのうち、2−イソプロペニル−2−オキサゾリンが工業的に入手しやすく好適である。   Specific examples of the addition-polymerizable oxazoline (a) represented by the formula (I) include 2-vinyl-2-oxazoline, 2-vinyl-4-methyl-2-oxazoline, 2-vinyl-5-methyl-2. -Oxazoline, 2-isopropenyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-4-methyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-5-methyl-2-oxazoline, etc. It can be used as a mixture of seeds or more. Of these, 2-isopropenyl-2-oxazoline is preferred because it is easily available industrially.

付加重合性オキサゾリン以外のモノマー(b)としては、付加重合性オキサゾリン(a)と共重合可能なモノマーであれば特に制限はなく、例えば(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ブチルなどのアクリル酸エステル類、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸などの不飽和カルボン酸類、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどの不飽和ニトリル類、(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミドなどの不飽和アミド類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル類、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテルなどのビニルエーテル類、エチレン、プロピレンなどのα−オレフィン類、塩化ビニルなどの含ハロゲン−α,β−不飽和モノマー類、スチレンなどのα,β−不飽和芳香族モノマー類などを挙げることができる。これらは1種または2種以上の混合物として使用することができる。   The monomer (b) other than the addition polymerizable oxazoline is not particularly limited as long as it is a monomer copolymerizable with the addition polymerizable oxazoline (a), and examples thereof include methyl (meth) acrylate and butyl (meth) acrylate. Acrylic esters, unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid and itaconic acid, unsaturated nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile, and unsaturated amides such as (meth) acrylamide and N-methylol (meth) acrylamide , Vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate, vinyl ethers such as methyl vinyl ether and ethyl vinyl ether, α-olefins such as ethylene and propylene, halogen-containing α, β-unsaturated monomers such as vinyl chloride, styrene Α, β-unsaturated aromatic mono And the like. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

付加重合性オキサゾリン(a)および少なくとも1種以上の他のモノマー(b)を用いて重合体を得る場合、付加重合性オキサゾリン(a)の配合量は、全モノマーに対して0.5重量%以上の範囲で適宜決めることが好ましい。付加重合性オキサゾリン(a)の配合量が0.5重量%未満では、本発明の目的を達成することが困難となることがある。   When the addition-polymerizable oxazoline (a) and at least one other monomer (b) are used to obtain a polymer, the amount of addition-polymerizable oxazoline (a) is 0.5% by weight based on the total monomers. It is preferable to determine appropriately within the above range. When the addition amount of the addition polymerizable oxazoline (a) is less than 0.5% by weight, it may be difficult to achieve the object of the present invention.

エポキシ系樹脂としては、具体的には、ポリエポキシ化合物、ジエポキシ化合物、モノエポキシ化合物などが挙げられる。ポリエポキシ化合物としては、例えばソルビトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアネート、グリセロールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、N,N,N’,N’−テトラグリシジルメタキシリレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサン等を挙げることができる。   Specific examples of the epoxy resin include polyepoxy compounds, diepoxy compounds, and monoepoxy compounds. Examples of the polyepoxy compound include sorbitol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, diglycerol polyglycidyl ether, triglycidyl tris (2-hydroxyethyl) isocyanate, glycerol polyglycidyl ether, trimethylolpropane poly Glycidyl ether, N, N, N ′, N′-tetraglycidylmetaxylylenediamine, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, N, N, N ′, N ′ -Tetraglycidyl-1,3-bisaminomethylcyclohexane etc. can be mentioned.

ジエポキシ化合物としては、例えばネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル等を挙げることができる。   Examples of the diepoxy compound include neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, resorcin diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, and polypropylene glycol diglycidyl. Examples include ether and polytetramethylene glycol diglycidyl ether.

また、モノエポキシ化合物としては、例えばアリルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテルなどが挙げられる。
この中でも、N,N,N’,N’−テトラグリシジルメタキシリレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサンが好ましく例示される。
Examples of the monoepoxy compound include allyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, and phenyl glycidyl ether.
Among these, N, N, N ′, N′-tetraglycidylmetaxylylenediamine, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, N, N, N ′, N ′ -Tetraglycidyl-1,3-bisaminomethylcyclohexane is preferably exemplified.

尿素系樹脂としては、例えばジメチロール尿素、ジメチロールエチレン尿素、ジメチロールプロピレン尿素、テトラメチロールアセチレン尿素、4−メトキシ5−ジメチルプロピレン尿素ジメチロールなどを好ましく挙げることができる。   Preferred examples of the urea resin include dimethylol urea, dimethylol ethylene urea, dimethylol propylene urea, tetramethylol acetylene urea, 4-methoxy 5-dimethylpropylene urea dimethylol and the like.

メラミン系樹脂としては、メラミンとホルムアルデヒドを縮合して得られるメチロールメラミン誘導体に低級アルコールとしてメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等を反応させてエーテル化した化合物およびそれらの混合物を好ましく挙げることができる。また、メチロールメラミン系誘導体としては、例えばモノメチロールメラミン、ジメチロールメラミン、トリメチロールメラミン、テトラメチロールメラミン、ペンタメチロールメラミン、ヘキサメチロールメラミンなどが例示される。   Preferred examples of the melamine-based resin include compounds obtained by reacting methylol melamine derivatives obtained by condensing melamine and formaldehyde with methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, or the like as a lower alcohol, and mixtures thereof. Examples of the methylol melamine derivative include monomethylol melamine, dimethylol melamine, trimethylol melamine, tetramethylol melamine, pentamethylol melamine, hexamethylol melamine and the like.

これらの架橋剤(D)のなかでも、エポキシ系樹脂、特にポリエポキシ化合物が好ましい。これらの架橋剤は単独、場合によっては2種以上併用してもよい。
また、本発明の塗膜層は、その表面エネルギーが50〜65dyne/cmであることが好ましく、特に55〜62yne/cmであることが好ましい。この表面エネルギーが下限に満たないと、平坦化層の塗工性及び接着性が不良となることがある。一方塗膜層の表面エネルギーが上限を超えると、ポリエステルからなる基材フィルムとの接着性が不足したり、塗膜層の耐湿性が不足することがある。かかる表面エネルギーを有する塗膜層を得るためには、(A)コポリエステル樹脂、(B)ポリビニルアルコール、(C)微粒子及び(D)架橋剤が、それぞれ上述の範囲で配合され、これら(A)〜(D)成分を含む塗布液を用いて、例えば0.02〜1μmの厚みで塗設することによって達成される。塗設の方法は、フィルム製膜時の延伸工程において塗設する方法、フィルム延伸製膜後に塗設する方法のいずれであってもよいが、塗膜のポリエステルフィルムへの密着性の点で、フィルム製膜工程において塗設する方法が好ましい。
また、本発明の課題を損なわない範囲内で、塗膜層を形成する成分として、上記の成分以外に、帯電防止剤、着色剤、界面活性剤(濡れ剤)、紫外線吸収剤等を使用してもよい。
Of these crosslinking agents (D), epoxy resins, particularly polyepoxy compounds are preferred. These crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more in some cases.
Moreover, it is preferable that the surface energy of the coating film layer of this invention is 50-65 dyne / cm, and it is especially preferable that it is 55-62 yne / cm. If this surface energy is less than the lower limit, the coatability and adhesiveness of the planarizing layer may be poor. On the other hand, when the surface energy of the coating layer exceeds the upper limit, the adhesion with the base film made of polyester may be insufficient, or the moisture resistance of the coating layer may be insufficient. In order to obtain a coating layer having such surface energy, (A) a copolyester resin, (B) polyvinyl alcohol, (C) fine particles, and (D) a crosslinking agent are blended in the above ranges, respectively (A ) To (D), for example, by coating with a thickness of 0.02 to 1 μm using a coating solution containing the component. The method of coating may be either a method of coating in the stretching step during film formation, or a method of coating after film stretching, but in terms of adhesion of the coating film to the polyester film, A method of coating in the film forming step is preferred.
In addition to the above components, an antistatic agent, a colorant, a surfactant (wetting agent), an ultraviolet absorber and the like are used as components for forming the coating layer within a range not impairing the problems of the present invention. May be.

<全光線透過率>
本発明のガスバリア加工用ポリエステルフィルムは、JIS規格K7105に準拠して測定される全光線透過率が85%以上であることが必要である。全光線透過率が85%に満たない場合、透明性が悪くなるため、ディスプレイ用として用いた場合、輝度が低下する。全光線透過率は、より好ましくは87%以上、特に好ましくは90%以上である。全光線透過率を上述の範囲にするためには、基板フィルム中にフィラーを含有しないことが必要であり、また(A)〜(C)成分を含む塗膜層を少なくとも片面、好ましくは両面に設けることにより全光線透過率がさらに向上する。
<Total light transmittance>
The gas barrier processing polyester film of the present invention needs to have a total light transmittance of 85% or more measured in accordance with JIS standard K7105. When the total light transmittance is less than 85%, the transparency is deteriorated. Therefore, when used for a display, the luminance is lowered. The total light transmittance is more preferably 87% or more, and particularly preferably 90% or more. In order to make the total light transmittance within the above-mentioned range, it is necessary not to contain a filler in the substrate film, and the coating layer containing the components (A) to (C) is at least on one side, preferably on both sides. By providing, the total light transmittance is further improved.

<ヘイズ>
本発明のガスバリア加工用ポリエステルフィルムは、JIS規格K7105に準拠して測定されるヘイズが1.5%以下であることが必要である。ヘイズが1.5%を超えると透明性が悪くなるため、ディスプレイ用として用いた場合、表示画面が白く見えてコントラストが低下する。ヘイズはより好ましくは1.0%以下、特に好ましくは0.5%以下である。ヘイズを上述の範囲にするためには、基板フィルム中にフィラーを含有しないことが必要であり、また塗膜層が(A)〜(C)成分を含むことによって達成される。
<Haze>
The polyester film for gas barrier processing of the present invention is required to have a haze of 1.5% or less measured according to JIS standard K7105. When the haze exceeds 1.5%, the transparency is deteriorated. Therefore, when used for a display, the display screen looks white and the contrast is lowered. The haze is more preferably 1.0% or less, and particularly preferably 0.5% or less. In order to make haze into the above-mentioned range, it is necessary not to contain a filler in a board | substrate film, and it is achieved by a coating-film layer containing (A)-(C) component.

<熱収縮率>
本発明のガスバリア加工用ポリエステルフィルムは、150℃×30分間における熱収縮率がMD方向、TD方向それぞれ0.1%以下であることが好ましい。熱収縮率が上限を超えると、ポリエステル基材フィルム上にガスバリア層を含む各種機能層を積層する際、あるいは積層した後に、150℃近辺の高温雰囲気下において機能層にひびが入ったり、またはシワが寄る結果、機能層が破壊されてガスバリア性を含む機能が十分に発現しないことがある。150℃×30分間における熱収縮率は、より好ましくは0.05%以下、特に好ましくは0.03%以下である。
150℃における熱収縮率を上述の範囲にするためには、ポリエステルフィルムの製膜工程において、縦、横方向それぞれ延伸した後、(Tm−100)〜(Tm−5)℃の温度で1〜100秒間熱固定を行い、その後(X−80)〜X℃の温度で弛緩処理を行うことによって達成される。ここでTmは融点、Xは熱固定温度をそれぞれ指す。
<Heat shrinkage>
The polyester film for gas barrier processing of the present invention preferably has a thermal shrinkage rate at 150 ° C. for 30 minutes of 0.1% or less in each of the MD direction and the TD direction. When the thermal shrinkage rate exceeds the upper limit, the functional layer is cracked or wrinkled in a high temperature atmosphere around 150 ° C. when or after laminating various functional layers including a gas barrier layer on the polyester base film. As a result, the functional layer may be destroyed and functions including gas barrier properties may not be sufficiently exhibited. The thermal shrinkage rate at 150 ° C. for 30 minutes is more preferably 0.05% or less, and particularly preferably 0.03% or less.
In order to make the heat shrinkage rate at 150 ° C. within the above-mentioned range, in the film forming process of the polyester film, the film is stretched in the vertical and horizontal directions and then at a temperature of (Tm-100) to (Tm-5) ° C. This is achieved by performing heat setting for 100 seconds and then performing relaxation treatment at a temperature of (X-80) to X ° C. Here, Tm represents a melting point, and X represents a heat setting temperature.

