KR101253353B1 - Polyester film for gas barrier processing and gas barrier laminated polyester film thereof - Google Patents

Polyester film for gas barrier processing and gas barrier laminated polyester film thereof Download PDF

Info

Publication number
KR101253353B1
KR101253353B1 KR1020060062041A KR20060062041A KR101253353B1 KR 101253353 B1 KR101253353 B1 KR 101253353B1 KR 1020060062041 A KR1020060062041 A KR 1020060062041A KR 20060062041 A KR20060062041 A KR 20060062041A KR 101253353 B1 KR101253353 B1 KR 101253353B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas barrier
polyester film
film
layer
laminated
Prior art date
Application number
KR1020060062041A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20070004448A (en
Inventor
가츠유키 하시모토
데츠오 요시다
Original Assignee
데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤 filed Critical 데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤
Publication of KR20070004448A publication Critical patent/KR20070004448A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101253353B1 publication Critical patent/KR101253353B1/en

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02Physical, chemical or physicochemical properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/0427Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D129/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal, or ketal radical; Coating compositions based on hydrolysed polymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D129/02Homopolymers or copolymers of unsaturated alcohols
    • C09D129/04Polyvinyl alcohol; Partially hydrolysed homopolymers or copolymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/65Additives macromolecular
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/66Additives characterised by particle size
    • C09D7/67Particle size smaller than 100 nm
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/02Details
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/20Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/206Organic displays, e.g. OLED

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

본 발명의 목적은, 가스 배리어성이 우수하고, 고투명성 및 가공 용이성 을 구비한 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름을 제공하는 것에 있다. An object of the present invention is to provide a polyester film for gas barrier processing, which is excellent in gas barrier properties and has high transparency and easy processing.

본 발명은, 폴리에스테르로 이루어지는 기재(基材) 필름의 적어도 편면에 도막층이 형성된 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름으로서, 그 도막층이 도막층의 중량을 기준으로 (A) 코폴리에스테르 수지를 50~80 중량%, (B) 폴리비닐알코올을 10~30 중량% 및 (C) 미립자를 3~25 중량% 함유하고, 또한 그 폴리에스테르 필름의 전체 광선 투과율이 85% 이상, 헤이즈가 1.5% 이하인 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름이다.This invention is a polyester film for gas barrier processing in which the coating film layer was formed in the at least single side | surface of the base film which consists of polyesters, The coating film layer is based on the weight of a coating film layer, and the (A) copolyester resin is 50 80 wt%, (B) 10-30 wt% of polyvinyl alcohol, and 3-25 wt% of (C) fine particles, and the total light transmittance of the polyester film is 85% or more and haze is 1.5% or less It is a polyester film for gas barrier processing.

가스 배리어성, 가공 용이성, 폴리에스테르 필름 Gas barrier property, ease of processing, polyester film

Description

가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름 및 그것으로 이루어지는 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름{POLYESTER FILM FOR GAS BARRIER PROCESSING AND GAS BARRIER LAMINATED POLYESTER FILM THEREOF}Polyester film for gas barrier processing and gas barrier laminated polyester film which consist of it {POLYESTER FILM FOR GAS BARRIER PROCESSING AND GAS BARRIER LAMINATED POLYESTER FILM THEREOF}

특허 문헌 1 일본 공개특허공보 평10-111500호Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-111500

특허 문헌 2 일본 공개특허공보 2004-9362호Patent Document 2 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-9362

특허 문헌 3 일본 공개특허공보 2005-1242호Patent Document 3 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-1242

본 발명은, 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름 및 그것으로 이루어지는 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 폴리에스테르 필름의 적어도 편면에 도막층을 갖고, 기재층, 평탄화층 및 가스 배리어층과의 접착성을 높임으로써 가스 배리어성이 우수하고, 또한 고(高)투명한 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름, 및 그것으로 이루어지는 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름, 그리고 그것을 사용한 유기 EL 디스플레이 기판 및 전자 페이퍼 기판에 관한 것이다. The present invention relates to a polyester film for gas barrier processing and a gas barrier laminated polyester film comprising the same. More specifically, it has a coating film layer on at least one side of a polyester film, and improves adhesiveness with a base material layer, a planarization layer, and a gas barrier layer, and is excellent in gas barrier property, and highly transparent poly for gas barrier processing It relates to an ester film, and a gas barrier laminated polyester film made thereof, and an organic EL display substrate and an electronic paper substrate using the same.

폴리에스테르 필름, 특히 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌나프탈레이 트의 2 축 연신 필름은, 우수한 기계적 성질, 내열성, 내약품성을 갖기 때문에, 자기 테이프, 강자성 박막 테이프, 사진 필름, 포장용 필름, 전자 부품용 필름, 전기 절연 필름, 금속 라미네이트용 필름, 유리 디스플레이 등의 표면에 부착하는 필름, 각종 부재의 보호용 필름 등의 소재로서 널리 사용되고 있다. Polyester films, especially biaxially oriented films of polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, have excellent mechanical properties, heat resistance, and chemical resistance, and thus are magnetic tapes, ferromagnetic thin film tapes, photographic films, packaging films, and films for electronic parts. It is widely used as a material, such as an electrical insulation film, the film for metal laminations, the film adhering to surfaces, such as a glass display, and the protective film of various members.

액정 디스플레이로 대표되는 화상 표시 장치에는, 종래 유리 기판이 사용되어 왔다. 최근, 화상 표시 장치는, 한층 더 박형화, 경량화, 대화면화, 형상의 자유도, 곡면 표시 등이 요구되고 있고, 무겁고 깨지기 쉬운 유리 기판을 대신하여, 고투명한 고분자 필름 기판이 검토되어 왔다. Conventionally, glass substrates have been used for image display devices typified by liquid crystal displays. In recent years, image display apparatuses are required to be thinner, lighter, larger screens, degrees of freedom of shape, curved displays, and the like, and high-transparent polymer film substrates have been studied in place of heavy and brittle glass substrates.

또한, 액정 디스플레이는 백라이트를 채용하지 않을 수 없기 때문에, 많은 부재를 사용할 필요가 있는 데 반하여, 유기 EL 로 대표되는 자발광 소자는 보다 적은 부재로 대응할 수 있기 때문에 적극적으로 개발이 진행되고 있다. 이러한 유기 EL 디스플레이 용도에 있어서도, 유리 결점의 하나인 깨지기 쉬움이나 무게를 개량하고, 또한 플렉시블화의 요구가 높아져 오고 있다. 그래서, 고분자 필름 기판으로서 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트, 폴리카보네이트를 함유하는 다양한 열가소성 수지가 검토되고 있다. 이들 고분자 필름 기판은, 유리 기판에 비하여 일반적으로 가스나 수증기를 투과하기 쉽다. 그 때문에, 높은 가스 배리어성이 필요로 되는 유기 EL 을 포함하는 각종 화상 표시 장치에 있어서, 고분자 필름 기판을 적용하기 위해서, 고분자 필름 기판 상에 추가로 가스 배리어성을 높이는 층을 적층하는 것이 검토되고 있고, 구체적으로는 재질이나 막 두께, 적층 구성 등이 다양하게 검토되고 있다. In addition, since a liquid crystal display must employ a backlight, it is necessary to use a large number of members, whereas development is actively progressed since the self-luminous element represented by the organic EL can cope with fewer members. Also in such an organic electroluminescent display use, the fragility and weight which are one of glass defects are improved, and the demand for flexibleization is increasing. Therefore, various thermoplastic resins containing polypropylene, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, and polycarbonate as a polymer film substrate have been studied. These polymer film substrates are generally easier to pass gas or water vapor than glass substrates. Therefore, in various image display apparatuses containing organic EL which require high gas barrier property, in order to apply a polymer film board | substrate, it is examined to laminate | stack a layer which further improves gas barrier property on a polymer film board | substrate. Specifically, various materials, film thicknesses, laminated constitutions, and the like have been studied.

예를 들어 특허 문헌 1 에서는 특정한 규소계 화합물과 폴리비닐알코올계 폴리머로 이루어지는 경화 폴리머층이 제안되어 있다. 또한, 예를 들어 특허 문헌 2 에는, 투명성이 우수하고, 하드 코트나 점착제에 대한 접착성이 우수한 도포층을 갖는 폴리에스테르 필름이 개시되어 있다. 그리고, 도막층을 구성하는 고분자 바인더로서, 폴리에스테르 수지 및 옥사졸린기와 폴리알킬렌옥사이드사슬을 갖는 아크릴 수지의 혼합체가 예시되어 있고, 주로 하드 코트층과의 접착성을 높이는 것을 목적으로 하고 있다. 또한, 특허 문헌 3 에는, 열가소성 수지 필름으로 이루어지는 기재 필름과 가스 배리어층 사이에 형성되는 앵커제층은, 앵커제와 실란 커플링제를 함유하는 것이 개시되어 있고, 기재 필름과 가스 배리어층 사이의 접착성을 높임으로써 가스 배리어성을 향상시키는 것이 제안되어 있다. For example, Patent Document 1 proposes a cured polymer layer composed of a specific silicon compound and a polyvinyl alcohol polymer. For example, Patent Document 2 discloses a polyester film having a coating layer that is excellent in transparency and excellent in adhesion to a hard coat or an adhesive. And as a polymeric binder which comprises a coating film layer, the mixture of polyester resin, an oxazoline group, and the acrylic resin which has a polyalkylene oxide chain is illustrated, It aims at mainly improving adhesiveness with a hard-coat layer. In addition, Patent Document 3 discloses that an anchor agent layer formed between a base film made of a thermoplastic resin film and a gas barrier layer contains an anchor agent and a silane coupling agent, and has an adhesive property between the base film and the gas barrier layer. It is proposed to improve the gas barrier property by increasing.

그러나, 유기 EL 디스플레이나 전자 페이퍼 등과 같은, 수분이나 산소에 의해서 소자에 열화가 생기기 쉬운 화상 표시 장치에 사용하는 경우, 이들 도막층에서는 폴리에스테르 기재 필름과 가스 배리어층의 접착성이 아직 불충분하고, 유기 EL 디스플레이나 전자 페이퍼에 필요로 되는 고도의 가스 배리어성이 얻어지지 않은 것이 현 상황이다.However, when used in an image display device in which elements deteriorate easily due to moisture or oxygen, such as an organic EL display or an electronic paper, the adhesion between the polyester base film and the gas barrier layer is still insufficient in these coating layers, It is a present situation that the high gas barrier property required for organic electroluminescent display and electronic paper is not acquired.

본 발명의 목적은, 이러한 종래 기술의 과제를 해소하고, 가스 배리어층을 적층한 경우에 고도의 가스 배리어성을 갖고, 고투명성 및 이(易)가공성을 구비한 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름을 제공하는 것에 있다. 또한 본 발명의 다른 목적은, 가스 배리어성, 고투명성, 가공 용이성을 구비함과 함께, 추가로 고 온 열 처리 후에도 가스 배리어성이 유지된 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름을 제공하는 것에 있다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the problems of the prior art and to provide a polyester film for gas barrier processing having a high gas barrier property and having high transparency and easy processing when a gas barrier layer is laminated. It is in doing it. Further, another object of the present invention is to provide a polyester film for gas barrier processing, which has gas barrier properties, high transparency, and ease of processing, and further maintains gas barrier properties even after high temperature heat treatment.