また、本発明のガスバリア加工用ポリエステルフィルムは、200℃×10分間における熱収縮率がMD方向、TD方向それぞれ0.2%以下であることが好ましい。ポリエステル基材フィルムの200℃×10分間における熱収縮率がかかる範囲にあることで、200℃近辺の熱履歴を受けた後でも高いガスバリア性が維持される。熱収縮率が上限を超えると、ポリエステルフィルム上にガスバリア層を含む各種機能層を積層する際、あるいは積層した後、200℃近辺の高温雰囲気下での作業工程がある場合に機能層にひびが入ったり、またはシワが寄る結果、機能層が破壊されてガスバリア性を含む機能が十分に発現しないことがある。200℃×10分間における熱収縮率は、より好ましくは0.1%以下、特に好ましくは0.05%以下である。
200℃における熱収縮率を上述の範囲にするためには、ポリエステルフィルムの製膜工程において、3.9倍以下で縦、横方向それぞれ延伸し、(Tm−100)〜(Tm−5)℃の温度で1〜100秒間熱固定を行い、その後(X−80)〜X℃の温度で弛緩処理を行うことによって達成される。200℃における熱収縮率がかかる範囲にある基材フィルムは、同時に7.0GPa以下のヤング率も具備するものである。
The polyester film for gas barrier processing of the present invention preferably has a thermal shrinkage rate at 200 ° C. for 10 minutes of 0.2% or less in each of the MD direction and the TD direction. A high gas barrier property is maintained even after receiving a heat history in the vicinity of 200 ° C. because the thermal contraction rate at 200 ° C. for 10 minutes of the polyester base film is within this range. When the thermal shrinkage rate exceeds the upper limit, the functional layer is cracked when various functional layers including a gas barrier layer are laminated on the polyester film or when there is a work process in a high-temperature atmosphere around 200 ° C. after the lamination. As a result of entering or wrinkling, the functional layer may be destroyed and functions including gas barrier properties may not be sufficiently exhibited. The thermal shrinkage rate at 200 ° C. for 10 minutes is more preferably 0.1% or less, particularly preferably 0.05% or less.
In order to make the heat shrinkage rate at 200 ° C. within the above range, in the film forming process of the polyester film, the film is stretched by 3.9 times or less in the vertical and horizontal directions, and (Tm-100) to (Tm-5) ° C. This is achieved by performing heat setting at a temperature of 1 to 100 seconds and then performing a relaxation treatment at a temperature of (X-80) to X ° C. The base film having a thermal shrinkage at 200 ° C. is also provided with a Young's modulus of 7.0 GPa or less at the same time.

<平坦化層>
本発明によれば、ガスバリア加工用ポリエステルフィルムの少なくとも1つの塗膜層上に、ガスバリア性を高める目的で、さらに平坦化層が積層されたガスバリア加工用積層ポリエステルフィルムが提供される。本発明における平坦化層は、表面を平坦化させ、層間を密着させる機能を有するものであれば特に種類、層の形成方法は限定されない。塗膜層および平坦化層を介して基材フィルムにガスバリア層を積層させることにより、ガス透過の原因となる欠点を減らすことができる。ガスバリア性に着目した平坦化層の効果としては、表面を平坦化することによってガスバリア層にピンホールやクラックなどの欠点が生じにくくなること、塗膜層と平坦化層との接着性が高いためにガスの透過経路となる欠点を減らせること等が挙げられる。その結果、平坦化層を含む場合、湿度膨張係数αhに優れ、ガスバリア性が向上する。
<Planarization layer>
According to the present invention, there is provided a laminated polyester film for gas barrier processing in which a flattening layer is further laminated on at least one coating layer of the polyester film for gas barrier processing for the purpose of enhancing gas barrier properties. There are no particular limitations on the type of the planarizing layer in the present invention and the method of forming the layer as long as it has a function of planarizing the surface and adhering the layers. By laminating the gas barrier layer on the base film through the coating layer and the flattening layer, it is possible to reduce defects that cause gas permeation. The effects of the planarization layer that focuses on gas barrier properties are that the surface of the gas barrier layer is less susceptible to defects such as pinholes and cracks, and the adhesion between the coating layer and the planarization layer is high. In addition, it is possible to reduce defects that become gas permeation paths. As a result, when the planarization layer is included, the humidity expansion coefficient αh is excellent, and the gas barrier property is improved.

平坦化層は、塗布によって形成されることが好ましく、プライマー層、アンカー層と称することがある。平坦化層として、例えばケイ素含有樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、紫外線硬化性アクリル樹脂などの放射線硬化性樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂,ポリアクリロニトリル、アクリロニトリル−アクリル酸メチル共重合体やアクリロニトリル−スチレン共重合体などのアクリロニトリル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ビニルアルコールおよびその共重合体が例示され、少なくともこれらの1つを含むコーティング組成物を用いることが好ましい。   The planarizing layer is preferably formed by coating, and may be referred to as a primer layer or an anchor layer. As a planarizing layer, for example, a thermosetting resin such as a silicon-containing resin or an epoxy resin, a radiation curable resin such as an ultraviolet curable acrylic resin, a melamine resin, a urethane resin, an alkyd resin, polyacrylonitrile, acrylonitrile-methyl acrylate Examples thereof include acrylonitrile copolymers such as polymers and acrylonitrile-styrene copolymers, polyvinylidene chloride, vinyl alcohol and copolymers thereof, and it is preferable to use a coating composition containing at least one of these.

これらの中でも塗膜層との接着性がより高まることから、ケイ素含有樹脂、ポリビニルアルコールおよびその共重合体を含む平坦化層が好ましい。さらに好ましい平坦化層として、(a)エポキシ基及びアルコキシシリル基を有するケイ素化合物、その(部分)加水分解物、その(部分)縮合物、およびこれらの混合物からなる群から選ばれるエポキシケイ素系化合物、(b)アミノ基及びアルコキシシリル基を有するケイ素化合物、その(部分)加水分解物、その(部分)縮合物、およびこれらの混合物からなる群から選ばれるアミノケイ素系化合物、並びに(c)ポリビニルアルコールまたはポリビニルアルコール共重合体を架橋反応させてなる硬化ポリマー層が挙げられる。平坦化層として、(a)〜(c)成分を架橋反応させてなる硬化ポリマーを用いた場合、表面平滑性、塗布層およびガスバリア層との接着性、耐久性、可撓性に優れており、ガスバリア性がさらに向上する。   Among these, a planarization layer containing a silicon-containing resin, polyvinyl alcohol, and a copolymer thereof is preferable because adhesion to the coating layer is further increased. As a more preferred planarizing layer, an epoxy silicon compound selected from the group consisting of (a) a silicon compound having an epoxy group and an alkoxysilyl group, a (partial) hydrolyzate thereof, a (partial) condensate thereof, and a mixture thereof. (B) A silicon compound having an amino group and an alkoxysilyl group, a (partial) hydrolyzate thereof, a (partial) condensate thereof, and a mixture thereof, and (c) polyvinyl Examples thereof include a cured polymer layer obtained by cross-linking alcohol or a polyvinyl alcohol copolymer. When a cured polymer obtained by crosslinking the components (a) to (c) is used as the planarizing layer, it has excellent surface smoothness, adhesion to the coating layer and gas barrier layer, durability, and flexibility. Further, the gas barrier property is further improved.

(a)エポキシ基及びアルコキシシリル基を有するケイ素化合物は、例えば下記一般式(II)
7 n

X−R6−Si(OR83-n ・・・(II)
(上式中、R6は炭素数1〜4のアルキレン基、R7およびR8は炭素数1〜4のアルキル基、Xはグリシドキシ基またはエポキシシクロヘキシル基であり、nは1または0である)
で表される化合物が挙げられる。
(A) The silicon compound having an epoxy group and an alkoxysilyl group is, for example, the following general formula (II)
R 7 n

X-R 6 -Si (OR 8 ) 3-n (II)
(In the above formula, R 6 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, R 7 and R 8 are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, X is a glycidoxy group or an epoxycyclohexyl group, and n is 1 or 0. )
The compound represented by these is mentioned.

一般式(II)で表されるエポキシ基及びアルコキシシリル基を有するケイ素化合物の中でも、特に3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランが好ましい。これらの化合物は単独で、または2種以上を併せて用いることができる。
エポキシ基及びアルコキシシリル基を有するケイ素化合物の(部分)加水分解物とは、かかるケイ素化合物の一部または全部が加水分解したものである。また、その(部分)縮合物とは、該ケイ素化合物の加水分解物の一部または全部が縮合反応した縮合物、及び該縮合物と加水分解していない原料のケイ素化合物とが縮合したものであり、これらはいわゆるゾルゲル反応させることによって得られる。
Among the silicon compounds having an epoxy group and an alkoxysilyl group represented by the general formula (II), 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane are particularly preferable. These compounds can be used alone or in combination of two or more.
The (partial) hydrolyzate of a silicon compound having an epoxy group and an alkoxysilyl group is a product obtained by hydrolyzing a part or all of the silicon compound. The (partial) condensate is a condensate obtained by condensation reaction of a part or all of the hydrolyzate of the silicon compound, and a condensate of the condensate and a raw silicon compound that is not hydrolyzed. They are obtained by a so-called sol-gel reaction.

(b)アミノ基及びアルコキシシリル基を有するケイ素化合物は、例えば下記一般式(III)
Y R10 m
| |
HN−R9−Si(OR113-m ・・・(III)
(上式中、R9は炭素数1〜4のアルキレン基、R10およびR11は炭素数1〜4のアルキル基、Yは水素原子またはアミノアルキル基であり、mは1または0である)
で表される化合物が挙げられる。
(B) The silicon compound having an amino group and an alkoxysilyl group is, for example, the following general formula (III)
Y R 10 m
| |
HN-R 9 -Si (OR 11 ) 3-m (III)
(In the above formula, R 9 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, R 10 and R 11 are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, Y is a hydrogen atom or an aminoalkyl group, and m is 1 or 0. )
The compound represented by these is mentioned.

一般式(III)で表されるアミノ基及びアルコキシシリル基を有するケイ素化合物の中でも、特に3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−メチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシランが好ましい。これらの化合物は単独で、または2種以上を併せて用いることができる。
アミノ基及びアルコキシシリル基を有するケイ素化合物の(部分)加水分解物とは、かかるケイ素化合物の一部または全部が加水分解したものである。また、その(部分)縮合物とは、該ケイ素化合物の加水分解物の一部または全部が縮合反応した縮合物、及び該縮合物と加水分解していない原料のケイ素化合物とが縮合したものである。
Among the silicon compounds having an amino group and an alkoxysilyl group represented by the general formula (III), particularly 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-methyl-3-aminopropyltrimethoxysilane 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, and N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane are preferred. These compounds can be used alone or in combination of two or more.
The (partial) hydrolyzate of a silicon compound having an amino group and an alkoxysilyl group is a product obtained by hydrolyzing a part or all of the silicon compound. The (partial) condensate is a condensate obtained by condensation reaction of a part or all of the hydrolyzate of the silicon compound, and a condensate of the condensate and a raw silicon compound that is not hydrolyzed. is there.

(c)ポリビニルアルコールまたはポリビニルアルコール共重合体は、塗膜層の(B)ポリビニルアルコール成分の説明におけるポリビニルアルコールまたはその共重合体を用いることができる。ポリビニルアルコール共重合体として、ビニルアルコール−酢酸ビニル共重合体、ビニルアルコール−ビニルブチラール共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、分子内にシリル基を有するポリビニルアルコール系高分子が例示され、これらの中でもビニルアルコール−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、分子内にシリル基を有するポリビニルアルコール系高分子が好ましく、特にエチレン−ビニルアルコール共重合体が好ましい。   (C) As the polyvinyl alcohol or polyvinyl alcohol copolymer, polyvinyl alcohol or a copolymer thereof in the description of the (B) polyvinyl alcohol component of the coating layer can be used. Examples of the polyvinyl alcohol copolymer include a vinyl alcohol-vinyl acetate copolymer, a vinyl alcohol-vinyl butyral copolymer, an ethylene-vinyl alcohol copolymer, and a polyvinyl alcohol polymer having a silyl group in the molecule. Among these, a vinyl alcohol-vinyl acetate copolymer, an ethylene-vinyl alcohol copolymer, and a polyvinyl alcohol polymer having a silyl group in the molecule are preferable, and an ethylene-vinyl alcohol copolymer is particularly preferable.

通常、ビニルアルコールの共重合比率がケン化度で表わされ、(c)成分は、ケン化度が74〜90mol%であることが好ましい。ケン化度が74mol%未満では、平坦化層の耐湿性が低下しガスバリア性に乏しくなることがある。一方ケン化度が90mol%を超えると塗膜層及びガスバリア層に対する接着性や耐ブロッキング性が低下することがある。   Usually, the copolymerization ratio of vinyl alcohol is represented by the saponification degree, and the component (c) preferably has a saponification degree of 74 to 90 mol%. If the degree of saponification is less than 74 mol%, the moisture resistance of the planarization layer may be lowered and the gas barrier property may be poor. On the other hand, if the degree of saponification exceeds 90 mol%, the adhesion to the coating layer and the gas barrier layer and the blocking resistance may decrease.

なお、分子内にシリル基を有するポリビニルアルコール系高分子とは、下記一般式(IV)で表される反応性のアルコキシシリル基を有するものである。
(R12O)p−Si− ・・・(IV)

13 3-p
(上式中、R12は水素または炭素数1〜10のアルキル基、アシル基、またはアルカリ金属、アルカリ土類金属を表し、R13は炭素数1〜10のアルキル基を表し、pは1〜3の整数を表す)
シリル基の含有量は好ましくは5モル%以下、より好ましくは1モル%以下である。シリル基の含有量が多くなると平坦化層を形成する塗布剤がゲル化しやすい傾向にある。また「分子内」とは高分子重合体の末端も含むものであり、シリル基が加水分解性でない結合によってポリビニルアルコール系高分子と結合していれば、その位置、分布状態などに特に制限はない。
The polyvinyl alcohol polymer having a silyl group in the molecule has a reactive alkoxysilyl group represented by the following general formula (IV).
(R 12 O) p —Si— (IV)

R 13 3-p
(In the above formula, R 12 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group, or an alkali metal or alkaline earth metal; R 13 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; Represents an integer of ~ 3)
The silyl group content is preferably 5 mol% or less, more preferably 1 mol% or less. When the content of the silyl group is increased, the coating agent for forming the planarizing layer tends to be easily gelled. The term “intramolecular” includes the end of the polymer. If the silyl group is bonded to the polyvinyl alcohol polymer by a non-hydrolyzable bond, the position, distribution state, etc. are not particularly limited. Absent.

(a)〜(c)成分の含有比率は、下記式(1)で表される重量比でであることが好ましい。
1/9 <(c)/{(a)+(b)}< 9/1 ・・・(1)
各成分の重量は、それぞれのケイ素化合物中のアルコキシシリル基の全てが加水分解後、縮合反応したと仮定して求められる。
(a)〜(c)成分の含有比率が式(1)の上限を超える場合、耐水性、耐薬品性が低下することがある。一方、(a)〜(c)成分の含有比率が式(1)の下限に満たない場合、ガスバリア性が十分に改良されないことがある。
The content ratio of the components (a) to (c) is preferably a weight ratio represented by the following formula (1).
1/9 <(c) / {(a) + (b)} <9/1 (1)
The weight of each component is determined on the assumption that all of the alkoxysilyl groups in the respective silicon compounds have undergone a condensation reaction after hydrolysis.
When the content ratio of the components (a) to (c) exceeds the upper limit of the formula (1), water resistance and chemical resistance may be deteriorated. On the other hand, when the content ratio of the components (a) to (c) is less than the lower limit of the formula (1), the gas barrier property may not be sufficiently improved.

また(a)成分と(b)成分との含有比率は、接着性、耐熱性、耐溶剤性、耐水性、耐久性などの点で、下記式(2)で表される重量比であることが好ましい。
1/6 <(a’)/(b’)< 6/1 ・・・(2)
(上式中、(a’)は(a)成分に含まれるエポキシ基のモル当量換算量、(b’)は(b)成分に含まれるアミノ基とイミノ基の合計モル当量換算量を表す)
(a)〜(c)成分を架橋反応させてなる硬化ポリマーは、架橋に際し、必要に応じて硬化触媒を添加してもよい。
The content ratio of the component (a) and the component (b) is a weight ratio represented by the following formula (2) in terms of adhesiveness, heat resistance, solvent resistance, water resistance, durability, and the like. Is preferred.
1/6 <(a ′) / (b ′) <6/1 (2)
(In the above formula, (a ′) represents the molar equivalent amount of the epoxy group contained in the component (a), and (b ′) represents the total molar equivalent amount of the amino group and the imino group contained in the component (b). )
The cured polymer obtained by crosslinking reaction of the components (a) to (c) may be added with a curing catalyst as necessary at the time of crosslinking.

平坦化層は塗布によって形成されることが好ましく、例えば(a)〜(c)成分を架橋反応させてなる硬化ポリマーの場合、(a)〜(c)の各成分及び溶剤を含むコーティング用組成物を塗布層上に塗布し、加熱硬化させることによって形成することができる。塗布方法として、ディップコート、スプレーコート、フローコート、ロールコート、バーコート、スピンコート等、通常使われている方法が例示される。
平坦化層の膜厚は0.01〜100μmが好ましい。特に硬化ポリマーの場合、膜厚が100μmを超えると硬化に時間がかかる。
The planarizing layer is preferably formed by coating. For example, in the case of a cured polymer obtained by crosslinking the components (a) to (c), the coating composition containing the components (a) to (c) and a solvent. It can be formed by applying a product on a coating layer and curing it by heating. Examples of the application method include commonly used methods such as dip coating, spray coating, flow coating, roll coating, bar coating, and spin coating.
The thickness of the planarizing layer is preferably 0.01 to 100 μm. In particular, in the case of a cured polymer, it takes time to cure if the film thickness exceeds 100 μm.

本発明の平坦化層は、クロスカット試験法によって測定される平坦化層の剥離面積が10%以下であることが好ましい。ここで、クロスカット試験法によって測定される平坦化層の剥離面積とは、平坦化層上に1mmのマス目を100個、碁盤目状にクロスカットを施し、その上に24mm幅のセロハンテープ(ニチバン社製登録商標)を貼り付けて、180°の剥離角度で急激に剥がした後、剥離面を観察し、(剥離したマス目の数/100個)×100で求められる値で定義される。
なお本評価方法は、平坦化層と塗膜層とがクロスカットされているので、基材−塗膜層間、塗膜層−平坦化層間において、より接着力が弱い界面で剥離する。そこで剥離試験後、光学顕微鏡でどちらの界面で剥離しているかを判断するものとする。
The planarization layer of the present invention preferably has a planarization layer peeling area of 10% or less as measured by a cross-cut test method. Here, the peeled area of the flattened layer measured by the crosscut test method means that 100 squares of 1 mm 2 are formed on the flattened layer, a crosscut is performed in a grid pattern, and a cellophane having a width of 24 mm is formed thereon. Affixed with a tape (registered trademark manufactured by Nichiban Co., Ltd.), peeled off rapidly at a peeling angle of 180 °, and then observed on the peeled surface, defined as (number of peeled squares / 100 pieces) × 100 Is done.
In this evaluation method, since the flattening layer and the coating layer are cross-cut, peeling occurs at an interface having a weaker adhesive force between the base material-coating layer and the coating layer-planarizing layer. Therefore, after the peel test, it is determined which interface is peeled off with an optical microscope.

平坦化層の剥離面積が上限を超える場合、塗膜層を介した基材フィルムと平坦化層との接着性が十分でなく、十分なガスバリア性が得られないことがある。一方、下限は小さければ小さいほど塗膜層と平坦化層との接着性にすぐれ、良好なガスバリア性が得られ、通常は少なくとも0%である。
剥離面積を上述の範囲にするための達成手段としては、平坦化層として、塗膜層と接着性の高い剤、例えばケイ素含有樹脂及びポリビニルアルコールおよびその共重合体、特に好ましくは(a)〜(c)成分を架橋反応させてなる硬化ポリマーを用いることで達成される。
When the peeling area of a planarization layer exceeds an upper limit, the adhesiveness of the base film and planarization layer through a coating film layer is not enough, and sufficient gas barrier property may not be obtained. On the other hand, the smaller the lower limit, the better the adhesion between the coating layer and the flattening layer, and good gas barrier properties can be obtained, usually at least 0%.
As an achievement means for bringing the peeled area into the above-mentioned range, as the planarizing layer, an agent having high adhesion to the coating layer, for example, a silicon-containing resin and polyvinyl alcohol and a copolymer thereof, particularly preferably (a) to This is achieved by using a cured polymer obtained by crosslinking the component (c).

<ガスバリア加工用(積層)ポリエステルフィルム及びガスバリア性積層ポリエステルフィルム>
本発明におけるガスバリア加工用(積層)ポリエステルフィルムとは、ガスバリア層が積層される前の段階の層構成のポリエステルフィルムをさす。具体的には、ポリエステルからなる基材フィルムの少なくとも片面に塗膜層が設けられた層構成をガスバリア加工用ポリエステルフィルムと称する。またポリエステルからなる基材フィルムの少なくとも片面に塗膜層と平坦化層とを有する層構成の場合、ガスバリア加工用積層ポリエステルフィルムと称する。これらの層構成の場合、ガスバリア加工用(積層)ポリエステルフィルム自体では有機ELディスプレイ基板や電子ペーパー基板として十分なガスバリア性は有さないものの、ガスバリア加工用(積層)ポリエステルフィルムに、さらに後述するガスバリア層を設けた場合、従来にない優れた水蒸気ガスバリア性を発現することができ、本発明ではガスバリア層を含む積層ポリエステルフィルムをガスバリア性積層ポリエステルフィルムと称している。
<Gas barrier processing (laminated) polyester film and gas barrier laminated polyester film>
The gas barrier processing (laminated) polyester film in the present invention refers to a polyester film having a layer structure at a stage before the gas barrier layer is laminated. Specifically, a layer structure in which a coating film layer is provided on at least one side of a base film made of polyester is referred to as a gas barrier processing polyester film. Moreover, in the case of the layer structure which has a coating film layer and a planarization layer on the at least single side | surface of the base film which consists of polyester, it calls the laminated polyester film for gas barrier processes. In the case of these layer configurations, the gas barrier processing (laminated) polyester film itself does not have sufficient gas barrier properties as an organic EL display substrate or an electronic paper substrate, but the gas barrier processing (laminated) polyester film has a gas barrier described later. When the layer is provided, it is possible to exhibit an excellent water vapor gas barrier property that has not been conventionally obtained. In the present invention, the laminated polyester film including the gas barrier layer is referred to as a gas barrier laminated polyester film.

<ガスバリア層>
本発明において、ガスバリア性をさらに高める目的で、少なくとも1つの塗膜層上または少なくとも1つの平坦化層上にガスバリア層が積層されたガスバリア性積層ポリエステルフィルムを用いることができる。かかるガスバリア層として、金属酸化物または金属窒化物が例示される。
<Gas barrier layer>
In the present invention, for the purpose of further enhancing the gas barrier property, a gas barrier laminated polyester film in which a gas barrier layer is laminated on at least one coating layer or at least one planarizing layer can be used. Examples of such a gas barrier layer include metal oxides or metal nitrides.

金属酸化物として、例えば酸化亜鉛、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫、酸化錫インジウム(ITO)、酸化タンタニウム、酸化ジルコニウムおよび酸化ニオジウムが挙げられ、1種類またはそれらを組み合わせて用いてもよい。これらの金属酸化物の中でも、主成分は酸化亜鉛、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムが好ましく、特にガスバリア性や接着性などの点で酸化ケイ素が好ましい。これらの金属化合物には、さらに従たる成分として鉄、ニッケル、クロム、チタン、インジウム、錫、アンチモン、タングステン、モリブデン、銅からなる群から選ばれる少なくとも1つの金属が含まれていてもよい。また膜の可撓性や透明性を改善する目的で炭素やフッ素を適宜含有させてもよい。主成分はガスバリア層の重量を基準として70重量%以上、従たる成分はガスバリア層の重量を基準として30重量%以下の範囲でそれぞれ添加することができる。   Examples of the metal oxide include zinc oxide, silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, titanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), tantalum oxide, zirconium oxide, and niobium oxide. May be used in combination. Among these metal oxides, zinc oxide, silicon oxide, aluminum oxide, and magnesium oxide are preferable as the main component, and silicon oxide is particularly preferable in terms of gas barrier properties and adhesiveness. These metal compounds may further contain at least one metal selected from the group consisting of iron, nickel, chromium, titanium, indium, tin, antimony, tungsten, molybdenum, and copper as a subordinate component. Carbon and fluorine may be appropriately contained for the purpose of improving the flexibility and transparency of the film. The main component can be added in a range of 70% by weight or more based on the weight of the gas barrier layer, and the subordinate component can be added in a range of 30% by weight or less based on the weight of the gas barrier layer.

酸化ケイ素の組成は、X線光電子分光法、X線マイクロ分光法、オージェ電子分光法、ラザホード後方散乱法などにより分析、決定される。透過率、屈曲性などの点で、SiOで表した平均組成において、xは1.5以上2.0以下の範囲が好ましい。xが1.5よりも小さいと屈曲性、透明性が低下することがある。
金属窒化物としては、窒化アルミニウム、窒化珪素および窒化ホウ素が例示され、1種類またはそれらを組み合わせて用いてもよい。
The composition of silicon oxide is analyzed and determined by X-ray photoelectron spectroscopy, X-ray microspectroscopy, Auger electron spectroscopy, Rutherford backscattering, and the like. In terms of transmittance and flexibility, the average composition represented by SiO x is preferably in the range of 1.5 to 2.0. When x is smaller than 1.5, flexibility and transparency may be deteriorated.
Examples of the metal nitride include aluminum nitride, silicon nitride, and boron nitride, and one kind or a combination thereof may be used.

ガスバリア層は、公知のスパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等により形成される。特にスパッタ法は、金属酸化物の酸化度を自由に変えることができることができ、しかも長時間に渡って膜組成の変化が小さく、膜厚均一性、表面平坦性に優れる利点を有する。
金属酸化物層の厚さは2〜200nmの範囲が好ましい。金属酸化物層の厚さが2nm未満では均一に膜を形成することが難しく、膜が形成されない部分が発生してガスバリア性を損なうことがある。一方厚みが200nmを超える場合、透明性、屈曲性が低下してクラックが生じ、ガスバリア性を損なうことがある。
The gas barrier layer is formed by a known sputtering method, vacuum deposition method, ion plating method, plasma CVD method or the like. In particular, the sputtering method can freely change the oxidation degree of the metal oxide, and has the advantage that the change in the film composition is small over a long period of time, and the film thickness uniformity and surface flatness are excellent.
The thickness of the metal oxide layer is preferably in the range of 2 to 200 nm. If the thickness of the metal oxide layer is less than 2 nm, it is difficult to form a film uniformly, and a portion where the film is not formed may occur and the gas barrier property may be impaired. On the other hand, when the thickness exceeds 200 nm, the transparency and flexibility are deteriorated to cause cracks, which may impair gas barrier properties.