또한 본 발명의 다른 목적으로, 고투명성, 가공 용이성을 갖고, 습도 변화에 대한 치수 안정성이 높기 때문에, 높은 가스 배리어성을 갖는 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름을 제공하는 것에 있다. Another object of the present invention is to provide a gas barrier laminated polyester film having high gas barrier properties because of its high transparency, ease of processing, and high dimensional stability against humidity changes.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토한 결과, 폴리에스테르로 이루어지는 기재 필름의 적어도 편면에, 코폴리에스테르 수지, 폴리비닐알코올 및 미립자를 각각 특정한 비율로 함유하는 도막층을 형성함으로써, 그 도막층을 개재하여 폴리에스테르로 이루어지는 기재 필름과, 평탄화층 또는 가스 배리어층과의 접착성이 높아지는 결과, 수증기나 산소의 투과 경로가 되는 결함이 적어지는 것, 또한 어떠한 응력이 가해진 경우에, 각각의 계면 박리 또는 가스 배리어층에 크랙이 발생하는 결함이 생기기 어려워지기 때문에 고도의 가스 배리어성이 얻어지고, 또한 투명성도 우수한 폴리에스테르 필름이 얻어지는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하는 것에 이르렀다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining in order to solve the said subject, the present inventors formed the coating film layer which contains a copolyester resin, a polyvinyl alcohol, and microparticles | fine-particles in the specific ratio on at least one side of the base film which consists of polyesters, When the adhesion between the base film made of polyester and the planarization layer or the gas barrier layer is increased through the coating layer, defects that become a transmission path of water vapor and oxygen are reduced, and when any stress is applied, respectively. When it became difficult to produce the defect which a crack generate | occur | produces in an interface peeling or a gas barrier layer of, it discovered that the polyester film of the high gas barrier property is obtained at the time, and the polyester film excellent also in transparency is obtained, and came to complete this invention.

즉 본 발명에 의하면, 본 발명의 목적은, 폴리에스테르로 이루어지는 기재 필름의 적어도 편면에 도막층이 형성된 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름으로서, 그 도막층이 도막층의 중량을 기준으로 (A) 코폴리에스테르 수지를 50~80 중량%, (B) 폴리비닐알코올을 10~30 중량% 및 (C) 미립자를 3~25 중량% 함유하고, 또한 그 폴리에스테르 필름의 전체 광선 투과율이 85% 이상, 헤이즈가 1.5% 이하인 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름 (항 1) 에 의해서 달성된다. That is, according to this invention, the objective of this invention is a polyester film for gas barrier processing in which the coating film layer was formed in the at least single side | surface of the base film which consists of polyester, The coating film layer is based on the weight of a coating film layer (A) copoly 50-80 weight% of ester resin, 10-30 weight% of (B) polyvinyl alcohol, and 3-25 weight% of (C) microparticles | fine-particles, and the total light transmittance of this polyester film is 85% or more, and haze It is achieved by the polyester film for gas barrier processing (claim 1) which is 1.5% or less.

또한 본 발명의 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름은, 바람직한 양태로서, 150℃×30 분에 있어서의 열 수축률이 MD 방향, TD 방향 각각 0.1% 이하인 것, 200℃×10 분에 있어서의 열 수축률이 MD 방향, TD 방향 각각 0.2% 이하인 것 중 적어도 어느 하나를 구비하는 양태도 포함한다. Moreover, as for the polyester film for gas barrier processes of this invention, as for a preferable aspect, the heat shrinkage rate in 150 degreeC * 30 minutes is 0.1% or less in MD direction and TD direction, respectively, and the heat shrinkage rate in 200 degreeC * 10 minutes is MD It also includes an aspect including at least one of 0.2% or less in each of the direction and the TD direction.

또한 본 발명은, 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름의 적어도 하나의 도막층 상에 가스 배리어층이 적층된 적층 구성, 또는 그 도막층 상에 평탄화층, 가스 배리어층이 순차 적층된 적층 구성 중 어느 하나의 적층 구성을 갖는 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름에 있어서의 MD 방향 및 TD 방향의 습도 팽창 계수αh 가 각각 1~10ppm/%RH 인 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름을 포함한다. Moreover, this invention is a laminated structure by which the gas barrier layer was laminated | stacked on the at least one coating film layer of the polyester film for gas barrier processing, or the laminated structure by which the planarization layer and the gas barrier layer were sequentially laminated | stacked on the coating layer. The gas-barrier laminated polyester film whose humidity expansion coefficient (alpha) h of MD direction and TD direction in a gas barrier laminated polyester film which has a laminated structure is 1-10 ppm /% RH, respectively is included.

또한 본 발명은, 이러한 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름을 포함하는 유기 EL 디스플레이 기판 및 전자 페이퍼 기판도 포함하는 것이다.  Moreover, this invention also includes the organic electroluminescent display board | substrate and electronic paper board | substrate containing such a gas barrier laminated polyester film.

본 발명은, 그 밖에, 이하의 양태도 포함한다. The present invention also includes the following aspects.

항 2. (A) 코폴리에스테르 수지의 유리 전이점이 20~90℃ 인 항 1 에 기재된 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. Item 2. (A) The polyester film for gas barrier processing according to item 1, wherein the glass transition point of the copolyester resin is 20 to 90 ° C.

항 3. (B) 폴리비닐알코올의 비누화도가 74~90mol% 인 항 1 또는 2 에 기재된 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. Item 3. (B) The polyester film for gas barrier processing according to item 1 or 2, wherein the saponification degree of polyvinyl alcohol is 74 to 90 mol%.

항 4. (C) 미립자의 평균 입경이 20~100nm 인 항 1~3 중 어느 하나에 기재된 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. Item 4. (C) The polyester film for gas barrier processing according to any one of items 1 to 3, wherein the average particle diameter of the fine particles is 20 to 100 nm.

항 5. 도포층이 추가로 (D) 가교제를 1~20 중량% 함유하는 항 1 ~4 중 어 느 하나에 기재된 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. Item 5. The polyester film for gas barrier processing according to any one of items 1 to 4, wherein the coating layer further contains 1 to 20% by weight of a crosslinking agent (D).

항 6. (D) 가교제가, 옥사졸린기 함유 폴리머, 우레아계 수지, 멜라민계 수지 및 에폭시계 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인 항 5 에 기재된가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. Item 6. The polyester film for gas barrier processing according to item 5, wherein the crosslinking agent (D) is at least one member selected from the group consisting of an oxazoline group-containing polymer, a urea resin, a melamine resin and an epoxy resin.

항 7. 150℃×30 분에 있어서의 열 수축률이 MD 방향, TD 방향 각각 0.1% 이하인 항 1~6 중 어느 하나에 기재된 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. Item 7. The polyester film for gas barrier processing according to any one of Items 1 to 6, wherein the heat shrinkage ratio at 150 ° C for 30 minutes is 0.1% or less in the MD direction and the TD direction, respectively.

항 8. 200℃×10 분에 있어서의 열 수축률이 MD 방향, TD 방향 각각 0.2% 이하인 항 1~7 중 어느 하나에 기재된 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. Item 8. The polyester film for gas barrier processing according to any one of items 1 to 7, wherein the heat shrinkage ratio at 200 ° C for 10 minutes is 0.2% or less for each of the MD direction and the TD direction.

항 9. 기재의 폴리에스테르가 폴리에틸렌나프탈레이트인 항 1~8 의 어느 하나에 기재된 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. Item 9. The polyester film for gas barrier processing according to any one of items 1 to 8, wherein the polyester according to claim 9 is polyethylene naphthalate.

항 10. 폴리에틸렌나프탈레이트가 전체 반복 구조 단위의 몰 수를 기준으로 에틸렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트 90 몰% 이상인 항 9 에 기재된 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. Item 10. The polyester film for gas barrier processing according to item 9, wherein the polyethylene naphthalate is 90 mol% or more of ethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate based on the number of moles of all repeating structural units.

항 11. 유기 EL 디스플레이 또는 전자 페이퍼의 기판 필름으로 사용되는 항 1~10 중 어느 하나에 기재된 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. Item 11. The polyester film for gas barrier processing in any one of items 1-10 used as a substrate film of an organic EL display or an electronic paper.

항 12. 항 1~11 중 어느 하나에 기재된 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름의 적어도 1 개의 도막층 상에 가스 배리어층이 추가로 적층된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. Item 12. The gas barrier laminated polyester film in which a gas barrier layer is further laminated on at least one coating film layer of the polyester film for gas barrier processing according to any one of items 1 to 11.

항 13. 가스 배리어층이 금속 산화물 또는 금속 질화물인 항 12 에 기재된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. Item 13. The gas barrier laminated polyester film according to Item 12, wherein the gas barrier layer is a metal oxide or a metal nitride.

항 14. 가스 배리어층이 SiOx (1.5≤x≤2.0) 를 주성분으로 하는 항 12 또는 13 에 기재된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. Item 14. The gas barrier laminated polyester film according to Item 12 or 13, wherein the gas barrier layer contains SiO x (1.5? X ? 2.0) as a main component.

항 15. MD 방향 및 TD 방향의 습도 팽창 계수 αh 가 각각 1~10ppm/%RH 인 항 12~14 중 어느 하나에 기재된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. Item 15. The gas barrier laminated polyester film according to any one of Items 12 to 14, wherein the humidity expansion coefficients αh in the MD direction and the TD direction are 1 to 10 ppm /% RH, respectively.

항 16. 40℃, 90%RH 에 있어서의 수증기 투과율이 0.1g/㎡/day 이하인 항 1 2~15 중 어느 하나에 기재된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. Item 16. The gas barrier laminate polyester film according to any one of Items 1 to 2, wherein the water vapor transmission rate at 40 ° C and 90% RH is 0.1 g / m 2 / day or less.

항 17. 항 12~16 중 어느 하나에 기재된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름을 포함하는 유기 EL 디스플레이 기판. Item 17. An organic EL display substrate comprising the gas barrier laminate polyester film according to any one of items 12 to 16.

항 18. 항 12~16 중 어느 하나에 기재된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름을 포함하는 전자 페이퍼 기판. Item 18. An electronic paper substrate comprising the gas barrier laminate polyester film according to any one of items 12 to 16.

항 19. 항 1~11 중 어느 하나에 기재된 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름의 적어도 1 개의 도막층 상에 평탄화층이 추가로 적층된 가스 배리어 가공용 적층 폴리에스테르 필름. Item 19. The laminated polyester film for gas barrier processing in which the planarization layer was further laminated | stacked on at least 1 coating-film layer of the polyester film for gas barrier processing in any one of Claims 1-11.

항 20. 평탄화층이 폴리비닐알코올을 함유하는, 항 19 에 기재된 가스 배리어 가공용 적층 폴리에스테르 필름. Item 20. The laminated polyester film for gas barrier processing according to item 19, wherein the planarization layer contains polyvinyl alcohol.

항 21. 평탄화층이 (a) 에폭시기 및 알콕시실릴기를 갖는 규소 화합물, 그 (부분) 가수 분해물, 그 (부분) 축합물, 및 이들 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 에폭시 규소계 화합물, (b) 아미노기 및 알콕시실릴기를 갖는 규소 화합물, 그 (부분) 가수 분해물, 그 (부분) 축합물, 및 이들 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 아미노 규소계 화합물, 및 (c) 폴리비닐알코올 또는 폴리비닐알코올 공중합체를 가교 반응시켜서 이루어지는 경화 폴리머층인 항 19 또는 20 에 기재된 가스 배리어 가공용 적층 폴리에스테르 필름. Item 21. An epoxy silicon compound selected from the group consisting of (a) a silicon compound having an epoxy group and an alkoxysilyl group, its (partial) hydrolyzate, its (partial) condensate, and a mixture thereof, (b) an amino group And an amino silicon compound selected from the group consisting of a silicon compound having an alkoxysilyl group, its (partial) hydrolyzate, its (partial) condensate, and a mixture thereof, and (c) a polyvinyl alcohol or a polyvinyl alcohol copolymer. The laminated polyester film for gas barrier processes of Claim 19 or 20 which is a cured polymer layer made by crosslinking reaction.

항 22. 크로스 컷 시험법에 의해서 측정되는 평탄화층의 박리 면적이 10% 이하인 항 19~21 중 어느 하나에 기재된 가스 배리어 가공용 적층 폴리에스테르 필름. Item 22. The laminated polyester film for gas barrier processing according to any one of items 19 to 21, wherein a peeling area of the planarization layer measured by the cross-cut test method is 10% or less.

항 23. 항 19~22 중 어느 하나에 기재된 가스 배리어 가공용 적층 폴리에스테르 필름의 적어도 1 개의 평탄화층 상에 가스 배리어층이 추가로 적층된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. Item 23. A gas barrier laminated polyester film, wherein a gas barrier layer is further laminated on at least one planarization layer of the laminated polyester film for gas barrier processing according to any one of items 19 to 22.

항 24. 가스 배리어층이 금속 산화물 또는 금속 질화물인 항 23 에 기재된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. Item 24. The gas barrier laminated polyester film according to item 23, wherein the gas barrier layer is a metal oxide or a metal nitride.