<湿度膨張係数αh>
本発明のガスバリア性積層ポリエステルフィルムのMD方向およびTD方向の湿度膨張係数αhは、それぞれ1〜10ppm/%RHの範囲にあることが好ましい。ガスバリア性積層ポリエステルフィルムの湿度膨張係数αhがかかる範囲にあることにより、高いガスバリア性が得られる。MD方向およびTD方向の湿度膨張係数αhは、好ましくはそれぞれ1〜5ppm/%RHの範囲である。MD方向およびTD方向の湿度膨張係数αhがそれぞれ下限に満たない場合、基材フィルムを構成するポリエステルに対して吸湿性の低いブレンド成分を多量に加える必要性が生じ、これら成分によってポリエステルフィルムが有する耐熱寸法安定性および透明性が低下することがある。一方、MD方向およびTD方向の湿度膨張係数αhがそれぞれ上限を超える場合、高湿度雰囲気下において基材フィルムが吸湿膨張してしまい、基板上に積層させるガスバリア層を含む各種機能層との湿度変化に対する寸法変化の違いから、各種機能層にクラックが生じるなどして機能層が本来の機能を十分に発揮できなくなり、高いガスバリア性が得られないことがある。
<Humidity expansion coefficient αh>
The humidity expansion coefficient αh in the MD direction and the TD direction of the gas barrier laminated polyester film of the present invention is preferably in the range of 1 to 10 ppm /% RH, respectively. When the humidity expansion coefficient αh of the gas barrier laminated polyester film is in such a range, high gas barrier properties can be obtained. The humidity expansion coefficient αh in the MD direction and the TD direction is preferably in the range of 1 to 5 ppm /% RH, respectively. When the humidity expansion coefficient αh in the MD direction and the TD direction is less than the lower limit, it becomes necessary to add a large amount of a blend component having low hygroscopicity to the polyester constituting the base film, and the polyester film has these components. Heat resistant dimensional stability and transparency may be reduced. On the other hand, if the humidity expansion coefficient αh in the MD direction and the TD direction exceed the upper limit, the base film is hygroscopically expanded in a high humidity atmosphere, and the humidity change with various functional layers including a gas barrier layer laminated on the substrate Due to the difference in dimensional change with respect to the above, cracks may occur in various functional layers, so that the functional layers cannot sufficiently exhibit their original functions, and high gas barrier properties may not be obtained.

これらの湿度膨張係数αhの範囲を達成するためには、ポリエステル基材フィルムの少なくとも1つの塗膜層上にガスバリア層を含む層構成、あるいはポリエステル基材フィルムの少なくとも1つの塗膜層上に平坦化層とガスバリア層とが積層された層構成、のいずれかの層構成を有すること、そして塗膜層を介して基材フィルム、ガスバリア層双方との接着性を高めることが挙げられる。各層が密着することで水蒸気の透過経路となる欠陥が少なくなる。また何らかの応力がかかった場合に、界面剥離あるいはガスバリア層にクラックが発生することによる欠陥が生じにくいため、水蒸気の拡散速度が遅くなり、高湿度雰囲気の状態であっても基材フィルムが吸湿しにくくなり、本発明の湿度膨張係数αhの範囲を有するガスバリア性積層フィルムが得ることができる。   In order to achieve these ranges of the humidity expansion coefficient αh, a layer structure including a gas barrier layer on at least one coating layer of the polyester base film, or flat on at least one coating layer of the polyester base film A layer structure in which a chemical layer and a gas barrier layer are laminated, and an increase in adhesion to both the base film and the gas barrier layer through the coating layer. When the layers are in close contact with each other, defects that serve as a water vapor transmission path are reduced. In addition, when some stress is applied, defects due to interfacial debonding or cracking in the gas barrier layer are less likely to occur, so the water vapor diffusion rate is slow, and the substrate film absorbs moisture even in a high humidity atmosphere. It becomes difficult to obtain a gas barrier laminate film having a range of the humidity expansion coefficient αh of the present invention.

本発明の湿度膨張係数αhは、更に詳しくは、i)層構成としてポリエステル基材フィルムの片面に塗膜層、平坦化層、ガスバリア層が順に積層された層構成であるか、またはポリエステルからなる基材フィルムの両面に少なくとも塗膜層及びガスバリア層をこの順で含む層構成であること、ii)上述の各層の接着性を高めること、具体的には基材フィルムならびにガスバリア層または平坦化層との接着性を高める効果を有する特定の塗膜層を用いること、およびiii)基材フィルムが2.9倍以上の倍率でMD方向およびTD方向の延伸されてなること、のi)〜iii)全てを具備することによって達成される。また、ポリエステル基材フィルムの片面に塗膜層、平坦化層、ガスバリア層が順に積層された層構成の場合、さらにiv)基材フィルムの厚みの下限が既述の範囲を満たすことが好ましい。
さらに5ppm/%RH以下の湿度膨張係数αhを達成する手段として、上述のi)層構成が、ポリエステル基材フィルムの両面に塗膜層、平坦化層、ガスバリア層が順に積層された3層構成を有することが好ましい。
More specifically, the humidity expansion coefficient αh of the present invention is i) a layer structure in which a coating layer, a planarizing layer, and a gas barrier layer are sequentially laminated on one side of a polyester base film as a layer structure, or made of polyester. A layer structure including at least a coating layer and a gas barrier layer in this order on both surfaces of the base film; ii) enhancing the adhesion of each of the above layers; specifically, the base film and the gas barrier layer or planarizing layer I) to iii) using a specific coating layer having an effect of improving the adhesiveness to iii) and iii) stretching the substrate film in the MD direction and the TD direction at a magnification of 2.9 times or more. ) Achieved by having everything. Moreover, in the case of a layer structure in which a coating layer, a flattening layer, and a gas barrier layer are sequentially laminated on one side of the polyester base film, it is further preferable that the lower limit of the thickness of the base film satisfies the above-mentioned range.
Furthermore, as means for achieving a humidity expansion coefficient αh of 5 ppm /% RH or less, the above-mentioned i) layer structure is a three-layer structure in which a coating film layer, a flattening layer, and a gas barrier layer are sequentially laminated on both sides of a polyester base film. It is preferable to have.

<水蒸気透過率>
本発明のガスバリア性積層ポリエステルフィルムは、40℃、90%RHの高湿度条件において、水蒸気透過率が0.1g/m2/day以下であることが好ましい。また、40℃、90%RHでの水蒸気透過率は、より好ましくは0.05g/m2/day以下、特に好ましくは0.01g/m2/day以下である。40℃、90%RHでの水蒸気透過率の下限は特に限定はなく、通常はMOCON法の検出限界未満である。換算した場合の水蒸気透過率の下限は、好ましくは10×10-6g/m2/day以上である。
<Water vapor transmission rate>
The gas barrier laminate polyester film of the present invention preferably has a water vapor transmission rate of 0.1 g / m 2 / day or less under high humidity conditions of 40 ° C. and 90% RH. Further, 40 ° C., the water vapor transmission rate of at 90% RH, more preferably 0.05g / m 2 / day or less, particularly preferably not more than 0.01g / m 2 / day. The lower limit of the water vapor transmission rate at 40 ° C. and 90% RH is not particularly limited, and is usually less than the detection limit of the MOCON method. The lower limit of the water vapor transmission rate when converted is preferably 10 × 10 −6 g / m 2 / day or more.

上述の水蒸気透過率の範囲は、塗膜層の構成成分として(A)〜(C)成分を用いて平坦化層またはガスバリア層との接着性を高め、かつ層構成がポリエステル基材フィルムの片面に塗膜層、平坦化層、ガスバリア層が順に積層された層構成であるか、またはポリエステルからなる基材フィルムの両面に少なくとも塗膜層及びガスバリア層をこの順で含む層構成であることによって達成される。ガスバリア層自体はガスバリア機能を有する層であるが、ガスバリア層を有するだけではガスの透過経路となり得る何らかの欠陥が生じてしまい、有機ELディスプレイや電子ペーパー用途に必要なレベルのガスバリア性、すなわち上述の水蒸気透過率で表されるガスバリア性を得ることができない。そこで、本発明の塗膜層及び平坦化層を介して基材フィルムに金属酸化物または金属窒化物からなる層を積層させることにより、上述の範囲のガスバリア性が達成される。さらに基材フィルムがエチレンナフタレートであることによって、より高いガスバリア性が達成される。   The range of the water vapor transmission rate described above is that the components (A) to (C) are used as components of the coating film layer to improve the adhesion with the planarizing layer or the gas barrier layer, and the layer configuration is one side of the polyester base film. A layer configuration in which a coating layer, a planarization layer, and a gas barrier layer are laminated in order, or a layer configuration including at least a coating layer and a gas barrier layer in this order on both sides of a base film made of polyester. Achieved. The gas barrier layer itself is a layer having a gas barrier function. However, the presence of the gas barrier layer alone causes some defect that can be a gas transmission path, and the gas barrier property at the level required for organic EL display and electronic paper applications, that is, the above-described gas barrier layer. The gas barrier property represented by the water vapor transmission rate cannot be obtained. Then, the gas barrier property of the above-mentioned range is achieved by laminating | stacking the layer which consists of a metal oxide or a metal nitride on a base film through the coating-film layer and planarization layer of this invention. Furthermore, when the base film is ethylene naphthalate, higher gas barrier properties are achieved.

<製膜方法>
本発明のポリエステルフィルムは、ポリエステルをフィルム状に溶融押出し、キャスティングドラムで冷却固化させて未延伸フィルムとし、この未延伸フィルムをポリエステル樹脂のTg〜(Tg+60)℃で縦(MD)方向、横(TD)方向に倍率2.0〜5.0倍で2軸に延伸し、(Tm−100)〜(Tm―5)℃の温度で1〜100秒間熱固定することで得られる。
MD方向及びTD方向の延伸倍率は、本発明のヤング率および湿度膨張係数αhを具備するためには下限が2.9倍以上であることが好ましい。またMD方向及びTD方向の延伸倍率は、本発明のヤング率及び200℃における熱収縮率を具備するために上限が3.9倍以下であることが好ましい。
<Film forming method>
The polyester film of the present invention is obtained by melt-extruding polyester into a film shape, cooling and solidifying with a casting drum to form an unstretched film, and this unstretched film is stretched in the machine direction (MD) and width ( It is obtained by stretching biaxially at a magnification of 2.0 to 5.0 in the (TD) direction and heat-fixing at a temperature of (Tm-100) to (Tm-5) ° C. for 1 to 100 seconds.
The lower limit of the draw ratio in the MD direction and the TD direction is preferably 2.9 times or more in order to have the Young's modulus and the humidity expansion coefficient αh of the present invention. The upper limit of the draw ratio in the MD direction and the TD direction is preferably 3.9 times or less in order to have the Young's modulus of the present invention and the heat shrinkage rate at 200 ° C.

延伸は一般に用いられる方法、例えばロールによる方法やステンターを用いる方法で行うことができ、MD方向、TD方向を同時に延伸してもよく、またMD方向、TD方向に逐次延伸してもよい。塗膜層は逐次延伸の場合、一方向に延伸した1軸配向フィルムに水性塗布液を塗布し、そのままもう一方向に延伸し熱固定する方法で設けることができる。塗膜層の塗布方法としては、公知の任意の塗布法が適用できる。例えばロールコート法、グラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法及びカーテンコート法などを単独または組み合わせて用いることができる。塗布量は走行しているフイルム1m2当り0.5〜20g、更に1〜10gが好ましい。水性液は水分散液又は乳化液として用いるのが好ましい。 Stretching can be performed by a generally used method, for example, a method using a roll or a method using a stenter, and the MD direction and the TD direction may be stretched simultaneously, or the MD direction and the TD direction may be sequentially stretched. In the case of sequential stretching, the coating layer can be provided by a method in which an aqueous coating solution is applied to a uniaxially oriented film stretched in one direction, and stretched in the other direction as it is and heat-set. As a coating method of the coating layer, any known coating method can be applied. For example, a roll coating method, a gravure coating method, a roll brush method, a spray coating method, an air knife coating method, an impregnation method, and a curtain coating method can be used alone or in combination. The coating amount is preferably 0.5 to 20 g, more preferably 1 to 10 g per 1 m 2 of the running film. The aqueous liquid is preferably used as an aqueous dispersion or emulsion.

さらに弛緩処理を行う場合は、加熱処理をフィルムの(X−80)〜X℃の温度において行うことが効果的である。ここでXは熱固定温度のことを表す。弛緩処理の方法としては、熱固定〜ロールに巻き取るまでの間において、i)熱固定ゾーンの途中でフィルムの両端部を切り離し、フィルムの供給速度に対して引き取り速度を減速させる方法、ii)2つの速度の異なる搬送ロールの間においてIRヒーターで加熱する方法、iii)加熱搬送ロール上にフィルムを搬送させ加熱搬送ロール後の搬送ロールの速度を減速させる方法、iv)熱固定後熱風を吹き出すノズルの上にフィルムを搬送させながら、供給の速度よりも引き取りの速度を減速する方法が挙げられる。またv)製膜機で巻き取った後、フィルムを加熱させながら、フィルム供給側のロール速度より、巻き取り側のロール速度を減速させて弛緩処理を行う方法も挙げられる。この場合の加熱手段は、ロールを加熱する方法、加熱オーブンやIRヒーターを用いる方法などが挙げられる。
弛緩処理は、いずれの方法を用いても良く、供給側の速度に対して引き取り側の速度の減速率を0.1〜10%にして弛緩処理を行うことが好ましい。
Furthermore, when performing a relaxation | loosening process, it is effective to perform heat processing in the temperature of (X-80) -X degreeC of a film. Here, X represents the heat setting temperature. As a relaxation treatment method, i) a method in which both ends of the film are cut off in the middle of the heat setting zone and the take-up speed is reduced with respect to the supply speed of the film, between the heat setting and the roll winding, ii) A method of heating with an IR heater between two transport rolls of different speeds, iii) A method of transporting a film on the heat transport roll and reducing the speed of the transport roll after the heat transport roll, iv) Blowing hot air after heat fixing There is a method of reducing the take-up speed rather than the supply speed while conveying the film on the nozzle. Moreover, after winding with a film forming machine, the method of performing a relaxation process by decelerating the roll speed on the winding side from the roll speed on the film supply side while heating the film is also mentioned. Examples of the heating means in this case include a method of heating a roll and a method using a heating oven or an IR heater.
Any method may be used for the relaxation treatment, and it is preferable to perform the relaxation treatment by setting the rate of reduction of the take-up side speed to 0.1 to 10% with respect to the supply-side speed.

本発明の200℃での熱収縮率特性を具備するポリエステルフィルムを得るためには、3.9倍以下の延伸倍率でMD方向、TD方向にそれぞれ延伸し、(Tm−100)〜(Tm−5)℃の温度で1〜100秒間熱固定を行い、その後(X−80)〜X℃の温度で弛緩処理を行うことによって達成される。
平坦化層は、得られたポリエステルフィルムの塗膜層上に、平坦化組成物溶液を塗布し、100〜150℃の温度範囲で熱処理を行うことで形成される。さらに塗膜層または平坦化層上に、スパッタリング法等を用いてガスバリア層が形成される。
In order to obtain the polyester film having the heat shrinkage characteristic at 200 ° C. of the present invention, the film is stretched in the MD direction and the TD direction at a stretching ratio of 3.9 times or less, and (Tm-100) to (Tm- 5) It is achieved by performing heat setting at a temperature of 1 ° C. for 1 to 100 seconds and then performing a relaxation treatment at a temperature of (X-80) to X ° C.
A planarization layer is formed by apply | coating a planarization composition solution on the coating film layer of the obtained polyester film, and performing heat processing in a 100-150 degreeC temperature range. Further, a gas barrier layer is formed on the coating layer or the planarizing layer by using a sputtering method or the like.

<用途>
本発明のガスバリア加工用ポリエステルフィルムは、ガスバリア性及び透明性が強く求められる用途、例えば有機ELディスプレイ、電子ペーパーなどの画像表示装置の基板フィルムとして好適に使用される。また液晶ディスプレイ、有機TFTなどの基板フィルムとしても用いることができる。
また本発明のガスバリア性積層ポリエステルフィルムは、ガスバリア性、透明性に優れることから、これらの特性が求められる画像表示装置、例えば有機ELディスプレイ基板、電子ペーパー基板として好適に使用される。また液晶ディスプレイ基板、有機TFT基板としても用いることができる。
<Application>
The polyester film for gas barrier processing of the present invention is suitably used as a substrate film for an image display device such as an organic EL display or electronic paper, in which gas barrier properties and transparency are strongly required. It can also be used as a substrate film for liquid crystal displays, organic TFTs and the like.
Moreover, since the gas barrier laminated polyester film of the present invention is excellent in gas barrier properties and transparency, it is suitably used as an image display device that requires these characteristics, such as an organic EL display substrate and an electronic paper substrate. It can also be used as a liquid crystal display substrate or an organic TFT substrate.

以下、実施例に基づき本発明を説明する。各特性値ならびに評価法は下記の方法によって測定、評価した。なお、フィルムサンプルとは、ポリエステル基材フィルムと、塗膜層が形成されている場合は塗膜層とからなるフィルムを指す。また、実施例中の部および%は、特に断らない限り、それぞれ重量部および重量%を意味する。   Hereinafter, the present invention will be described based on examples. Each characteristic value and evaluation method were measured and evaluated by the following methods. In addition, a film sample refers to the film which consists of a polyester base film and a coating film layer, when the coating film layer is formed. Moreover, unless otherwise indicated, the part and% in an Example mean a weight part and weight%, respectively.

(1)フィルム厚み
電子マイクロメータ(アンリツ(株)製の商品名「K−312A型」)を用いて針圧30gにてフィルムサンプル厚みを測定した。
(1) Film thickness Film sample thickness was measured at 30 g of needle pressure using an electronic micrometer (trade name “K-312A type” manufactured by Anritsu Corporation).

(2)ヘイズ、全光線透過率
JIS規格 K7105に従い、フィルムサンプルの全光線透過率Tt(%)と散乱光透過率Td(%)を求め、ヘイズ((Td/Tt)×100)(%)を算出する。
ヘイズ
A: 1.5%以下
B: 1.5%を超える
全光線透過率
A: 85%以上
B: 85%未満
(2) Haze, total light transmittance According to JIS standard K7105, the total light transmittance Tt (%) and the scattered light transmittance Td (%) of the film sample are obtained, and haze ((Td / Tt) × 100) (%) Is calculated.
Haze A: 1.5% or less B: More than 1.5% Total light transmittance A: 85% or more B: Less than 85%

(3)熱収縮率
フィルムサンプルに30cm間隔で標点をつけ、荷重をかけずに所定の温度のオーブンで熱処理を実施し、熱処理後の標点間隔を測定して、MD方向とTD方向において、それぞれ下記式にて熱収縮率を算出した。
熱収縮率(%)=((熱処理前標点間距離−熱処理後標点間距離)/熱処理前標点間距離)×100
150℃×30分熱処理後の熱収縮率について下記基準にて評価した。
A: MD、TDそれぞれの150℃熱収縮率≦0.05%
B: 0.05%<MD、TDそれぞれの150℃熱収縮率≦0.1%
C: 0.1%<MD、TDそれぞれの150℃熱収縮率
200℃×10分熱処理後の熱収縮率について下記基準にて評価した。
A: MD、TDそれぞれの200℃熱収縮率≦0.2%
B: 0.2%<MD、TDそれぞれの200℃熱収縮率
(3) Heat shrinkage rate Marks are attached to film samples at intervals of 30 cm, heat treatment is performed in an oven at a predetermined temperature without applying a load, the distance between the marks after heat treatment is measured, and MD direction and TD direction are measured. The thermal shrinkage rate was calculated by the following formula.
Thermal contraction rate (%) = ((distance between the pre-heat treatment gauge points−distance between the heat treatment gauge points) / distance between the heat treatment gauge points) × 100
The heat shrinkage rate after heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes was evaluated according to the following criteria.
A: Thermal shrinkage of each of MD and TD at 150 ° C. ≦ 0.05%
B: 0.05% <MD, TD 150 ° C. heat shrinkage ratio ≦ 0.1%
C: 0.1% <MD and TD, 150 ° C. thermal shrinkage rate Each of the thermal shrinkage rates after heat treatment at 200 ° C. × 10 minutes was evaluated according to the following criteria.
A: Thermal shrinkage of each of MD and TD at 200 ° C. ≦ 0.2%
B: 0.2% <MD, TD 200 degreeC heat shrinkage of each

(4)塗膜層の厚み
フィルムの小片をエポキシ樹脂(リファインテック(株)製の商品名「エポマウント」)中に包埋し、Reichert−Jung社製Microtome2050を用いて包埋樹脂ごと50nm厚さにスライスし、透過型電子顕微鏡(LEM−2000)にて加速電圧100KV、倍率10万倍にて観察し、塗膜層の厚みを測定した。
(4) Thickness of the coating layer A small piece of film is embedded in an epoxy resin (trade name “Epomount” manufactured by Refine Tech Co., Ltd.), and the total thickness of the embedded resin is 50 nm using a Microtome 2050 manufactured by Reichert-Jung. The film was sliced and observed with a transmission electron microscope (LEM-2000) at an acceleration voltage of 100 KV and a magnification of 100,000, and the thickness of the coating layer was measured.

(5)塗膜層中の粒子の平均粒径
塗膜層の厚みの測定と同様の操作を行い、100個の粒子の粒子径を測定し、平均値を平均粒子径とした。
(5) Average particle diameter of particles in the coating layer The same operation as the measurement of the thickness of the coating layer was performed to measure the particle size of 100 particles, and the average value was taken as the average particle size.

(6)塗膜層の耐削れ性
20mm幅に切断したフィルムサンプルを用い、フィルムの塗膜層面を直径10mmの円柱状ステンレス製固定バーにあてて200gの荷重を加えた状態で80m走行させた後、バーに付着した塗膜の白粉を観察し、耐削れ性を下記の通り評価する。
A: バーに白粉の付着が無い ・・・・・耐削れ性良好
B: バーに白粉が少量付着する ・・・・・耐削れ性やや不良
(6) Scratch resistance of coating film layer Using a film sample cut to a width of 20 mm, the coating film layer surface of the film was applied to a cylindrical stainless steel fixing bar having a diameter of 10 mm, and was run for 80 m with a load of 200 g applied. Then, the white powder of the coating film adhering to the bar is observed, and the abrasion resistance is evaluated as follows.
A: No white powder adheres to the bar ...... Good abrasion resistance B: A small amount of white powder adheres to the bar ...... Slightly poor abrasion resistance

(7)ブロッキング性
50mm幅に切断したフィルムサンプルを2枚用い、塗膜層面と塗膜層が塗設されていない面とを重ねあわせ.50kg/cmの荷重下、60℃×80%RHにて17時間処理した後、塗膜層面と非塗膜層面との剥離力を測定し、耐ブロッキング性を下記の通り評価する。
A: 剥離力≦10g ・・・耐ブロッキング性良好
B: 10g<剥離力≦30g ・・・耐ブロッキング性やや不良
C: 30g<剥離力 ・・・耐ブロッキング性不良
(7) Blocking property Using two film samples cut to a width of 50 mm, the coating layer surface and the surface on which the coating layer is not applied are overlapped. After treating for 17 hours at 60 ° C. × 80% RH under a load of 50 kg / cm 2 , the peel strength between the coating layer surface and the non-coating layer surface is measured, and blocking resistance is evaluated as follows.
A: Peeling force ≦ 10 g: Good blocking resistance B: 10 g <Peeling force ≦ 30 g—Slightly poor blocking resistance C: 30 g <Peeling force: Poor blocking resistance

(8)平坦化層、基材層との密着性
エチレン−ビニルアルコール共重合体(クラレ株式会社製、製品名「エバール」、以下EVOHと略記することがある)100部を、水720部、n−プロパノール1080部の混合溶媒に加熱溶解させ、この溶液にレベリング剤(東レダウコーニング社製、製品名「SH30PA」)を0.1部、酢酸39部加えた後、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランを211部加え10分間撹拌した。更にこの溶液に3−アミノプロピルトリメトキシシランを77部加えて3時間撹拌しコーティング組成物を得た。このコーティング組成物を、ポリエステルフィルムの塗膜層面上にコーティングし、130℃×3分熱処理を行い、厚みが2μmの平坦化層を形成した。
平坦化層面に碁盤目のクロスカット(1mmのマス目を100個)を施し、その上に24mm幅のセロハンテープ(ニチバン社製)を貼り付け、180°の剥離角度で急激に剥がした後、剥離面を観察し、下記基準で評価した。なお本評価方法は、平坦化層と塗膜層とがクロスカットされているので、基材−塗膜層間、塗膜層−平坦化層間において、より接着力が弱い界面で剥離する。そこで剥離試験後、塗膜層に含まれる微粒子の存在を光学顕微鏡で確認し、どちらの界面で剥離しているかを判断した。
A: 剥離面積が10%未満 ・・・・・・接着力極めて良好
B: 剥離面積が10%以上40%未満・・・接着力やや良好
C: 剥離面積が40%を超えるもの ・・・接着力極めて不良
(8) Adhesiveness with flattening layer and substrate layer 100 parts of ethylene-vinyl alcohol copolymer (manufactured by Kuraray Co., Ltd., product name “EVAL”, hereinafter sometimes abbreviated as EVOH), 720 parts of water, After dissolving in 1080 parts of n-propanol mixed solvent with heating, 0.1 part of a leveling agent (product name “SH30PA” manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) and 39 parts of acetic acid were added to this solution, and then 2- (3,4 -Epoxycyclohexyl) 211 parts of trimethylsilane was added and stirred for 10 minutes. Further, 77 parts of 3-aminopropyltrimethoxysilane was added to this solution and stirred for 3 hours to obtain a coating composition. This coating composition was coated on the coating layer surface of the polyester film and subjected to heat treatment at 130 ° C. for 3 minutes to form a flattened layer having a thickness of 2 μm.
After cross-cutting cross-cuts (100 squares of 1 mm 2 ) on the flattened layer surface, 24 mm wide cellophane tape (manufactured by Nichiban Co., Ltd.) is pasted on it and peeled off rapidly at a 180 ° peeling angle. The peeled surface was observed and evaluated according to the following criteria. In this evaluation method, since the flattening layer and the coating layer are cross-cut, peeling occurs at an interface having a weaker adhesive force between the base material-coating layer and the coating layer-planarizing layer. Therefore, after the peeling test, the presence of fine particles contained in the coating layer was confirmed with an optical microscope, and it was judged at which interface the peeling occurred.
A: Peeling area is less than 10% ·························································· B: Peeling area is 10% or more and less than 40% Very bad