항 25. 가스 배리어층이 SiOx (1.5≤x≤2.0) 를 주성분으로 하는 항 23 또는 24 에 기재된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. Item 25. The gas barrier laminate polyester film according to item 23 or 24, wherein the gas barrier layer mainly contains SiO x (1.5 ≦ x ≦ 2.0).

항 26. MD 방향 및 TD 방향의 습도 팽창 계수 αh 가 각각 1~10ppm/%RH 인 항 23~25 중 어느 하나에 기재된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. Item 26. The gas barrier laminate polyester film according to any one of items 23 to 25, wherein the humidity expansion coefficients αh in the MD direction and the TD direction are 1 to 10 ppm /% RH, respectively.

항 27. 40℃, 90%RH 에 있어서의 수증기 투과율이 0.1g/㎡/day 이하인 항 23~26 중 어느 하나에 기재된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. Item 27. The gas barrier laminate polyester film according to any one of items 23 to 26, wherein the water vapor transmission rate at 40 ° C and 90% RH is 0.1 g / m 2 / day or less.

항 28. 항 23~27 중 어느 하나에 기재된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름을 포함하는 유기 EL 디스플레이 기판. Item 28. An organic EL display substrate comprising the gas barrier laminate polyester film according to any one of items 23 to 27.

항 29. 항 23~27 중 어느 하나에 기재된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름을 포함하는 전자 페이퍼 기판. Item 29. An electronic paper substrate comprising the gas barrier laminate polyester film according to any one of items 23 to 27.

본 발명에 의하면, 본 발명의 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름은, 추가로 가스 배리어층을 형성한 경우에 고도의 가스 배리어성을 갖고, 또한 고투명성 및 이(易)활성을 구비하기 때문에, 이들 특성이 요구되는 유기 EL 디스플레이, 전자 페이퍼 등의 기판 필름으로서 바람직하게 사용할 수 있다. 또한 본 발명의 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름은, 고도의 가스 배리어성을 갖고, 또한 고투명성 및 이활성을 구비하기 때문에, 이들 특성이 요구되는 유기 EL 디스플레이 기판, 전자 페이퍼 기판으로서 바람직하게 사용할 수 있다. According to the present invention, the polyester film for gas barrier processing of the present invention has a high gas barrier property when the gas barrier layer is additionally formed, and also has high transparency and diactivity. It can be used suitably as substrate films, such as this organic electroluminescent display and electronic paper which are requested | required. Moreover, since the gas barrier laminated polyester film of this invention has a high gas barrier property, and has high transparency and dilution, it can be used suitably as an organic electroluminescent display board | substrate and an electronic paper substrate which require these characteristics. have.

발명을 실시하기Carrying out the invention 위한 최선의 형태 Best form for

이하, 본 발명을 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

<기재 필름> <Base film>

본 발명의 기재 필름은 폴리에스테르에 의해서 구성된다. 본 발명의 폴리에스테르로는, 방향족 디카르복실산 또는 그 에스테르 형성성 유도체와 디올 또는 그 에스테르 형성성 유도체로부터 합성되는 방향족 폴리에스테르를 사용할 수 있다. 방향족 디카르복실산 성분으로는, 예를 들어 테레프탈산, 이소프탈산, 나프탈렌디카르복실산, 4,4'-디페닐디카르복실산이 예시되고, 디올 성분으로서, 예를 들어 에틸렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 1,6-헥산디올이 예시된다. 본 발명의 폴리에스테르는, 구체적으로는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리트리메틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴 리(1,4-시클로헥실렌디메틸렌테레프탈레이트), 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리트리메틸렌나프탈레이트가 예시된다. 특히 역학적 물성이나 광학 물성 등의 밸런스의 면에서 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트가 바람직하고, 또한 가스 배리어성, 열 수축률로 표시되는 내열성의 면에서 폴리에틸렌나프탈레이트가 가장 바람직하다. 폴리에스테르는, 호모 폴리머, 제 3 성분을 공중합한 코폴리머, 폴리머 블렌드 중 어떠한 것이어도 된다. The base film of this invention is comprised by polyester. As polyester of this invention, aromatic polyester synthesize | combined from aromatic dicarboxylic acid or its ester formable derivative, and diol or its ester formable derivative can be used. As an aromatic dicarboxylic acid component, terephthalic acid, isophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, 4,4'- diphenyl dicarboxylic acid is illustrated, for example, As a diol component, For example, ethylene glycol, 1,3 -Propanediol, 1,4-butanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,6-hexanediol are exemplified. Specific examples of the polyester of the present invention include polyethylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, poly (1,4-cyclohexylenedimethylene terephthalate), polyethylene naphthalate and polytrimethylene Phthalates are illustrated. In particular, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferred in terms of balance of mechanical and optical properties, and polyethylene naphthalate is most preferred in terms of heat resistance expressed by gas barrier properties and heat shrinkage. The polyester may be any of a homopolymer, a copolymer obtained by copolymerizing a third component, and a polymer blend.

폴리에스테르가 폴리에틸렌나프탈레이트인 경우, 주된 디카르복실산 성분으로서 나프탈렌디카르복실산이 사용되고, 주된 디올 성분으로서 에틸렌글리콜이 사용된다. 나프탈렌디카르복실산은, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 2,7-나프탈렌디카르복실산, 1,5-나프탈렌디카르복실산을 들 수 있고, 이들 중에서 2,6-나프탈렌디카르복실산이 바람직하다. 여기에서「주된」이란, 폴리에스테르를 구성하는 전체 반복 단위의 적어도 90 몰%, 바람직하게는 적어도 95 몰% 를 의미한다. When polyester is polyethylene naphthalate, naphthalenedicarboxylic acid is used as a main dicarboxylic acid component, and ethylene glycol is used as a main diol component. Examples of the naphthalene dicarboxylic acid include 2,6-naphthalene dicarboxylic acid, 2,7-naphthalene dicarboxylic acid and 1,5-naphthalene dicarboxylic acid. Of these, 2,6-naphthalene dicarboxylic acid Acids are preferred. Here, "main" means at least 90 mol%, preferably at least 95 mol% of all the repeating units constituting the polyester.

폴리에틸렌나프탈레이트가 코폴리머인 경우, 코폴리머를 구성하는 공중합 성분으로는, 예를 들어 옥살산, 아디프산, 프탈산, 세바크산, 도데칸디카르복실산, 이소프탈산, 테레프탈산, 1,4-시클로헥산디카르복실산, 4,4'-디페닐디카르복실산, 페닐인단디카르복실산, 2,7-나프탈렌디카르복실산, 테트랄린디카르복실산, 데칼린디카르복실산, 디페닐에테르디카르복실산 등과 같은 디카르복실산; p-옥시벤조산, p-옥시에톡시벤조산과 같은 옥시카르복실산; 또는 트리메틸렌글리콜, 테트라메틸렌글리콜, 헥사메틸렌글리콜, 시클로헥산메틸렌글리콜, 네오펜티글리콜, 비스페놀술폰의 에틸렌옥사이드 부가물, 비스페놀 A 의 에틸렌옥사이드 부가물, 디에틸렌글리 콜, 폴리에틸렌옥사이드글리콜과 같은 디올을 바람직하게 사용할 수 있다. 이들 공중합 성분은, 1 종 또는 2 종 이상 사용해도 된다. 이들 공중합 성분 중에서, 바람직한 산 성분으로는, 이소프탈산, 테레프탈산, 4,4'-디페닐디카르복실산, 2,7-나프탈렌디카르복실산, p-옥시벤조산이고, 바람직한 디올 성분으로는, 트리메틸렌글리콜, 헥사메틸렌글리콜, 네오펜티글리콜, 비스페놀술폰의 에틸렌옥사이드 부가물이다. When polyethylene naphthalate is a copolymer, as a copolymerization component which comprises a copolymer, for example, oxalic acid, adipic acid, phthalic acid, sebacic acid, dodecanedicarboxylic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclo Hexanedicarboxylic acid, 4,4'-diphenyldicarboxylic acid, phenylindandicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, tetralin dicarboxylic acid, decalin dicarboxylic acid, diphenyl Dicarboxylic acids such as ether dicarboxylic acid and the like; oxycarboxylic acids such as p-oxybenzoic acid and p-oxyethoxybenzoic acid; Or diols such as trimethylene glycol, tetramethylene glycol, hexamethylene glycol, cyclohexane methylene glycol, neopentiglycol, ethylene oxide adducts of bisphenol sulfone, ethylene oxide adducts of bisphenol A, diethylene glycol, and polyethylene oxide glycol. It can be used preferably. You may use these copolymerization components 1 type, or 2 or more types. Among these copolymerization components, preferred acid components are isophthalic acid, terephthalic acid, 4,4'-diphenyldicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, and p-oxybenzoic acid. Ethylene oxide adducts of trimethylene glycol, hexamethylene glycol, neopentiglycol, and bisphenol sulfone.

폴리에틸렌나프탈레이트가 폴리머 블렌드인 경우, 블렌드 성분으로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리트리메틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-4,4'-테트라메틸렌디페닐디카르복실레이트, 폴리에틸렌-2,7-나프탈렌디카르복실레이트, 폴리트리메틸렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트, 폴리네오펜틸렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트, 폴리(비스(4-에틸렌옥시페닐)술폰)-2,6-나프탈렌디카르복실레이트 등의 폴리에스테르를 들 수 있다. 이들 블렌드 성분은, 1 종 또는 2 종 이상 사용해도 된다. When polyethylene naphthalate is a polymer blend, as a blend component, polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polytrimethylene terephthalate, polyethylene-4,4'- tetramethylene diphenyl dicarboxylate, polyethylene-2,7- Naphthalenedicarboxylate, polytrimethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate, polyneopentylene-2,6-naphthalenedicarboxylate, poly (bis (4-ethyleneoxyphenyl) sulfone) -2, Polyester, such as 6-naphthalenedicarboxylate, is mentioned. You may use these blend components 1 type or 2 or more types.

또한, 본 발명의 폴리에스테르는, 예를 들어 벤조산, 메톡시폴리알킬렌글리콜 등의 일관능성 화합물에 의해서 말단의 옥살산기 및/또는 카르복실기의 일부 또는 전부를 봉쇄한 것이어도 된다. 또한, 극히 소량의 글리세린, 펜타에리트리톨 등의 삼관능 이상의 에스테르 형성성 화합물로 실질적으로 선상(線狀)의 폴리머가 얻어지는 범위 내에서 공중합한 것이어도 된다. In addition, the polyester of the present invention may be one in which some or all of the terminal oxalic acid group and / or carboxyl group are sealed by a monofunctional compound such as benzoic acid or methoxypolyalkylene glycol. Moreover, what copolymerized within the range from which a linear polymer is obtained substantially with trifunctional or more than trifunctional ester forming compound, such as glycerin and pentaerythritol, may be sufficient.

본 발명의 폴리에스테르는 종래 공지된 방법, 예를 들어 디카르복실산과 디올의 반응으로 직접 저중합도 폴리에스테르를 얻는 방법, 또는 디카르복실산의 저 급 알킬 에스테르와 디올을 종래 공지된 에스테르 교환 촉매, 예를 들어 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 칼슘, 아연, 스트론튬, 티탄, 지르코늄, 망간, 코발트를 함유하는 화합물의 1 종 또는 2 종 이상을 사용하여 반응시킨 후, 중합 촉매의 존재 하에서 중합 반응을 실시하는 방법으로 얻을 수 있다. 중합 촉매로는, 3 산화 안티몬, 5 산화 안티몬과 같은 안티몬 화합물, 2 산화 게르마늄으로 대표되는 게르마늄 화합물, 테트라에틸티타네이트, 테트라프로필티타네이트, 테트라페닐티타네이트 또는 이들의 부분 가수 분해물, 옥살산티타닐암모늄, 옥살산티타닐칼륨, 티탄트리스아세틸아세토네이트와 같은 티탄 화합물을 사용할 수 있다. The polyester of the present invention is a conventionally known method, for example, a method of directly obtaining a low degree of polymerization polyester by reaction of dicarboxylic acid and diol, or a lower alkyl ester of dicarboxylic acid and a diol. For example, sodium, potassium, magnesium, calcium, zinc, strontium, titanium, zirconium, manganese, reacted with one or two or more kinds of compounds containing cobalt, followed by polymerization in the presence of a polymerization catalyst. You can get it by Examples of the polymerization catalyst include antimony trioxide and antimony compounds such as antimony pentoxide, germanium compounds represented by germanium dioxide, tetraethyl titanate, tetrapropyl titanate, tetraphenyl titanate or partial hydrolyzate thereof, and titanium oxalate Titanium compounds, such as ammonium, titanyl potassium oxalate, and titanium tris acetylacetonate, can be used.