(9)湿度膨張係数αh
フィルムを長さ15mm、幅5mmにフィルム試料片を切り出し、真空理工製TMA3000にセットして、30℃、窒素雰囲気下で、湿度を30%RH×16hr、及び湿度70%RH×16hrに一定に保ち、それぞれの湿度条件時のサンプル長さを測定し、下記式(3)にて湿度膨張係数を算出する。なお、MD方向の湿度膨張係数とはフィルムの縦方向を測定方向としたものであり、TD方向の湿度膨張係数とはフィルムの横方向を測定方向としたものである。それぞれの方向について10個のフィルムサンプルを測定し、その平均値をαhとした。
αh={(L−L)/(L×ΔH)} ・・・(3)
ここで、上式中、Lは湿度30%RH時の試料片長(mm)、Lは湿度70%RH時の試料片長(mm)、ΔHは40(=70−30)%RHをそれぞれ示す。
なお、表1、2に記載の実施例1〜31、比較例2〜8は、(8)密着性及び(10)ガスバリア性の評価方法に従って、ポリエステル基材フィルムの片面に塗膜層、平坦化層及びガスバリア層を積層した積層フィルムを用いてαhの測定を行った。表3に記載の実施例32〜35、比較例9、10は、それぞれ表3に記載に積層構成のフィルムを用いてαhの測定を行った。
A:1ppm/%RH≦αh<5ppm/%RH ・・寸法安定性極めて良好
B:5ppm/%RH≦αh≦10ppm/%RH ・・寸法安定性良好
C:10ppm/%RH<αh≦15ppm/%RH ・・寸法安定性不良
D:15ppm/%RH<αh ・・寸法安定性極めて不良
(9) Humidity expansion coefficient αh
Cut out a film sample piece with a length of 15 mm and a width of 5 mm, set it on TMA3000 manufactured by Vacuum Riko, and maintain a constant humidity of 30% RH × 16 hr and a humidity of 70% RH × 16 hr in a nitrogen atmosphere at 30 ° C. And the sample length under each humidity condition is measured, and the humidity expansion coefficient is calculated by the following equation (3). Note that the humidity expansion coefficient in the MD direction is the measurement direction in the longitudinal direction of the film, and the humidity expansion coefficient in the TD direction is the measurement direction in the horizontal direction of the film. Ten film samples were measured in each direction, and the average value was defined as αh.
αh = {(L 2 −L 1 ) / (L 1 × ΔH)} (3)
Here, in the above formula, L 1 is the sample piece length (mm) when the humidity is 30% RH, L 2 is the sample piece length (mm) when the humidity is 70% RH, and ΔH is 40 (= 70-30)% RH, respectively. Show.
In Examples 1 to 31 and Comparative Examples 2 to 8 described in Tables 1 and 2, according to the evaluation method of (8) adhesion and (10) gas barrier properties, a coating layer and a flat surface on one side of the polyester base film Αh was measured using a laminated film in which a chemical layer and a gas barrier layer were laminated. In Examples 32 to 35 and Comparative Examples 9 and 10 described in Table 3, αh was measured using films having a laminated structure described in Table 3, respectively.
A: 1 ppm /% RH ≦ αh <5 ppm /% RH ・ ・ Extremely good dimensional stability B: 5 ppm /% RH ≦ αh ≦ 10 ppm /% RH ・ ・ Good dimensional stability C: 10 ppm /% RH <αh ≦ 15 ppm / % RH ・ ・ Dimensional stability failure D: 15ppm /% RH <αh ・ ・ Dimensional stability extremely poor

(10)ガスバリア性(水蒸気バリア性(評価法1))
(8)密着性の評価方法に従って塗膜層上に形成した平坦化層の上に、スパッタリング法にて厚さ30nmのSiO膜を形成し、MOCON社製のパーマトランW1Aを用いて40℃、90RH%雰囲気下における水蒸気透過率を測定し、下記基準にてガスバリア性を評価した。
A:水蒸気透過率≦0.05g/m/day ・・・・・・バリア性極めて良好
B:0.05g/m/day<水蒸気透過率≦0.1g/m/day ・バリア性良好
C:0.1g/m/day<水蒸気透過率 ・・・・・バリア性不良
(10) Gas barrier properties (water vapor barrier properties (Evaluation Method 1))
(8) On the flattening layer formed on the coating layer according to the adhesion evaluation method, a SiO 2 film having a thickness of 30 nm is formed by sputtering, and 40 ° C. using Permantlan W1A manufactured by MOCON. The water vapor transmission rate in a 90 RH% atmosphere was measured, and the gas barrier properties were evaluated according to the following criteria.
A: water vapor permeability ≦ 0.05g / m 2 / day ······ barrier very good B: 0.05g / m 2 / day < water vapor permeability ≦ 0.1g / m 2 / day · barrier good C: 0.1 g / m 2 / day <water vapor transmission rate ...... Poor barrier property

(11)ガスバリア性(水蒸気バリア性(評価法2))
各実施例、比較例に記載の層構成のフィルムサンプルを用い、MOCON社製のパーマトランW1Aを用いて40℃、90RH%雰囲気下における水蒸気透過率を測定し、下記基準にてガスバリア性を評価した。
A:水蒸気透過率≦0.05g/m/day ・・・・・・バリア性極めて良好
B:0.05g/m/day<水蒸気透過率≦0.1g/m/day ・バリア性良好
C:0.1g/m/day<水蒸気透過率 ・・・・・バリア性不良
(11) Gas barrier properties (water vapor barrier properties (evaluation method 2))
Using the film samples having the layer structure described in each Example and Comparative Example, the water vapor transmission rate in an atmosphere of 40 ° C. and 90 RH% was measured using Permantlan W1A manufactured by MOCON, and the gas barrier property was evaluated according to the following criteria. did.
A: water vapor permeability ≦ 0.05g / m 2 / day ······ barrier very good B: 0.05g / m 2 / day < water vapor permeability ≦ 0.1g / m 2 / day · barrier good C: 0.1 g / m 2 / day <water vapor transmission rate ...... Poor barrier property

(12)高温熱履歴後の水蒸気バリア性
(10)または(11)と同じ層構成のフィルムを用いて200℃で10分間加熱処理を行い、その後MOCON社製のパーマトランW1Aを用いて40℃、90RH%雰囲気下におけるフィルムの水蒸気透過率を測定し、下記基準にて評価した。
A:水蒸気透過率≦0.05g/m/day ・・・・・・バリア性極めて良好
B:0.05g/m/day<水蒸気透過率≦0.1g/m/day ・バリア性良好
C:0.1g/m/day<水蒸気透過率 ・・・・・バリア性不良
(12) Water vapor barrier property after high-temperature heat history Heat treatment is performed at 200 ° C. for 10 minutes using a film having the same layer configuration as (10) or (11), and then 40 ° C. using Permatran W1A manufactured by MOCON. The water vapor transmission rate of the film in a 90 RH% atmosphere was measured and evaluated according to the following criteria.
A: water vapor permeability ≦ 0.05g / m 2 / day ······ barrier very good B: 0.05g / m 2 / day < water vapor permeability ≦ 0.1g / m 2 / day · barrier good C: 0.1 g / m 2 / day <water vapor transmission rate ...... Poor barrier property

[実施例1]
ナフタレン−2,6−ジカルボン酸ジメチル100部およびエチレングリコール60部を、エステル交換触媒として酢酸マンガン四水塩0.03部を使用し、150℃から238℃に徐々に昇温させながら120分間エステル交換反応を行なった。途中反応温度が170℃に達した時点でリン酸トリメチル(エチレングリコール中で135℃、5時間0.11〜0.16MPaの加圧下で加熱処理した溶液:リン酸トリメチル換算量で0.023部)を添加し、エステル交換反応終了後、三酸化アンチモン0.024部を添加した。
その後反応生成物を重合反応器に移し、290℃まで昇温し、27Pa以下の高真空下にて重縮合反応を行って、固有粘度が0.61dl/gの、実質的に粒子を含有しない、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレートを得た。
[Example 1]
Establish 100 parts of dimethyl naphthalene-2,6-dicarboxylate and 60 parts of ethylene glycol with 0.03 part of manganese acetate tetrahydrate as a transesterification catalyst and gradually raise the temperature from 150 ° C. to 238 ° C. for 120 minutes. An exchange reaction was performed. In the middle, when the reaction temperature reached 170 ° C., trimethyl phosphate (135 ° C. in ethylene glycol, heat-treated at 0.11 to 0.16 MPa for 5 hours: 0.023 part in terms of trimethyl phosphate) ) And 0.024 parts of antimony trioxide was added after the transesterification reaction.
Thereafter, the reaction product is transferred to a polymerization reactor, heated to 290 ° C., and subjected to a polycondensation reaction under a high vacuum of 27 Pa or less, and has an intrinsic viscosity of 0.61 dl / g and substantially no particles. Polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate was obtained.

このポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレートのペレットを170℃で6時間乾燥後、押出機ホッパーに供給し、溶融温度305℃で溶融し、2mmのスリット状ダイを通して表面温度60℃の回転冷却ドラム上で押出し、急冷して未延伸フィルムを得た。得られた未延伸フィルムを120℃にて予熱し、さらに低速、高速のロール間で、15mm上方より900℃のIRヒーターで加熱して縦方向に3.1倍に延伸した。この縦延伸後のフィルムの片面に、塗膜層を形成するために、以下の組成からなる固形分濃度4重量%の水性液をロールコーターにて塗布し、続いてテンターに供給し、145℃で横方向に.3.5倍に延伸した。
得られた二軸配向フィルムを240℃の温度で40秒間熱固定し、厚み100μmのポリエステルフィルムを巻き取った後、IRヒーターによる加熱ゾーンを用いて処理温度200℃、弛緩率1.0%で弛緩処理を行い、延伸フィルム(フィルムサンプル)を得た。
The polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate pellets were dried at 170 ° C. for 6 hours, then fed to an extruder hopper, melted at a melting temperature of 305 ° C., and cooled at a surface temperature of 60 ° C. through a 2 mm slit die. The film was extruded on a drum and quenched to obtain an unstretched film. The obtained unstretched film was preheated at 120 ° C., and further heated by a 900 ° C. IR heater from above 15 mm between low-speed and high-speed rolls and stretched 3.1 times in the longitudinal direction. In order to form a coating film layer on one side of the film after the longitudinal stretching, an aqueous liquid having a solid content concentration of 4% by weight having the following composition was applied by a roll coater, and then supplied to a tenter. In the horizontal direction. The film was stretched 3.5 times.
The obtained biaxially oriented film was heat-fixed at a temperature of 240 ° C. for 40 seconds, and a polyester film having a thickness of 100 μm was wound up. Then, using a heating zone with an IR heater, the treatment temperature was 200 ° C. and the relaxation rate was 1.0%. A relaxation treatment was performed to obtain a stretched film (film sample).

平坦化層、ガスバリア層は、それぞれ(8)密着性評価、(10)ガスバリア性評価に記載の方法に従って積層し、基材フィルムの片面に塗膜層、平坦化層、ガスバリア層が順次積層された構成のフィルムを得た。得られたフィルムの特性を表1、2、3に示す。
平坦化層、基材フィルム双方との優れた接着性が得られ、また塗膜層は耐久性に優れており、バリア加工して得られた積層フィルムは優れたガスバリア性を有していた。
The flattening layer and the gas barrier layer are laminated in accordance with the methods described in (8) Adhesion evaluation and (10) Gas barrier property evaluation, respectively, and the coating film layer, the flattening layer, and the gas barrier layer are sequentially laminated on one side of the base film. A film having the structure described above was obtained. The properties of the obtained film are shown in Tables 1, 2, and 3.
Excellent adhesion to both the flattening layer and the base film was obtained, the coating layer was excellent in durability, and the laminated film obtained by the barrier processing had excellent gas barrier properties.