에스테르 교환 반응을 경유하여 중합을 실시하는 경우에는, 통상은 중합 반응 전에 에스테르 교환 촉매를 실활(失活)시킬 목적에서 트리메틸포스페이트, 트리에틸포스페이트, 트리-n-부틸포스페이트, 정(正)인산 등의 인 화합물이 첨가된다. 인 화합물은, 폴리에스테르의 열 안정성의 면에서, 폴리에스테르 중의 함유량이 인 원소로서 20~100ppm 인 것이 바람직하다. When the polymerization is carried out via a transesterification reaction, trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tri-n-butyl phosphate, positive phosphoric acid or the like is usually used for the purpose of deactivating the transesterification catalyst prior to the polymerization reaction. Phosphorus compound of is added. It is preferable that a phosphorus compound is 20-100 ppm in content in polyester as a phosphorus element from the viewpoint of the thermal stability of polyester.

또한, 폴리에스테르는, 용융 중합 후 이것을 칩화하고, 가열 감압 하 또는 질소 등의 불활성 기류 중에서 추가로 고상 중합을 행해도 된다. In addition, polyester may chip this after melt polymerization, and may perform ê * phase polymerization further under heating reduced pressure, or in inert airflow, such as nitrogen.

폴리에스테르의 고유 점도는 0.40dl/g 이상인 것이 바람직하고, 0.40~0.90 dl/g 인 것이 더욱 바람직하다. 고유 점도가 0.40dl/g 미만에서는 필름 제막(製膜) 공정에 있어서 절단이 다발하는 경우가 있다. 또한 고유 점도가 0.90dl/g 보다 높으면 용융 점도가 높기 때문에 용융 압출이 곤란하고, 또한 중합 시간이 길어서 비경제적이다. 또한 2 축 배향 필름으로 제막한 후의 폴리에스 테르의 고유 점도는 0.38~0.85dl/g 인 것이 바람직하고, 0.40~0.80g/dl 인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 고유 점도는 o-클로로페놀을 용매로서 사용하여, 35℃ 에서 측정한 값이다. It is preferable that it is 0.40 dl / g or more, and, as for the intrinsic viscosity of polyester, it is more preferable that it is 0.40 to 0.90 dl / g. When intrinsic viscosity is less than 0.40 dl / g, cutting | disconnection may be frequent in a film film forming process. In addition, when the intrinsic viscosity is higher than 0.90 dl / g, melt extrusion is difficult because the melt viscosity is high, and the polymerization time is long, which is uneconomical. Moreover, it is preferable that it is 0.38-0.85 dl / g, and, as for the intrinsic viscosity of the polyester after film forming with a biaxially oriented film, it is more preferable that it is 0.40-0.80 g / dl. In addition, intrinsic viscosity is the value measured at 35 degreeC using o-chlorophenol as a solvent.

본 발명의 기재 필름은, 활제로서 사용되는 미립자를 함유하지 않은 것이 바람직하다. It is preferable that the base film of this invention does not contain the microparticles | fine-particles used as a lubricant.

본 발명의 기재 필름은, MD 방향 (이하, 연속 제막 방향, 길이 방향, 세로 방향으로 지칭하는 경우가 있다) 및 TD 방향 (이하, 폭 방향, 가로 방향으로 지칭하는 경우가 있다) 모두 영률이 4.5GPa 이상인 것이 바람직하다. 기재 필름의 영률이 하한 미만인 경우, 후술하는 습도 팽창 계수에 관해서, 도막층 및 가스 배리어층의 부분이 적절하더라도, 적층 필름으로서의 습도 팽창 계수 αh 를 10ppm/%RH 이하의 범위로 할 수 없는 경우가 있다. 기재 필름의 영률을 MD 방향 및 TD 방향 모두 4.5GPa 이상으로 하기 위한 구체적 수단으로서, 기재 필름이 2.9 배 이상의 배율로 MD 방향 및 TD 방향으로 연신되는 것을 들 수 있다. 한편, 기재 필름의 영률의 상한은, 온도 변화, 특히 200℃ 의 고온역에서의 치수 안정성을 높이고, 이러한 열이력(熱履歷)을 받은 후에도 높은 가스 배리어성을 유지시키는 경우는, MD 방향 및 TD 방향 모두 7.0GPa 이하인 것이 바람직하다. 기재 필름의 영률이 상한을 초과하는 경우, 200℃ 에서의 내열 치수 안정성이 나쁘고, 가스 배리어층에 균열이 생기는 등으로 파괴되는 결과, 열이력을 받은 후에는 가스 배리어성이 저하되는 경우가 있다. 기재 필름의 영률을 MD 방향 및 TD 방향 모두 7.0GPa 이하로 하기 위한 구체적 수단으로서, 기재 필름이 3.9 배 이하의 배율로 MD 방향 및 TD 방향으로 연신되는 것을 들 수 있다. The base film of the present invention has a Young's modulus of 4.5 in both the MD direction (hereinafter may be referred to as a continuous film forming direction, the longitudinal direction and the longitudinal direction) and the TD direction (hereinafter may be referred to as the width direction and the horizontal direction). It is preferable that it is GPa or more. When the Young's modulus of a base film is less than a lower limit, regarding the humidity expansion coefficient mentioned later, even if the part of a coating film layer and a gas barrier layer is appropriate, the humidity expansion coefficient (alpha) h as laminated | multilayer film cannot be made into the range of 10 ppm /% RH or less. have. As a specific means for making the Young's modulus of a base film into 4.5 GPa or more in both MD direction and a TD direction, what extends to a MD direction and a TD direction by the magnification of 2.9 times or more is mentioned. On the other hand, when the upper limit of the Young's modulus of a base film improves temperature change, especially the dimensional stability in the high temperature range of 200 degreeC, and maintains high gas barrier property even after receiving such a thermal history, MD direction and TD It is preferable that both directions are 7.0 GPa or less. When the Young's modulus of a base film exceeds an upper limit, heat-resistant dimensional stability at 200 degreeC is bad, and as a result, a fracture occurs by a crack in a gas barrier layer, etc. As a result, gas barrier property may fall after receiving a thermal history. As a specific means for making the Young's modulus of a base film into 7.0 GPa or less in both MD direction and TD direction, what extends to a MD direction and a TD direction at the magnification of 3.9 times or less is mentioned.

기재 필름의 두께는, 유기 EL 디스플레이, 전자 페이퍼, 액정 디스플레이, 태양 전지, 유기 TFT 등의 지지체로서 사용하는 경우에 필요한 강도 및 굴곡성을 얻기 위해서, 12~500㎛ 인 것이 바람직하다. 전자 페이퍼의 지지체로서 사용하는 경우의 기재 필름의 두께는, 더욱 바람직한 범위로서 12~50㎛, 특히 바람직하게는 12~25㎛ 이다. 또한 유기 EL 디스플레이, 액정 디스플레이, 태양 전지, 유기 TFT 등의 지지체로서 사용하는 경우의 기재 필름의 두께는, 더욱 바람직하게는 25~350㎛, 특히 바람직하게는 50~250㎛ 이다. 기재 필름의 두께가 하한 미만인 경우, 기재 필름의 편면에 도막층 및 가스 배리어층을 포함하는 층 구성에 있어서, 해당층 구성에 의한 수증기의 확산 속도의 저감 효과가 충분히 발현되지 않기 때문에 습도 팽창 계수 αh 가 상한을 초과하여, 가스 배리어성이 저하되는 경우가 있다.  It is preferable that the thickness of a base film is 12-500 micrometers in order to acquire the intensity | strength and flexibility required when using it as support bodies, such as an organic electroluminescent display, an electronic paper, a liquid crystal display, a solar cell, and an organic TFT. The thickness of the base film in the case of using as a support body of an electronic paper is 12-50 micrometers as a more preferable range, Especially preferably, it is 12-25 micrometers. Moreover, the thickness of the base film in the case of using it as support bodies, such as an organic electroluminescent display, a liquid crystal display, a solar cell, an organic TFT, becomes like this. More preferably, it is 25-350 micrometers, Especially preferably, it is 50-250 micrometers. When the thickness of the base film is less than the lower limit, in the layer structure including the coating layer and the gas barrier layer on one side of the base film, the effect of reducing the diffusion rate of water vapor due to the layer structure is not sufficiently expressed. It may exceed the upper limit and gas barrier property may fall.

기재 필름의 두께는, 두꺼우면 두꺼울수록 해당층 구성에 의한 수증기의 확산 속도의 저감 효과가 발현되기 쉬워진다. 그러나, 굴곡성, 및 특성을 만족시키는 범위 내에서 기재 필름에 박육화가 요구되기 때문에, 기재 필름의 두께의 상한은 상기 기술한 범위인 것이 바람직하다. The thicker the thickness of the base film, the easier the effect of reducing the diffusion rate of water vapor due to the layer structure becomes. However, since thinning is required for the base film within a range that satisfies the flexibility and characteristics, the upper limit of the thickness of the base film is preferably in the above-described range.

<도막층> <Film layer>

본 발명의 폴리에스테르로 이루어지는 기재 필름은, 적어도 편면에 이하의(A)~(C) 를 함유하는 도막층을 갖는다. 도막층은, (A)~(C) 를 함유하는 도포액을 기재 필름 상에 도포한 후에 건조시킴으로써 얻어진다. The base film which consists of polyester of this invention has the coating film layer containing the following (A)-(C) at least on single side | surface. A coating film layer is obtained by drying, after apply | coating the coating liquid containing (A)-(C) on a base film.

(A) 코폴리에스테르 수지 50~80 중량% (A) 50-80 wt% of copolyester resin

(B) 폴리비닐알코올 10~30 중량%(B) 10 to 30% by weight of polyvinyl alcohol

(C) 미립자 3~25 중량% (C) 3 to 25 wt% of fine particles

여기에서, 도막층의 중량은, 도포액에 함유되는 고형분과 동량(同量)이다. (A)~(C) 각 성분의 함유량은, 도막층의 중량을 100 중량% 로 한 함유량이다. Here, the weight of a coating film layer is the same as solid content contained in a coating liquid. Content of each component (A)-(C) is content which made the weight of a coating film layer 100 weight%.

본 발명의 도막층은, 상기 성분으로 구성되어 있음으로써, 그 도막층을 개재하여 폴리에스테르로 이루어지는 기재 필름과, 평탄화층 (도막층 상에 평탄화층을 적층한 경우) 또는 가스 배리어층 (도막층 상에 가스 배리어층을 적층한 경우) 과의 접착성이 높아진다. 그 결과, 투명성, 필름 가공성이 우수하고, 또한 가스 배리어층을 추가로 적층시킨 경우에 우수한 가스 배리어성이 발현된다. Since the coating film layer of this invention is comprised from the said component, the base film which consists of polyester through the coating film layer, and a flattening layer (when the flattening layer is laminated | stacked on the coating film layer) or a gas barrier layer (coating layer) The adhesiveness with the case where the gas barrier layer is laminated | stacked on it becomes high. As a result, when the gas barrier layer is further laminated, the gas barrier property is excellent in transparency and film formability.

특히, 가스 배리어성에 착안한 각 성분의 현저한 효과로서, (A) 코폴리에스테르 성분은 폴리에스테르 기재층과의 접착성을 높이는 효과를 갖고, (B) 폴리비닐알코올 성분은 평탄화층 또는 가스 배리어층과의 접착성을 높이는 효과를 갖는다. 또한, 이하에 상세히 기술하는 바와 같이, 각 성분의 함유량도 가스 배리어 성능에 기여한다. In particular, as a remarkable effect of each component paying attention to gas barrier properties, (A) the copolyester component has an effect of enhancing the adhesiveness with the polyester base layer, and (B) the polyvinyl alcohol component has a flattening layer or a gas barrier layer. It has the effect of improving the adhesiveness with. In addition, as described in detail below, the content of each component also contributes to the gas barrier performance.

<코폴리에스테르 수지> <Copolyester resin>

도막층을 형성하는 코폴리에스테르 수지 (A) 는, 다염기산 또는 그 에스테르형성 유도체와 폴리올 또는 그 에스테르 형성 유도체로 이루어지고, 또한 산 성분을 적어도 2 종 사용하여 합성된 코폴리에스테르이다. 코폴리에스테르 수지를 사용한 경우, 유리 전이점, 결정화 온도의 조정을 간편하게 실시할 수 있다. Copolyester resin (A) which forms a coating film layer is a copolyester which consists of polybasic acid or its ester forming derivative, polyol or its ester forming derivative, and was synthesize | combined using at least 2 acid component. When a copolyester resin is used, adjustment of a glass transition point and crystallization temperature can be performed easily.

코폴리에스테르 수지 (A) 는, 유리 전이점이 20~90℃ 의 범위에 있는 코폴리에스테르 수지인 것이 바람직하다. 유리 전이점이 20℃ 미만에서는 필름끼리 블로킹하기 쉽고, 한편 90℃ 을 초과하면, 필름의 깎임성이 저하되거나, 도막층이 약해져 접착성을 유지할 수 없게 되는 경우가 있다. It is preferable that a copolyester resin (A) is a copolyester resin in which the glass transition point exists in 20-90 degreeC. When a glass transition point is less than 20 degreeC, films are easy to block, and when it exceeds 90 degreeC, the chipping property of a film may fall, a coating film layer may become weak, and adhesiveness may not be maintained.

이러한 유리 전이점을 갖는 폴리에스테르 수지의 구성 성분으로서, 이하의 것을 사용할 수 있다. 즉, 주된 다염기산 성분으로 테레프탈산, 이소프탈산, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 프탈산, 무수프탈산, 1,4-시클로헥산디카르복실산, 아디프산, 세바크산, 트리멜리트산, 피로멜리트산, 다이머산 등을 들 수 있다. 또한, 불포화 다염기산 성분의 말레산, 이타콘산 등 및 p-히드록시벤조산 등의 히드록시카르복실산을 극소량 사용할 수 있다. 또한, 폴리올 성분으로서, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 자일렌글리콜, 디메틸올프로판, 트리메틸올프로판, 글리세린, 폴리(에틸렌옥사이드)글리콜, 폴리(테트라메틸렌옥사이드)글리콜, 비스페놀-A 의 알킬렌옥사이드 부가물 등을 들 수 있다.  As a structural component of the polyester resin which has such a glass transition point, the following can be used. That is, the main polybasic acid components are terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, phthalic acid, phthalic anhydride, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, trimellitic acid, and fatigue Mellitic acid, dimer acid, etc. are mentioned. In addition, very small amounts of hydroxycarboxylic acids such as maleic acid, itaconic acid and the like and p-hydroxybenzoic acid of the unsaturated polybasic acid component can be used. Moreover, as a polyol component, ethylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, 1, 4- butanediol, 1, 6- hexanediol, 1, 4- cyclohexane dimethanol, xylene glycol, dimethylol propane, trimethylol propane And glycerin, poly (ethylene oxide) glycol, poly (tetramethylene oxide) glycol, and alkylene oxide adducts of bisphenol-A.

코폴리에스테르 수지 (A) 는, 친수성을 부여하기 위해서, 술폰산 염기를 갖는 디카르복실산 성분을 사용해도 된다. 술폰산 염기를 갖는 디카르복실산 성분으로서, 5-나트륨술포이소프탈산, 5-칼륨술포이소프탈산, 5-칼륨술포테레프탈산 등을 들 수 있다. 술폰산 염기를 갖는 디카르복실산 성분은, 분자 내의 전체 산 성분에 대하여 1~16 몰% 공중합되어 있는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1.5~14 몰% 이다. 술폰산 염기를 갖는 디카르복실산 성분이 하한 미만인 경 우, 코폴리에스테르 수지의 친수성이 부족한 경우가 있고, 한편 상한을 초과하면, 도막층의 내습성이 저하되어 가스 배리어성이 불충분해지는 경우가 있다. The copolyester resin (A) may use a dicarboxylic acid component having a sulfonic acid base in order to impart hydrophilicity. Examples of the dicarboxylic acid component having a sulfonic acid base include 5-sodium sulfoisophthalic acid, 5-potassium sulfoisophthalic acid, 5-potassium sulfoterephthalic acid, and the like. The dicarboxylic acid component having a sulfonic acid base is preferably 1 to 16 mol% copolymerized with respect to all the acid components in the molecule, more preferably 1.5 to 14 mol%. When the dicarboxylic acid component having a sulfonic acid base is less than the lower limit, the hydrophilicity of the copolyester resin may be insufficient. On the other hand, when the upper limit is exceeded, the moisture resistance of the coating layer may decrease, resulting in insufficient gas barrier properties. .

코폴리에스테르 수지 (A) 의 함유량은, 도막층의 중량을 기준으로 50~80 중량% 이다. 코폴리에스테르 수지의 함유량이 50 중량% 미만인 경우, 폴리에스테르 필름과의 접착성이 부족하고, 한편 80 중량% 를 초과하면, 평탄화층 또는 가스 배리어층과의 접착성이 저하된다. 그 때문에 코폴리에스테르 수지 (A) 의 함유량이 이러한 범위를 초과하는 경우, 적층 필름의 습도 팽창 계수 αh 가 상한을 초과하여, 충분한 가스 배리어 성능이 얻어지지 않는다. Content of copolyester resin (A) is 50-80 weight% based on the weight of a coating film layer. When content of a copolyester resin is less than 50 weight%, adhesiveness with a polyester film runs short, and when it exceeds 80 weight%, adhesiveness with a planarization layer or a gas barrier layer falls. Therefore, when content of a copolyester resin (A) exceeds this range, the humidity expansion coefficient (alpha) h of laminated | multilayer film exceeds the upper limit, and sufficient gas barrier performance is not obtained.

<폴리비닐알코올> <Polyvinyl alcohol>

도막층을 형성하는 폴리비닐알코올 (B) 로서, 폴리비닐알코올 또는 그 공중합체가 사용된다. 폴리비닐알코올 공중합체로서, 비닐알코올-아세트산비닐 공중합체, 비닐알코올-비닐부티랄 공중합체, 에틸렌-비닐알코올 공중합체, 분자 내에 실릴기를 갖는 폴리비닐알코올계 고분자가 예시되고, 이들 중에서도 비닐알코올-아세트산비닐 공중합체, 에틸렌-비닐알코올 공중합체가 바람직하다. 통상 비닐알코올의 공중합 비율이 비누화도로 표시된다. 본 발명의 폴리비닐알코올 (B) 은, 비누화도가 74~90mol% 인 것이 바람직하다. 비누화도가 74mol% 미만에서는, 도막층의 내습성이 저하되어 가스 배리어성이 불충분해지는 경우가 있다. 한편 비누화도가 90 mol% 를 초과하면 평탄화층 또는 가스 배리어층에 대한 접착성이나 내블로킹성이 저하되는 경우가 있다. As polyvinyl alcohol (B) which forms a coating film layer, polyvinyl alcohol or its copolymer is used. Examples of the polyvinyl alcohol copolymers include vinyl alcohol-vinyl acetate copolymers, vinyl alcohol-vinyl butyral copolymers, ethylene-vinyl alcohol copolymers, and polyvinyl alcohol polymers having a silyl group in the molecule. Among these, vinyl alcohol- Vinyl acetate copolymer and ethylene-vinyl alcohol copolymer are preferable. Usually, the copolymerization ratio of vinyl alcohol is represented by saponification degree. It is preferable that the polyvinyl alcohol (B) of this invention is 74-90 mol% in saponification degree. When the saponification degree is less than 74 mol%, the moisture resistance of a coating film layer may fall and gas barrier property may become inadequate. On the other hand, when saponification degree exceeds 90 mol%, adhesiveness and blocking resistance to a planarization layer or a gas barrier layer may fall.

폴리비닐알코올 (B) 의 함유량은, 도막층의 중량을 기준으로 10~30 중량% 이다. 폴리비닐알코올의 함유량이 10 중량% 미만이면 평탄화층 또는 가스 배리어층과의 접착성이 충분히 얻어지지 않는다. 한편 폴리비닐알코올의 함유량이 30 중량% 를 초과하면, 내블로킹성이 저하되거나, 내습성이 저하되어 가스 배리어성이 불충분해진다. Content of polyvinyl alcohol (B) is 10-30 weight% based on the weight of a coating film layer. When content of polyvinyl alcohol is less than 10 weight%, adhesiveness with a planarization layer or a gas barrier layer is not fully acquired. On the other hand, when content of polyvinyl alcohol exceeds 30 weight%, blocking resistance falls or moisture resistance falls and gas barrier property becomes inadequate.

<미립자> <Particulates>

도막층을 형성하는 미립자 (C) 는 유기, 무기의 어떠한 것이어도 되고, 탄산칼슘, 산화칼슘, 산화알루미늄, 카올린, 산화규소, 산화아연, 가교 아크릴 수지 입자, 가교 폴리스티렌 수지 입자, 멜라민 수지 입자, 가교 실리콘 수지 입자가 예시된다. 본 발명의 미립자 (C) 는, 평균 입경이 20~100nm 인 것이 바람직하다. 미립자의 평균 입경이 20nm 미만에서는, 필름끼리 블로킹하기 쉬워지고, 한편 100nm 를 초과하면 깎임성이 저하되거나, 평탄화층 또는 가스 배리어층과의 접착성이 저하되는 경우가 있다. The microparticles | fine-particles (C) which form a coating layer may be any of organic and inorganic, calcium carbonate, calcium oxide, aluminum oxide, kaolin, silicon oxide, zinc oxide, crosslinked acrylic resin particle, crosslinked polystyrene resin particle, melamine resin particle, Crosslinked silicone resin particles are exemplified. It is preferable that the microparticles | fine-particles (C) of this invention are 20-100 nm in average particle diameter. When the average particle diameter of microparticles | fine-particles is less than 20 nm, it will become easy to block films, and when it exceeds 100 nm, shaving property may fall or adhesiveness with a planarization layer or a gas barrier layer may fall.

미립자 (C) 의 함유량은, 도막층의 중량을 기준으로 3~25 중량% 이다. 미립자의 함유량이 3 중량% 미만에서는, 필름의 활성 (반송성) 이 부족하고, 한편 25 중량% 를 초과하면, 헤이즈가 저하되거나, 평탄화층 또는 가스 배리어층과의 접착성이나 깎임성이 저하되어, 가스 배리어성에 불충분해진다. Content of microparticles | fine-particles (C) is 3-25 weight% based on the weight of a coating film layer. If the content of the fine particles is less than 3% by weight, the activity (transportability) of the film is insufficient, while if the content is more than 25% by weight, the haze decreases, or the adhesiveness and chipping with the planarization layer or the gas barrier layer decreases. The gas barrier properties are insufficient.

<가교제> <Bridge school>

본 발명의 도막층은, 추가로 (D) 가교제를 1~20 중량% 함유해도 된다. 가교제를 함유함으로써, 더욱 가스 배리어성을 향상시킬 수 있다. 도막층을 형성하는 가교제 (D) 로는, 옥사졸린기 함유 폴리머, 우레아계 수지, 멜라민계 수지, 에폭시계 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 사용하는 것이 바람직하다. 가교제의 함유량이 1 중량% 미만인 경우, 도막층의 블로킹성이 부족하여 가스 배리어성의 개량이 불충분한 경우가 있고, 한편 20 중량% 를 초과하면 도막의 형성이 곤란해지고, 평탄화층 또는 가스 배리어층과의 접착성이 충분하게 얻어지지 않아, 가스 배리어성의 개량이 불충분해지는 경우가 있다. The coating film layer of this invention may contain 1-20 weight% of (D) crosslinking agents further. By containing a crosslinking agent, gas barrier property can be improved further. As a crosslinking agent (D) which forms a coating film layer, it is preferable to use at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of an oxazoline group containing polymer, urea resin, melamine resin, and epoxy resin. When the content of the crosslinking agent is less than 1% by weight, the blocking property of the coating layer may be insufficient, and the improvement of gas barrier properties may be insufficient. On the other hand, when the content of the crosslinking agent exceeds 20% by weight, the formation of the coating film may be difficult. May not be sufficiently obtained, resulting in insufficient gas barrier properties.