<塗膜層成分>
(A)コポリエステル樹脂:酸成分がテレフタル酸60mol%、イソフタル酸36mol%及び5−Naスルホイソフタル酸4mol%、グリコール成分がエチレングリコール60mol%及びネオペンチグリコール40mol%よりなる共重合ポリエステル(Tg=30℃、以下、Eと略記する。)55重量%
(B)ポリビニルアルコール:ケン化度74−80%のポリビニルアルコール(以下、Jと略記する。)16重量%
(C)微粒子:平均粒径80nmの球状シリカ粒子(以下、Nと略記する。)10重量%
(D)架橋剤:エポキシ系樹脂のN,N,N’,N’−テトラグリシジルメタキシリレンジアミン(以下、Rと略記する。)10重量%
(E)濡れ剤:ポリオキシエチレンラウリルエーテル9重量%
<Coating layer component>
(A) Copolyester resin: a copolymerized polyester (Tg = Tole = 60 mol% of terephthalic acid, 36 mol% of isophthalic acid and 4 mol% of 5-Na sulfoisophthalic acid, 60 mol% of ethylene glycol and 40 mol% of neopenthiglycol) 30 ° C., hereinafter abbreviated as E.) 55% by weight
(B) Polyvinyl alcohol: Polyvinyl alcohol having a saponification degree of 74-80% (hereinafter abbreviated as J) 16% by weight
(C) Fine particles: spherical silica particles having an average particle size of 80 nm (hereinafter abbreviated as N) 10% by weight
(D) Crosslinking agent: N, N, N ′, N′-tetraglycidylmetaxylylenediamine (hereinafter abbreviated as R) of epoxy resin 10% by weight
(E) Wetting agent: 9% by weight of polyoxyethylene lauryl ether

[比較例1]
塗膜層を形成する水性液を塗布しない以外は、実施例1と同様に行なった。得られたフィルムの特性を表1に示す。
平坦化層、ガスバリア層はそれぞれ実施例1の評価と同様に片面について行い、ポリエステル基板フィルムの片面に直接平坦化層を形成させた。
[Comparative Example 1]
It carried out similarly to Example 1 except not apply | coating the aqueous liquid which forms a coating-film layer. The properties of the obtained film are shown in Table 1.
The planarization layer and the gas barrier layer were each formed on one side in the same manner as in the evaluation of Example 1, and the planarization layer was directly formed on one side of the polyester substrate film.

[実施例2〜13、15、17〜18、比較例2〜7、10〜12
塗膜層を構成する(A)〜(D)成分の種類と比率を表1に示すように変える以外は実施例1と同様に行った。得られたフィルムの特性を表1に示す。表1に示す結果から明らかなように、各実施例は、平坦化層、基材フィルム双方との優れた接着性が得られ、また塗膜層は耐久性に優れており、バリア加工して得られた積層フィルムは優れたガスバリア性を有していた。
[Examples 2 to 13 , 15 , 17 to 18 , Comparative Examples 2 to 7 , 10 to 12 ]
It carried out like Example 1 except changing the kind and ratio of (A)-(D) component which comprise a coating-film layer as shown in Table 1. The properties of the obtained film are shown in Table 1. As is apparent from the results shown in Table 1, each example has excellent adhesion to both the flattening layer and the base film, and the coating layer is excellent in durability. The obtained laminated film had excellent gas barrier properties.

なお、表1において、(A)コポリエステル樹脂の種類F〜Iは、それぞれ下記のコポリエステルを用いた。
F:<酸成分>2、6−ナフタレンジカルボン酸20mol%、イソフタル酸76mol%、5−Kスルホテレフタル酸4mol%/<ジオール成分>エチレングリコール50mol%、ネオペンチグリコール50mol%のコポリエステル(Tg=42℃)
G:<酸成分>テレフタル酸70mol%、イソフタル酸24mol%、5−Naスルホテレフタル酸6mol%/<ジオール成分>エチレングリコール60mol%、ジエチレングリコール3mol%、ネオペンチグリコール37mol%のコポリエステル(Tg=65℃)
H:<酸成分>テレフタル酸16mol%、イソフタル酸80mol%、5−Naスルホテレフタル酸4mol%/<ジオール成分>ジエチレングリコール5mol%、1、4−ブタンジオール60mol%、ネオペンチグリコール35mol%のコポリエステル(Tg=17℃)
I:<酸成分>2、6−ナフタレンジカルボン酸77mol%、テレフタル酸19mol%、5−Kスルホテレフタル酸4mol%/<ジオール成分>エチレングリコール90mol%、ネオペンチグリコール10mol%のコポリエステル(Tg=98℃)
In Table 1, the following copolyesters were used as types (A) to (I) of the (A) copolyester resin.
F: <acid component> 2,6-Naphthalenedicarboxylic acid 20 mol%, isophthalic acid 76 mol%, 5-K sulfoterephthalic acid 4 mol% / <diol component> ethylenepolyester 50 mol%, neopentylglycol 50 mol% copolyester (Tg = 42 ℃)
G: <Acid component> Copolyester (Tg = 65) of 70 mol% terephthalic acid, 24 mol% isophthalic acid, 6 mol% 5-Na sulfoterephthalic acid / <diol component> 60 mol% ethylene glycol, 3 mol% diethylene glycol, 37 mol% neopentyl glycol ℃)
H: <acid component> terephthalic acid 16 mol%, isophthalic acid 80 mol%, 5-Na sulfoterephthalic acid 4 mol% / <diol component> diethylene glycol 5 mol%, 1,4-butanediol 60 mol%, neopenthiglycol 35 mol% copolyester (Tg = 17 ° C)
I: <acid component> 2,6-Naphthalenedicarboxylic acid 77 mol%, terephthalic acid 19 mol%, 5-K sulfoterephthalic acid 4 mol% / <diol component> ethylene glycol 90 mol%, neopentylene glycol 10 mol% copolyester (Tg = 98 ° C)

また、(B)ポリビニルアルコールの種類K〜Mは、それぞれ下記の化合物を用いた。
K:ケン化度85−90mol%のポリビニルアルコール
L:ケン化度91−95mol%のポリビニルアルコール
M:ケン化度65−72mol%のポリビニルアルコール
Moreover, the following compound was used for the types K-M of (B) polyvinyl alcohol, respectively.
K: Polyvinyl alcohol having a saponification degree of 85-90 mol% L: Polyvinyl alcohol having a saponification degree of 91-95 mol% M: Polyvinyl alcohol having a saponification degree of 65-72 mol%

(C)微粒子の種類O〜Qは、それぞれ下記の化合物を用いた。
O:平均粒径60nmの球状シリカ粒子
P:平均粒径120nmの球状シリカ粒子
Q:平均粒径10nmのコロイダルシリカ粒子
(C) The following compounds were used for the types O to Q of the fine particles.
O: spherical silica particles having an average particle diameter of 60 nm P: spherical silica particles having an average particle diameter of 120 nm Q: colloidal silica particles having an average particle diameter of 10 nm

(D)架橋剤の種類S〜Uは、それぞれ下記の化合物を用いた。
S:メラミン系樹脂・・トリメトキシメチルメラミン(トリメチロールメラミンをメタノールでエーテル化したもの)
T:オキサゾリン基を有する共重合体・・2−プロペニル−オキサゾリン60mol%およびメチルメタクリレート40mol%の共重合体
U:ジメチロールエチレン尿素
(D) Types S to U of the crosslinking agent used the following compounds, respectively.
S: Melamine-based resin: Trimethoxymethylmelamine (trimethylolmelamine etherified with methanol)
T: Copolymer having an oxazoline group .. Copolymer of 2-propenyl-oxazoline 60 mol% and methyl methacrylate 40 mol% U: dimethylolethylene urea

Figure 0004971703
Figure 0004971703

比較13
200℃での弛緩処理を行わなかった以外は実施例1と同様にしてフィルムを得た。得られたフィルムの特性を表2に示す。高温寸法安定性に欠ける部分はあるが、基材のガスバリア性も高く、透明性に優れたフィルムが得られた。
[ Comparative Example 13 ]
A film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the relaxation treatment at 200 ° C. was not performed. The properties of the obtained film are shown in Table 2. Although there was a portion lacking in high-temperature dimensional stability, a film having excellent gas barrier properties and excellent transparency was obtained.

[実施例22〜24]
フィルムの厚みが異なる以外は実施例1と同様にしてフィルムを得た。得られたフィルムの特性を表2に示す。得られたフィルムは透明性、寸法安定性、基材のガスバリア性とも優れていた。
[Examples 22 to 24]
A film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the film was different. The properties of the obtained film are shown in Table 2. The obtained film was excellent in transparency, dimensional stability, and gas barrier properties of the substrate.

[実施例25]
延伸倍率が異なる以外は実施例1と同様にしてフィルムを得た。得られたフィルムの特性を表2に示す。得られたフィルムは透明性、寸法安定性、基材のガスバリア性とも優れていた。
[Example 25]
A film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the draw ratio was different. The properties of the obtained film are shown in Table 2. The obtained film was excellent in transparency, dimensional stability, and gas barrier properties of the substrate.

比較14
延伸倍率が異なる以外は実施例1と同様にしてフィルムを得た。得られたフィルムの特性を表2に示す。得られたフィルムは高温寸法安定性に欠ける部分はあるが、透明性、基材のガスバリア性とも優れていた。
[ Comparative Example 14 ]
A film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the draw ratio was different. The properties of the obtained film are shown in Table 2. Although the obtained film had a portion lacking in high-temperature dimensional stability, it was excellent in transparency and gas barrier property of the substrate.

比較15
ジメチルテレフタレート96部、エチレングリコール58部および酢酸マンガン0.038部を夫々反応器に仕込み、攪拌下内温が240℃になるまでメタノールを留出せしめながらエステル交換反応を行った。トリメチルホスフェート0.097部を添加して該エステル交換反応が終了したのち三酸化アンチモン0.041部を添加した。引き続いて、反応生成物を昇温し、最終的に高真空下280℃の条件で重縮合を行って固有粘度([η])0.64のポリエチレンテレフタレートのチップを得た。
[ Comparative Example 15 ]
96 parts of dimethyl terephthalate, 58 parts of ethylene glycol and 0.038 part of manganese acetate were charged into the reactor, respectively, and the ester exchange reaction was carried out while distilling methanol until the internal temperature reached 240 ° C. with stirring. After the transesterification reaction was completed by adding 0.097 part of trimethyl phosphate, 0.041 part of antimony trioxide was added. Subsequently, the temperature of the reaction product was raised, and finally polycondensation was performed under conditions of 280 ° C. under high vacuum to obtain a chip of polyethylene terephthalate having an intrinsic viscosity ([η]) of 0.64.

次に、このポリエチレンテレフタレートのチップを170℃で3時間乾燥したのち、二軸押出機に供給し、280℃で溶融混練し、急冷固化してマスターチップを得た。
このポリエチレンテレフタレートのペレットを160℃で3時間乾燥後、押出機ホッパーに供給し、溶融温度295℃で溶融し、20℃に保持した冷却ドラム上で急冷固化せしめ未延伸フィルムを得た。該未延伸フィルムを95℃で縦方向に3.1倍に延伸し、次いで片面に実施例1と同様の塗剤を乾燥後の厚みが0.1μmになるように塗布し、110℃で横方向に3.5倍に延伸したのち、230℃で熱処理し、厚みが100μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムの特性を表2に示す。高温寸法安定性は十分ではないが、透明性、基材のガスバリア性とも良好なフィルムを得ることが出来た。
Next, this polyethylene terephthalate chip was dried at 170 ° C. for 3 hours, then supplied to a twin-screw extruder, melt-kneaded at 280 ° C., and rapidly cooled and solidified to obtain a master chip.
The polyethylene terephthalate pellets were dried at 160 ° C. for 3 hours, then supplied to an extruder hopper, melted at a melting temperature of 295 ° C., and rapidly cooled and solidified on a cooling drum maintained at 20 ° C. to obtain an unstretched film. The unstretched film was stretched 3.1 times in the machine direction at 95 ° C., and then the same coating agent as in Example 1 was applied on one side so that the thickness after drying was 0.1 μm. After stretching 3.5 times in the direction, heat treatment was performed at 230 ° C. to obtain a biaxially stretched film having a thickness of 100 μm. The properties of the obtained film are shown in Table 2. Although the high-temperature dimensional stability was not sufficient, a film with good transparency and gas barrier properties of the substrate could be obtained.

比較16
IRヒーターによる加熱ゾーンを用いて、処理温度160℃、弛緩率1.0%で弛緩処理を行った以外は比較15と同様にしてフィルムを得た。得られたフィルムの特性を表2に示す。200℃での寸法安定性は十分ではないが150℃での寸法安定性が良好で、透明性、基材のガスバリア性とも良好なフィルムを得ることができた。
[ Comparative Example 16 ]
A film was obtained in the same manner as in Comparative Example 15 except that a relaxation treatment was performed at a treatment temperature of 160 ° C. and a relaxation rate of 1.0% using a heating zone with an IR heater. The properties of the obtained film are shown in Table 2. Although the dimensional stability at 200 ° C. was not sufficient, a film having good dimensional stability at 150 ° C. and good transparency and gas barrier properties of the substrate could be obtained.