옥사졸린기 함유 폴리머로서 구체적으로, 하기 식 (I) 로 표시되는 부가 중합성 옥사졸린 (a), 및 필요에 따라, 다른 모노머 (b) 를 중합시켜 얻어지는 중합체를 들 수 있다. Specifically as an oxazoline group containing polymer, the addition polymerizable oxazoline (a) represented by following formula (I), and the polymer obtained by superposing | polymerizing another monomer (b) as needed are mentioned.

Figure 112006047684694-pat00001
Figure 112006047684694-pat00001

(식 중, R1, R2, R3 및 R4 는, 각각, 수소, 할로겐, 알킬기, 아르알킬기, 페닐기 및 치환 페닐기로 이루어지는 군에서 선택되는 치환기를 나타내고, R5 는 부가 중합성 불포화 결합기를 갖는 비(非)환형 유기기를 나타낸다.) (In formula, R <1> , R <2> , R <3> and R <4> represent a substituent selected from the group which consists of a hydrogen, a halogen, an alkyl group, an aralkyl group, a phenyl group, and a substituted phenyl group, respectively, and R <5> is an addition polymeric unsaturated bond group. A non-cyclic organic group having

상기 식 (I) 로 표시되는 부가 중합성 옥사졸린 (a) 의 구체예로는, 2-비닐-2-옥사졸린, 2-비닐-4-메틸-2-옥사졸린, 2-비닐-5-메틸-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-4-메틸-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-5-메틸-2-옥사졸린 등을 들 수 있고, 이들은 1 종 또는 2 종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있다. 이들 중, 2-이소프로페닐-2-옥사졸린이 공업적으로 입수하기 쉬워 바람직하다. As a specific example of the addition polymeric oxazoline (a) represented by said formula (I), 2-vinyl-2- oxazoline, 2-vinyl-4-methyl-2- oxazoline, 2-vinyl-5- Methyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-4-methyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-5-methyl-2-oxazoline, etc. are mentioned. These can be used as 1 type, or 2 or more types of mixtures. Of these, 2-isopropenyl-2-oxazoline is preferable because it is easily obtained industrially.

부가 중합성 옥사졸린 이외의 모노머 (b) 로는, 부가 중합성 옥사졸린 (a) 과 공중합 가능한 모노머이면 특별히 제한은 없고, 예를 들어 (메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산부틸 등의 아크릴산 에스테르류, 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산 등의 불포화 카르복실산류, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 불포화 니트릴류, (메트)아크릴아미드, N-메틸올(메트)아크릴아미드 등의 불포화 아미드류, 아세트산비닐, 프로피온산 비닐 등의 비닐에스테르류, 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르 등의 비닐에테르류, 에틸렌, 프로필렌 등의 α-올레핀류, 염화비닐 등의 할로겐 함유-α,β-불포화 모노머류, 스티렌 등의 α,β-불포화 방향족 모노머류 등을 들 수 있다. 이들은 1 종 또는 2 종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있다. The monomer (b) other than the addition polymerizable oxazoline is not particularly limited as long as it is a monomer copolymerizable with the addition polymerizable oxazoline (a). Examples thereof include acrylic acid esters such as methyl (meth) acrylate and butyl (meth) acrylate. , Unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid and itaconic acid, unsaturated nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile, and unsaturated amides such as (meth) acrylamide and N-methylol (meth) acrylamide Vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate, vinyl ethers such as methyl vinyl ether and ethyl vinyl ether, α-olefins such as ethylene and propylene, halogen-containing α- and β-unsaturated monomers such as vinyl chloride, (Alpha), (beta)-unsaturated aromatic monomers, such as styrene, etc. are mentioned. These can be used as 1 type, or 2 or more types of mixtures.

부가 중합성 옥사졸린 (a) 및 적어도 1 종 이상의 다른 모노머 (b) 를 사용하여 중합체를 얻는 경우, 부가 중합성 옥사졸린 (a) 의 배합량은, 전체 모노머에 대하여 0.5 중량% 이상의 범위로 적절히 정하는 것이 바람직하다. 부가 중합성 옥사졸린 (a) 의 배합량이 0.5 중량% 미만에서는, 본 발명의 목적을 달성하는 것이 곤란해지는 경우가 있다. When a polymer is obtained using the addition polymerizable oxazoline (a) and at least one other monomer (b), the blending amount of the addition polymerizable oxazoline (a) is suitably determined in a range of 0.5% by weight or more based on the total monomers. It is preferable. When the compounding quantity of an addition polymeric oxazoline (a) is less than 0.5 weight%, it may become difficult to achieve the objective of this invention.

에폭시계 수지로는, 구체적으로는, 폴리에폭시 화합물, 디에폭시 화합물, 모노에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 폴리에폭시 화합물로는, 예를 들어 소르비톨폴리글리시딜에테르, 폴리글리세롤폴리글리시딜에테르, 펜타에리트리톨폴리글리시딜에테르, 디글리세롤폴리글리시딜에테르, 트리글리시딜트리스(2-히드록시에틸)이소시아네이트, 글리세롤폴리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판폴리글리시딜에테르, N,N,N',N'-테트라글리시딜메타자일릴렌디아민, N,N,N',N'-테트라글리시딜- 4,4'-디아미노디페닐메탄, N,N,N',N'-테트라글리시딜-1,3-비스아미노메틸시클로헥산 등을 들 수 있다.   Specifically as an epoxy resin, a polyepoxy compound, a diepoxy compound, a monoepoxy compound, etc. are mentioned. As a polyepoxy compound, for example, sorbitol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, diglycerol polyglycidyl ether, triglycidyl tris (2-hydroxy) Ethyl) isocyanate, glycerol polyglycidyl ether, trimethylolpropanepolyglycidyl ether, N, N, N ', N'-tetraglycidylmethazylylenediamine, N, N, N', N'-tetra Glycidyl-4,4'- diaminodiphenylmethane, N, N, N ', N'- tetraglycidyl-1,3-bisaminomethylcyclohexane, etc. are mentioned.

디에폭시 화합물로는, 예를 들어 네오펜티글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 레조르신디글리시딜에테르, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리테트라메틸렌글리콜디글리시딜에테르 등을 들 수 있다. As the diepoxy compound, for example, neopentiglycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol digly Cylyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, polytetramethylene glycol diglycidyl ether, etc. are mentioned.

또한, 모노 에폭시 화합물로는, 예를 들어 알릴글리시딜에테르, 2-에틸헥실글리시딜에테르, 페닐글리시딜에테르 등을 들 수 있다. Moreover, as a mono epoxy compound, allyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, etc. are mentioned, for example.

그 중에서도, N,N,N',N'-테트라글리시딜메타자일릴렌디아민, N,N,N',N'-테트라글리시딜-4,4'-디아미노디페닐메탄, N,N,N',N'-테트라글리시딜-1,3-비스아미노메틸시클로헥산이 바람직하게 예시된다. Especially, N, N, N ', N'- tetraglycidyl meta xylylenediamine, N, N, N', N'- tetraglycidyl-4,4'- diamino diphenylmethane, N, N, N ', N'-tetraglycidyl-1,3-bisaminomethylcyclohexane is preferably exemplified.

우레아계 수지로는, 예를 들어 디메틸올우레아, 디메틸올에틸렌우레아, 디메틸올프로필렌우레아, 테트라메틸올아세틸렌우레아, 4-메톡시5-디메틸프로필렌우레아디메틸올 등을 바람직하게 들 수 있다. As urea-type resin, dimethylol urea, dimethylol ethylene urea, dimethylol propylene urea, tetramethylol acetylene urea, 4-methoxy 5- dimethyl propylene urea dimethylol, etc. are mentioned preferably, for example.

멜라민계 수지로는, 멜라민과 포름알데히드를 축합하여 얻어지는 메틸올멜라민 유도체에 저급 알코올로서 메틸알코올, 에틸알코올, 이소프로필알코올 등을 반응시켜 에테르화한 화합물 및 그들의 혼합물을 바람직하게 들 수 있다. 또한, 메틸올멜라민계 유도체로는, 예를 들어 모노메틸올멜라민, 디메틸올멜라민, 트리메틸올멜라민, 테트라메틸올멜라민, 펜타메틸올멜라민, 헥사메틸올멜라민 등이 예시 된다. Examples of the melamine resins include compounds obtained by etherification of methylol melamine derivatives obtained by condensing melamine with formaldehyde and etherification of methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol and the like as lower alcohols, and mixtures thereof. Examples of the methylolmelamine derivatives include monomethylolmelamine, dimethylolmelamine, trimethylolmelamine, tetramethylolmelamine, pentamethylolmelamine, hexamethylolmelamine, and the like.

이들 가교제 (D) 중에서도, 에폭시계 수지, 특히 폴리에폭시 화합물이 바람직하다. 이들 가교제는 단독, 경우에 따라서는 2 종 이상 병용해도 된다. Among these crosslinking agents (D), epoxy resins, particularly polyepoxy compounds, are preferable. These crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more in some cases.

또한, 본 발명의 도막층은, 그 표면 에너지가 50~65dyne/cm 인 것이 바람직하고, 특히 55~62dyne/cm 인 것이 바람직하다. 이 표면 에너지가 하한 미만인 경우, 평탄화층의 도공성 및 접착성이 불량해지는 경우가 있다. 한편 도막층의 표면 에너지가 상한을 초과하면, 폴리에스테르로 이루어지는 기재 필름과의 접착성이 부족하거나, 도막층의 내습성이 부족한 경우가 있다. 이러한 표면 에너지를 갖는 도막층을 얻기 위해서는, (A) 코폴리에스테르 수지, (B) 폴리비닐알코올, (C) 미립자 및 (D) 가교제가, 각각 상기 기술한 범위로 배합되고, 이들 (A)~(D) 성분을 함유하는 도포액을 사용하며, 예를 들어 0.02~1㎛ 의 두께로 도포 형성함으로써 달성된다. 도포 형성 방법은, 필름 제막시의 연신 공정에 있어서 도포 형성하는 방법, 필름 연신 제막 후에 도포 형성하는 방법 중 어떠한 것이어도 되지만, 도막의 폴리에스테르 필름에 대한 밀착성의 면에서, 필름 제막 공정에 있어서 도포 형성하는 방법이 바람직하다. Moreover, it is preferable that the surface energy of the coating film layer of this invention is 50-65 dyne / cm, and it is especially preferable that it is 55-62 dyne / cm. When this surface energy is less than a lower limit, the coating property and adhesiveness of a planarization layer may become poor. On the other hand, when the surface energy of a coating film layer exceeds an upper limit, adhesiveness with the base film which consists of polyester may be insufficient, or the moisture resistance of a coating film layer may be insufficient. In order to obtain the coating film layer which has such surface energy, (A) copolyester resin, (B) polyvinyl alcohol, (C) microparticles | fine-particles, and (D) crosslinking agent are respectively mix | blended in the range mentioned above, These (A) It is achieved by apply | coating and forming in thickness of 0.02-1 micrometer, for example using the coating liquid containing (D) component. The coating forming method may be any of a method of forming a coating in the stretching step at the time of film forming and a method of coating forming after the film stretching, but in the film forming step from the viewpoint of adhesiveness to the polyester film of the coating film The method of forming is preferable.

또한, 본 발명의 과제를 손상시키지 않는 범위 내에서, 도막층을 형성하는 성분으로서, 상기의 성분 이외에, 대전 방지제, 착색제, 계면 활성제 (습윤제), 자외선 흡수제 등을 사용해도 된다. Moreover, you may use antistatic agent, a coloring agent, surfactant (wetting agent), a ultraviolet absorber, etc. other than said component as a component which forms a coating film layer in the range which does not impair the subject of this invention.