比較17
フィルムの厚みが異なる以外は比較15と同様にしてフィルムを得た。得られたフィルムの特性を表2に示す。高温寸法安定性、基材のバリア性には欠けるが透明性の優れたフィルムを得ることが出来た。
[ Comparative Example 17 ]
A film was obtained in the same manner as in Comparative Example 15 except that the thickness of the film was different. The properties of the obtained film are shown in Table 2. A film excellent in transparency was obtained although it lacked high-temperature dimensional stability and barrier properties of the substrate.

[比較例8]
ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレートに平均粒径0.35μmの球状シリカ粒子を0.1重量%配合した以外は実施例21と同様にしてフィルムを得た。得られたフィルムの特性を表2に示す。不活性粒子を滑剤として含んでいるため光学特性に欠けるフィルムであった。
[Comparative Example 8]
A film was obtained in the same manner as in Example 21 except that 0.1% by weight of spherical silica particles having an average particle diameter of 0.35 μm was blended with polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate. The properties of the obtained film are shown in Table 2. The film lacked optical properties because it contained inert particles as a lubricant.

Figure 0004971703
Figure 0004971703

[実施例30]
ポリエステルフィルムの両面に塗膜層、平坦化層、ガスバリア層を設けること以外は実施例1と同様にして積層フィルムを得た。得られた積層フィルムの特性を表3に示す。
[Example 30]
A laminated film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a coating layer, a planarizing layer, and a gas barrier layer were provided on both sides of the polyester film. Table 3 shows the properties of the obtained laminated film.

[実施例31]
両面に平坦化層を設けなかった以外は実施例30と同様の操作を行い、積層フィルムを得た。得られた積層フィルムの特性を表3に示す。
[Example 31]
A laminated film was obtained in the same manner as in Example 30 except that no planarizing layer was provided on both sides. Table 3 shows the properties of the obtained laminated film.

[実施例32]
平坦化層を設けなかった以外は実施例1と同様の操作を行い、積層フィルムを得た。得られた積層フィルムの特性を表3に示す。
[Example 32]
A laminated film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the planarizing layer was not provided. Table 3 shows the properties of the obtained laminated film.

[実施例33]
延伸倍率が異なる以外は実施例1と同様にして積層フィルムを得た。得られた積層フィルムの特性を表3に示す。
[Example 33]
A laminated film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the draw ratio was different. Table 3 shows the properties of the obtained laminated film.

[比較例9]
塗膜層および平坦化層を設けなかった以外は実施例33と同様にして積層フィルムを得た。得られた積層フィルムの特性を表3に示す。
[Comparative Example 9]
A laminated film was obtained in the same manner as in Example 33 except that the coating layer and the flattening layer were not provided. Table 3 shows the properties of the obtained laminated film.

Figure 0004971703
Figure 0004971703

本発明のガスバリア加工用ポリエステルフィルムは、さらにガスバリア層を設けた場合に高度なガスバリア性を有し、しかも高透明性及び易滑性を備えることから、これらの特性が求められる有機ELディスプレイ、電子ペーパーなどの基板フィルムとして好適に用いることができる。また本発明のガスバリア性積層ポリエステルフィルムは、高度なガスバリア性を有し、しかも高透明性及び易滑性を備えることから、これらの特性が求められる有機ELディスプレイ基板、電子ペーパー基板として好適に用いることができる。   The polyester film for gas barrier processing of the present invention has a high gas barrier property when a gas barrier layer is further provided, and also has high transparency and slipperiness. It can be suitably used as a substrate film such as paper. Moreover, since the gas barrier laminated polyester film of the present invention has high gas barrier properties and also has high transparency and slipperiness, it is suitably used as an organic EL display substrate and electronic paper substrate that require these characteristics. be able to.

Claims (21)

ポリエステルからなる基材フィルムの少なくとも片面に塗膜層が設けられたポリエステルフィルムであって、基材フィルムを構成するポリエステルがポリエチレンナフタレートであり、該塗膜層が塗膜層の重量を基準として(A)ガラス転移点が20〜90℃であるコポリエステル樹脂を50〜80重量%、(B)ケン化度が74〜90mol%であるポリビニルアルコールを10〜30重量%(C)微粒子を3〜25重量%、および(D)架橋剤を1〜20重量%を含有し、該ポリエステルフィルムの全光線透過率が85%以上、ヘイズが1.5%以下であり、かつ200℃×10分における熱収縮率がMD方向、TD方向それぞれ0.2%以下であることを特徴とする有機ELディスプレイ基板用ポリエステルフィルム。 A port Li ester film at least one surface coating layer is provided of a base film made of polyester, a polyester is polyethylene naphthalate constituting the substrate film, the reference coating film layer weight of a coating layer (A) 50 to 80% by weight of a copolyester resin having a glass transition point of 20 to 90 ° C. , (B) 10 to 30% by weight of polyvinyl alcohol having a saponification degree of 74 to 90 mol% , and (C) fine particles 3-25% by weight, and (D) a crosslinking agent containing 1 to 20 wt%, total light transmittance of the polyester film 85% or more, the haze is 1.5% or less, and 200 ° C. × heat shrinkage MD direction of 10 minutes, the organic EL display Po Li ester film substrate, wherein less der Rukoto 0.2% TD direction, respectively. (C)微粒子の平均粒径が20〜100nmである請求項1に記載の有機ELディスプレイ基板用ポリエステルフィルム。 (C) an organic EL display Po Li ester film substrate according to claim 1 having an average particle size of the fine particles is 20 to 100 nm. (D)架橋剤が、オキサゾリン基含有ポリマー、尿素系樹脂、メラミン系樹脂及びエポキシ系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種である請求項1または2に記載の有機ELディスプレイ基板用ポリエステルフィルム。 (D) crosslinking agent, oxazoline group-containing polymer, urea-based resin, an organic EL display substrate Po Li ester film according to claim 1 or 2 is at least one selected from the group consisting of melamine resins and epoxy resins . 150℃×30分における熱収縮率がMD方向、TD方向それぞれ0.1%以下である請求項1〜のいずれかに記載の有機ELディスプレイ基板用ポリエステルフィルム。 150 thermal shrinkage at ° C. × 30 minutes MD direction, Po Li ester film for an organic EL display substrate according to any one of claims. 1 to 3 TD directions, respectively 0.1% or less. ポリエチレンナフタレ−トが全繰り返し構造単位のモル数を基準としてエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート90モル%以上である請求項1〜のいずれかに記載の有機ELディスプレイ基板用ポリエステルフィルム。 Polyethylene naphthalate - DOO is port for organic EL display substrate according to any one of claims 1-4 ethylene-2,6 is naphthalene dicarboxylate 90 mol% or more based on the moles of total repeating structural units Riesuteru the film. 請求項1〜のいずれかに記載の有機ELディスプレイ基板用ポリエステルフィルムの少なくとも1つの塗膜層上にガスバリア層がさらに積層された有機ELディスプレイ基板用ガスバリア性積層ポリエステルフィルム。 At least one coating gas barrier layer further stacked organic EL display gas barrier laminated polyester substrate film on layer of an organic EL display substrate Po Li ester film of any of claims 1-5. ガスバリア層が金属酸化物または金属窒化物である請求項に記載の有機ELディスプレイ基板用ガスバリア性積層ポリエステルフィルム。 The gas barrier layered polyester film for an organic EL display substrate according to claim 6 , wherein the gas barrier layer is a metal oxide or a metal nitride. ガスバリア層がSiOx(1.5≦x≦2.0)を主成分とする請求項またはに記載の有機ELディスプレイ基板用ガスバリア性積層ポリエステルフィルム。 The gas barrier layered polyester film for an organic EL display substrate according to claim 6 or 7 , wherein the gas barrier layer contains SiOx (1.5≤x≤2.0) as a main component. MD方向およびTD方向の湿度膨張係数αhがそれぞれ1〜10ppm/%RHである請求項6〜8のいずれかに記載の有機ELディスプレイ基板用ガスバリア性積層ポリエステルフィルム。 The gas expansion laminated polyester film for organic EL display substrates according to any one of claims 6 to 8 , wherein the humidity expansion coefficient αh in the MD direction and the TD direction is 1 to 10 ppm /% RH, respectively. 40℃、90%RHにおける水蒸気透過率が0.1g/m/day以下である請求項6〜9のいずれかに記載の有機ELディスプレイ基板用ガスバリア性積層ポリエステルフィルム。 The gas-barrier laminated polyester film for an organic EL display substrate according to any one of claims 6 to 9 , wherein a water vapor transmission rate at 40 ° C and 90% RH is 0.1 g / m 2 / day or less. 請求項6〜10のいずれかに記載の有機ELディスプレイ基板用ガスバリア性積層ポリエステルフィルムを含む有機ELディスプレイ基板。 The organic EL display substrate containing the gas barrier property laminated polyester film for organic EL display substrates in any one of Claims 6-10 . 請求項1〜のいずれかに記載の有機ELディスプレイ基板用ポリエステルフィルムの少なくとも1つの塗膜層上に平坦化層がさらに積層された有機ELディスプレイ基板用積層ポリエステルフィルム。 At least one coating planarizing layer further stacked organic EL display product layer polyester film substrate was on the layer of the organic EL display substrate Po Li ester film of any of claims 1-5. 平坦化層がポリビニルアルコールを含む、請求項12に記載の有機ELディスプレイ基板用積層ポリエステルフィルム。 Planarization layer comprises a polyvinyl alcohol, an organic EL display product layer polyester film substrate according to claim 12. 平坦化層が(a)エポキシ基及びアルコキシシリル基を有するケイ素化合物、その(部分)加水分解物、その(部分)縮合物、およびこれらの混合物からなる群から選ばれるエポキシケイ素系化合物、(b)アミノ基及びアルコキシシリル基を有するケイ素化合物、その(部分)加水分解物、その(部分)縮合物、およびこれらの混合物からなる群から選ばれるアミノケイ素系化合物、並びに(c)ポリビニルアルコールまたはポリビニルアルコール共重合体を架橋反応させてなる硬化ポリマー層である請求項12または13に記載の有機ELディスプレイ基板用積層ポリエステルフィルム。 (B) an epoxy silicon compound selected from the group consisting of (a) a silicon compound having an epoxy group and an alkoxysilyl group, a (partial) hydrolyzate thereof, a (partial) condensate thereof, and a mixture thereof; ) A silicon compound having an amino group and an alkoxysilyl group, its (partial) hydrolyzate, its (partial) condensate, and a mixture thereof, and (c) polyvinyl alcohol or polyvinyl the organic EL display product layer polyester film substrate according to claim 12 or 13 which is a cured polymer layer formed by the alcohol copolymer crosslinked reaction. クロスカット試験法によって測定される平坦化層の剥離面積が10%以下である請求項1214のいずれかに記載の有機ELディスプレイ基板用積層ポリエステルフィルム。 The organic EL display product layer polyester film substrate according to any one of claims 12-14 peeling area of the planarizing layer is 10% or less as measured by cross-cut test method. 請求項1215に記載の有機ELディスプレイ基板用積層ポリエステルフィルムの少なくとも1つの平坦化層上にガスバリア層がさらに積層された有機ELディスプレイ基板用ガスバリア性積層ポリエステルフィルム。 Organic least one organic EL display gas barrier laminated polyester substrate film for the gas barrier layer is further laminated on the planarizing layer of an EL display product layer polyester film substrate according to claim 12-15. ガスバリア層が金属酸化物または金属窒化物である請求項16に記載の有機ELディスプレイ基板用ガスバリア性積層ポリエステルフィルム。 The gas barrier layered polyester film for an organic EL display substrate according to claim 16 , wherein the gas barrier layer is a metal oxide or a metal nitride. ガスバリア層がSiOx(1.5≦x≦2.0)を主成分とする請求項16または17に記載の有機ELディスプレイ基板用ガスバリア性積層ポリエステルフィルム。 The gas barrier layered polyester film for an organic EL display substrate according to claim 16 or 17 , wherein the gas barrier layer contains SiOx (1.5≤x≤2.0) as a main component. MD方向およびTD方向の湿度膨張係数αhがそれぞれ1〜10ppm/%RHである請求項1618のいずれかに記載の有機ELディスプレイ基板用ガスバリア性積層ポリエステルフィルム。 The gas barrier laminated polyester film for organic EL display substrates according to any one of claims 16 to 18 , wherein the humidity expansion coefficient αh in the MD direction and the TD direction is 1 to 10 ppm /% RH, respectively. 40℃、90%RHにおける水蒸気透過率が0.1g/m/day以下である請求項1619のいずれかに記載の有機ELディスプレイ基板用ガスバリア性積層ポリエステルフィルム。 40 ° C., the organic EL display gas barrier laminate polyester film substrate according to any one of claims 16-19 water vapor transmission rate is less than 0.1g / m 2 / day at 90% RH. 請求項1620のいずれかに記載の有機ELディスプレイ基板用ガスバリア性積層ポリエステルフィルムを含む有機ELディスプレイ基板。 An organic EL display substrate comprising the gas barrier laminate polyester film for an organic EL display substrate according to any one of claims 16 to 20 .
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