<전체 광선 투과율> <Total light transmittance>

본 발명의 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름은, JIS 규격 K7105 에 준 거하여 측정되는 전체 광선 투과율이 85% 이상인 것이 필요하다. 전체 광선 투과율이 85% 미만인 경우, 투명성이 나빠지기 때문에, 디스플레이용으로 사용한 경우, 휘도가 저하된다. 전체 광선 투과율은, 보다 바람직하게는 87% 이상, 특히 바람직하게는 90% 이상이다. 전체 광선 투과율을 상기 기술한 범위로 하기 위해서는, 기판 필름 중에 필러를 포함하지 않는 것이 필요하고, 또한 (A)~(C) 성분을 함유하는 도막층을 적어도 편면, 바람직하게는 양면에 형성함으로써 전체 광선 투과율이 더욱 향상된다. The polyester film for gas barrier processing of this invention needs to be 85% or more of the total light transmittance measured based on JIS standard K7105. When the total light transmittance is less than 85%, the transparency deteriorates, so that the luminance decreases when used for display. The total light transmittance is more preferably 87% or more, particularly preferably 90% or more. In order to make total light transmittance into the above-mentioned range, it is necessary not to contain a filler in a board | substrate film, and also to form the coating film layer containing (A)-(C) component at least on one side, preferably both surfaces, The light transmittance is further improved.

<헤이즈> <Hayes>

본 발명의 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름은, JIS 규격 K7105 에 준거하여 측정되는 헤이즈가 1.5% 이하인 것이 필요하다. 헤이즈가 1.5% 를 초과하면 투명성이 나빠지기 때문에, 디스플레이용으로 사용한 경우, 표시 화면이 하얗게 보여 콘트라스트가 저하된다. 헤이즈는 보다 바람직하게는 1.0% 이하, 특히 바람직하게는 0.5% 이하이다. 헤이즈를 상기 기술한 범위로 하기 위해서는, 기판 필름 중에 필러를 포함하지 않는 것이 필요하고, 또한 도막층이 (A)~(C) 성분을 함유함으로써 달성된다. It is necessary for the polyester film for gas barrier processes of this invention that the haze measured based on JIS standard K7105 is 1.5% or less. If the haze exceeds 1.5%, the transparency deteriorates, and when used for display, the display screen appears white and the contrast decreases. Haze is more preferably 1.0% or less, particularly preferably 0.5% or less. In order to make haze into the above-mentioned range, it is necessary not to contain a filler in a board | substrate film, and it is achieved by a coating film layer containing (A)-(C) component.

<열 수축률> <Heat shrinkage rate>

본 발명의 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름은, 150℃×30 분간에 있어서의 열 수축률이 MD 방향, TD 방향 각각 0.1% 이하인 것이 바람직하다. 열 수축률이 상한을 초과하면, 폴리에스테르 기재 필름 상에 가스 배리어층을 포함하는 각종 기능층을 적층할 때, 또는 적층한 후에, 150℃ 부근의 고온 분위기 하에서 기 능층에 균열이 생기거나, 또는 주름이 발생되는 결과, 기능층이 파괴되어 가스 배리어성을 포함하는 기능이 충분히 발현되지 않는 경우가 있다. 150℃×30 분간에 있어서의 열 수축률은, 보다 바람직하게는 0.05% 이하, 특히 바람직하게는 0.03% 이하이다. It is preferable that the thermal contraction rate in 150 degreeC x 30 minutes of the polyester film for gas barrier processes of this invention is 0.1% or less in MD direction and TD direction, respectively. When the heat shrinkage ratio exceeds the upper limit, when the various functional layers including the gas barrier layer are laminated on the polyester base film or after lamination, cracks or wrinkles occur in the functional layer under a high-temperature atmosphere around 150 ° C. As a result of this, the functional layer may be broken, and the function including gas barrier property may not be sufficiently expressed. The heat shrinkage rate at 150 ° C. for 30 minutes is more preferably 0.05% or less, particularly preferably 0.03% or less.

150℃ 에 있어서의 열 수축률을 상기 기술한 범위로 하기 위해서는, 폴리에스테르 필름의 제막 공정에 있어서, 세로, 가로 방향 각각 연신한 후, (Tm-100)~(Tm-5)℃ 의 온도에서 1~100 초간 열고정을 실시하고, 그 후 (X-80)~X℃ 의 온도에서 이완 처리를 실시함으로써 달성된다. 여기에서 Tm 은 융점, X 는 열고정 온도를 각각 가리킨다. In order to make the heat shrinkage rate in 150 degreeC into the above-mentioned range, in the film forming process of a polyester film, after extending | stretching each lengthwise and horizontal direction, it is 1 at the temperature of (Tm-100)-(Tm-5) degreeC. It is achieved by performing heat setting for ˜100 seconds and then performing a relaxation treatment at a temperature of (X-80) to X ° C. Tm is melting | fusing point and X is heat setting temperature here, respectively.

또한, 본 발명의 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름은, 200℃×10 분간에 있어서의 열 수축률이 MD 방향, TD 방향 각각 0.2% 이하인 것이 바람직하다. 폴리에스테르 기재 필름의 200℃×10 분간에 있어서의 열 수축률이 이러한 범위에 있음으로써, 200℃ 부근의 열이력을 받은 후에도 높은 가스 배리어성이 유지된다. 열 수축률이 상한을 초과하면, 폴리에스테르 필름 상에 가스 배리어층을 포함하는 각종 기능층을 적층할 때, 또는 적층한 후, 200℃ 부근의 고온 분위기 하에서의 작업 공정이 있는 경우에 기능층에 잔금이 생기거나, 또는 주름이 가는 결과, 기능층이 파괴되어 가스 배리어성을 포함하는 기능이 충분하게 발현되지 않는 경우가 있다. 200℃×10 분간에 있어서의 열 수축률은, 보다 바람직하게는 0.1% 이하, 특히 바람직하게는 0.05% 이하이다. Moreover, it is preferable that the thermal contraction rate in 200 degreeC * 10 minutes of the polyester film for gas barrier processes of this invention is 0.2% or less in MD direction and TD direction, respectively. By the heat shrinkage rate in 200 degreeC x 10 minutes of a polyester base film in these ranges, high gas barrier property is maintained even after receiving the heat history of 200 degreeC vicinity. When the heat shrinkage ratio exceeds the upper limit, when the various functional layers including the gas barrier layer are laminated on the polyester film, or after lamination, there is a work process in a high-temperature atmosphere around 200 ° C. As a result of wrinkles or wrinkles, the functional layer may be broken so that a function including gas barrier properties may not be sufficiently expressed. The heat shrinkage rate at 200 ° C. for 10 minutes is more preferably 0.1% or less, and particularly preferably 0.05% or less.

200℃ 에 있어서의 열 수축률을 상기 기술한 범위로 하기 위해서는, 폴리에 스테르 필름의 제막 공정에 있어서, 3.9 배 이하로 세로, 가로 방향 각각 연신하고, (Tm-100)~(Tm-5)℃ 의 온도에서 1~100 초간 열고정을 실시하고, 그 후 (X-80)~X℃ 의 온도에서 이완 처리를 실시함으로써 달성된다. 200℃ 에 있어서의 열 수축률이 이러한 범위에 있는 기재 필름은, 동시에 7.0GPa 이하의 영률도 구비하는 것이다. In order to make the heat shrinkage rate in 200 degreeC into the above-mentioned range, in the film forming process of a polyester film, it extends | stretches longitudinally and horizontally at 3.9 times or less, respectively (Tm-100)-(Tm-5) It is achieved by performing heat setting at a temperature of 1 ° C. for 1 to 100 seconds and then performing a relaxation treatment at a temperature of (X-80) to X ° C .. The base film in which the thermal contraction rate in 200 degreeC exists in such a range also has a Young's modulus of 7.0 GPa or less simultaneously.

<평탄화층> <Flattening layer>

본 발명에 의하면, 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름의 적어도 1 개의 도막층 상에, 가스 배리어성을 높일 목적에서, 추가로 평탄화층이 적층된 가스 배리어 가공용 적층 폴리에스테르 필름이 제공된다. 본 발명에 있어서의 평탄화층은, 표면을 평탄화시키고, 층간을 밀착시키는 기능을 갖는 것이면 특히 종류, 층의 형성 방법은 한정되지 않는다. 도막층 및 평탄화층을 개재하여 기재 필름에 가스 배리어층을 적층시킴으로써, 가스 투과의 원인이 되는 결점을 감소시킬 수 있다. 가스 배리어성에 착목한 평탄화층의 효과로는, 표면을 평탄화함으로써 가스 배리어층에 핀 홀이나 크랙 등의 결점이 잘 생기지 않게 되는 것, 도막층과 평탄화층의 접착성이 높기 때문에 가스의 투과 경로가 되는 결점을 줄일 수 있는 것 등을 들 수 있다. 그 결과, 평탄화층을 포함하는 경우, 습도 팽창 계수 αh 가 우수하고, 가스 배리어성이 향상된다. According to this invention, the laminated polyester film for gas barrier processing which further provided the planarization layer was laminated | stacked on the at least 1 coating film layer of the polyester film for gas barrier processing in order to improve gas barrier property. The type and method of forming the layer are not particularly limited as long as the planarization layer in the present invention has a function of leveling the surface and bringing the layers into close contact. By laminating the gas barrier layer on the base film via the coating film layer and the planarization layer, the defect that causes gas permeation can be reduced. The effect of the planarization layer on the gas barrier property is to planarize the surface so that defects such as pinholes and cracks do not easily occur in the gas barrier layer, and because the adhesion between the coating layer and the planarization layer is high, It can mention the thing which can reduce the fault which arises. As a result, when a planarization layer is included, humidity expansion coefficient (alpha) h is excellent and gas barrier property improves.

평탄화층은, 도포에 의해서 형성되는 것이 바람직하고, 프라이머층, 앵커층으로 지칭하는 경우가 있다. 평탄화층으로서, 예를 들어 규소 함유 수지, 에폭시 수지 등의 열경화성 수지, 자외선 경화성 아크릴 수지 등의 방사선 경화성 수 지, 멜라민 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 폴리아크릴로니트릴, 아크릴로니트릴-아크릴산메틸 공중합체나 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체 등의 아크릴로니트릴 공중합체, 폴리염화비닐리덴, 비닐알코올 및 그 공중합체가 예시되고, 적어도 이들 중 1 개를 함유하는 코팅 조성물을 사용하는 것이 바람직하다. It is preferable to form a planarization layer by application | coating, and it may be called a primer layer and an anchor layer in some cases. Examples of the planarization layer include thermosetting resins such as silicon-containing resins and epoxy resins, radiation-curable resins such as ultraviolet curable acrylic resins, melamine resins, urethane resins, alkyd resins, polyacrylonitrile, and acrylonitrile-methyl acrylate. Acrylonitrile copolymers, such as a copolymer and an acrylonitrile- styrene copolymer, polyvinylidene chloride, vinyl alcohol, and its copolymer are illustrated, It is preferable to use the coating composition containing at least one of these.

이들 중에서도 도막층과의 접착성이 보다 높아지는 점에서, 규소 함유 수지, 폴리비닐알코올 및 그 공중합체를 포함하는 평탄화층이 바람직하다. 더욱 바람직한 평탄화층으로서, (a) 에폭시기 및 알콕시실릴기를 갖는 규소 화합물, 그 (부분) 가수 분해물, 그 (부분) 축합물, 및 이들 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 에폭시 규소계 화합물, (b) 아미노기 및 알콕시실릴기를 갖는 규소 화합물, 그 (부분) 가수 분해물, 그 (부분) 축합물, 및 이들 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 아미노 규소계 화합물, 그리고 (c) 폴리비닐알코올 또는 폴리비닐알코올 공중합체를 가교 반응시켜 이루어지는 경화 폴리머층을 들 수 있다. 평탄화층으로서, (a)~(c) 성분을 가교 반응시켜 이루어지는 경화 폴리머를 사용한 경우, 표면 평활성, 도포층 및 가스 배리어층과의 접착성, 내구성, 가소성이 우수하고, 가스 배리어성이 더욱 향상된다. Among these, since the adhesiveness with a coating film layer becomes higher, the planarization layer containing a silicon containing resin, polyvinyl alcohol, and its copolymer is preferable. As a more preferable planarization layer, (a) the silicon compound which has an epoxy group and the alkoxy silyl group, its (partial) hydrolyzate, its (partial) condensate, and an epoxy silicon type compound chosen from the group which consists of these mixtures, (b) an amino group And an amino silicon compound selected from the group consisting of a silicon compound having an alkoxysilyl group, its (partial) hydrolyzate, its (partial) condensate, and a mixture thereof, and (c) a polyvinyl alcohol or a polyvinyl alcohol copolymer. The cured polymer layer formed by crosslinking reaction is mentioned. As a planarization layer, when the cured polymer which crosslinks-reacts (a)-(c) component is used, it is excellent in surface smoothness, adhesiveness with an application layer, and a gas barrier layer, durability, plasticity, and gas barrier property further improves. do.

(a) 에폭시기 및 알콕시실릴기를 갖는 규소 화합물은, 예를 들어 하기 일반식 (II)(a) The silicon compound which has an epoxy group and the alkoxy silyl group, for example, is following General formula (II)

Figure 112006047684694-pat00002
Figure 112006047684694-pat00002

(상기 식 중, R6 은 탄소수 1~4 의 알킬렌기, R7 및 R8 은 탄소수 1~4 의 알킬기, X 는 글리시독시기 또는 에폭시시클로헥실기이고, n 은 1 또는 0 이다)(Wherein R 6 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, R 7 and R 8 are an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, X is a glycidoxy group or an epoxycyclohexyl group, n is 1 or 0)

로 표시되는 화합물을 들 수 있다. And the like.

일반식 (II) 로 표시되는 에폭시기 및 알콕시실릴기를 갖는 규소 화합물 중에서도, 특히 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, (3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란이 바람직하다. 이들 화합물은 단독으로, 또는 2 종 이상을 합쳐서 사용할 수 있다. Among the silicon compounds having an epoxy group and an alkoxysilyl group represented by General Formula (II), 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane are particularly preferable. These compounds can be used individually or in combination of 2 or more types.

에폭시기 및 알콕시실릴기를 갖는 규소 화합물의 (부분) 가수 분해물이란, 이러한 규소 화합물의 일부 또는 전부가 가수 분해된 것이다. 또한, 그 (부분) 축합물이란, 그 규소 화합물의 가수 분해물의 일부 또는 전부가 축합 반응한 축합물, 및 그 축합물과 가수 분해되지 않는 원료의 규소 화합물이 축합한 것이고, 이들은 이른바 졸 겔 반응시킴으로써 얻어진다.  The (partial) hydrolyzate of the silicon compound which has an epoxy group and the alkoxy silyl group is a part or whole hydrolysis of such a silicon compound. The (partial) condensate is a condensate obtained by condensation of a part or all of the hydrolyzate of the silicon compound and a silicon compound of a raw material which is not hydrolyzed with the condensate. It is obtained by making it.

(b) 아미노기 및 알콕시실릴기를 갖는 규소 화합물은, 예를 들어 하기 일반식 (III)(b) The silicon compound which has an amino group and the alkoxy silyl group, for example, is following General formula (III)

Figure 112006047684694-pat00003
Figure 112006047684694-pat00003

(상기 식 중, R9 는 탄소수 1~4 의 알킬렌기, R10 및 R11 은 탄소수 1~4 의 알킬기, Y 는 수소 원자 또는 아미노알킬기이고, m 은 1 또는 0 이다) 으로 표시되는 화합물을 들 수 있다. (Wherein R 9 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, R 10 and R 11 are an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Y is a hydrogen atom or an aminoalkyl group, m is 1 or 0) Can be mentioned.

일반식 (III) 으로 표시되는 아미노기 및 알콕시실릴기를 갖는 규소 화합물 중에서도, 특히 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, N-메틸-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란이 바람직하다. 이들 화합물은 단독으로, 또는 2 종 이상을 합쳐서 사용할 수 있다. Among the silicon compounds having an amino group and an alkoxysilyl group represented by General Formula (III), 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-methyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane and N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane are preferable. These compounds can be used individually or in combination of 2 or more types.

아미노기 및 알콕시실릴기를 갖는 규소 화합물의 (부분) 가수 분해물이란, 이러한 규소 화합물의 일부 또는 전부가 가수 분해된 것이다. 또한, 그 (부분) 축합물이란, 그 규소 화합물의 가수 분해물의 일부 또는 전부가 축합 반응한 축합물, 및 그 축합물과 가수 분해되지 않는 원료의 규소 화합물이 축합한 것이다. The (partial) hydrolyzate of the silicon compound which has an amino group and the alkoxy silyl group is a part or whole hydrolysis of such a silicon compound. The (partial) condensate is a condensation product of a condensate obtained by condensation reaction of part or all of the hydrolyzate of the silicon compound, and a silicon compound of a raw material that is not hydrolyzed with the condensate.

(c) 폴리비닐알코올 또는 폴리비닐알코올 공중합체는, 도막층의 (B) 폴리비닐알코올 성분의 설명에 있어서의 폴리비닐알코올 또는 그 공중합체를 사용할 수 있다. 폴리비닐알코올 공중합체로서, 비닐알코올-아세트산비닐 공중합체, 비닐알코올-비닐부티랄 공중합체, 에틸렌-비닐알코올 공중합체, 분자 내에 실릴기를 갖는 폴리비닐알코올계 고분자가 예시되고, 이들 중에서도 비닐알코올-아세트산비닐 공중합체, 에틸렌-비닐알코올 공중합체, 분자 내에 실릴기를 갖는 폴리비닐알코올계 고분자가 바람직하고, 특히 에틸렌-비닐알코올 공중합체가 바람직하다. The polyvinyl alcohol or its copolymer in description of the (B) polyvinyl alcohol component of a coating film layer can be used for (c) polyvinyl alcohol or a polyvinyl alcohol copolymer. Examples of the polyvinyl alcohol copolymers include vinyl alcohol-vinyl acetate copolymers, vinyl alcohol-vinyl butyral copolymers, ethylene-vinyl alcohol copolymers, and polyvinyl alcohol polymers having a silyl group in the molecule. Among these, vinyl alcohol- The vinyl acetate copolymer, the ethylene-vinyl alcohol copolymer, and the polyvinyl alcohol polymer having a silyl group in the molecule are preferable, and the ethylene-vinyl alcohol copolymer is particularly preferable.

통상, 비닐알코올의 공중합 비율이 비누화도로 표시되고, (c) 성분은, 비누화도가 74~90mol% 인 것이 바람직하다. 비누화도가 74mol% 미만에서는, 평탄화층의 내습성이 저하되어 가스 배리어성이 불충분해지는 경우가 있다. 한편 비누화도가 90mol% 를 초과하면 도막층 및 가스 배리어층에 대한 접착성이나 내블로킹성이 저하되는 경우가 있다. Usually, it is preferable that the copolymerization ratio of vinyl alcohol is represented by a saponification degree, and (c) component has a saponification degree of 74-90 mol%. When the saponification degree is less than 74 mol%, the moisture resistance of the planarization layer may fall, and gas barrier property may become inadequate. On the other hand, when saponification degree exceeds 90 mol%, the adhesiveness and blocking resistance to a coating film layer and a gas barrier layer may fall.

또한, 분자 내에 실릴기를 갖는 폴리비닐알코올계 고분자란, 하기 일반식 (IV) 로 표시되는 반응성의 알콕시실릴기를 갖는 것이다. In addition, the polyvinyl alcohol-type polymer which has a silyl group in a molecule | numerator has a reactive alkoxy silyl group represented by following General formula (IV).

Figure 112006047684694-pat00004
Figure 112006047684694-pat00004

(상기 식 중, R12 는 수소 또는 탄소수 1~10 의 알킬기, 아실기, 또는 알칼리 금속, 알칼리 토금속을 나타내고, R13 은 탄소수 1~10 의 알킬기를 나타내며, p 는 1~3 의 정수를 나타낸다) (In the formula, R 12 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group, or an alkali metal or an alkaline earth metal, R 13 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and p represents an integer of 1 to 3). )

실릴기의 함유량은 바람직하게는 5 몰% 이하, 보다 바람직하게는 1 몰% 이하이다. 실릴기의 함유량이 많아지면 평탄화층을 형성하는 도포제가 겔화되기 쉬운 경향에 있다. 또한 「분자 내」 란 고분자 중합체의 말단도 포함하는 것이고, 실릴기가 가수 분해성이 아닌 결합에 의해서 폴리비닐알코올계 고분자와 결합하고 있으면, 그 위치, 분포 상태 등에 특별히 제한은 없다. The content of the silyl group is preferably 5 mol% or less, more preferably 1 mol% or less. When the content of the silyl group increases, the coating agent forming the planarization layer tends to gel. In addition, "in a molecule" means the terminal of a high molecular polymer, and if a silyl group couple | bonds with a polyvinyl alcohol-type polymer by the bond which is not hydrolyzable, there is no restriction | limiting in particular in the position, distribution state, etc.

(a)~(c) 성분의 함유 비율은, 하기 식 (1) 로 표시되는 중량비인 것이 바람직하다. It is preferable that the content rate of (a)-(c) component is a weight ratio represented by following formula (1).

1/9<(c)/{(a)+(b)}<9/1…(1) 1/9 <(c) / {(a) + (b)} <9/1... (One)

각 성분의 중량은, 각각의 규소 화합물 중의 알콕시실릴기의 모두가 가수 분해 후, 축합 반응하였다고 가정하여 구해진다. The weight of each component is determined assuming that all of the alkoxysilyl groups in the respective silicon compounds undergo condensation reaction after hydrolysis.

(a)~(c) 성분의 함유 비율이 식 (1) 의 상한을 초과하는 경우, 내수성, 내약품성이 저하되는 경우가 있다. 한편, (a)~(c) 성분의 함유 비율이 식 (1) 의 하한 미만인 경우, 가스 배리어성이 충분히 개량되지 않는 경우가 있다. When the content rate of (a)-(c) component exceeds the upper limit of Formula (1), water resistance and chemical resistance may fall. On the other hand, when the content rate of (a)-(c) component is less than the lower limit of Formula (1), gas barrier property may not fully improve.

또한 (a) 성분과 (b) 성분의 함유 비율은, 접착성, 내열성, 내용제성, 내수성, 내구성 등의 면에서, 하기 식 (2) 로 표시되는 중량비인 것이 바람직하다. Moreover, it is preferable that the content rate of (a) component and (b) component is a weight ratio represented by following formula (2) from a viewpoint of adhesiveness, heat resistance, solvent resistance, water resistance, durability, etc.

1/6<(a')/(b')<6/1…(2)1/6 <(a ') / (b') <6/1... (2)

(상기 식 중, (a') 는 (a) 성분에 함유되는 에폭시기의 몰 당량 환산량, (b') 는 (b) 성분에 함유되는 아미노기와 이미노기의 합계 몰 당량 환산량을 나타낸다) (In the formula, (a ') represents the molar equivalent conversion amount of the epoxy group contained in (a) component, (b') shows the total molar equivalent conversion amount of the amino group and imino group contained in (b) component.)

(a)~(c) 성분을 가교 반응시켜 이루어지는 경화 폴리머는, 가교시에 필요에 따라 경화 촉매를 첨가해도 된다. In the cured polymer formed by crosslinking the components (a) to (c), a curing catalyst may be added as necessary at the time of crosslinking.

평탄화층은 도포에 의해서 형성되는 것이 바람직하고, 예를 들어 (a)~(c) 성분을 가교 반응시켜 이루어지는 경화 폴리머의 경우, (a)~(c) 의 각 성분 및 용제를 함유하는 코팅용 조성물을 도포층 상에 도포하고, 가열 경화시킴으로써 형성할 수 있다. 도포 방법으로, 딥 코트, 스프레이 코트, 플로우 코트, 롤 코트, 바 코트, 스핀 코트 등, 통상 사용되고 있는 방법이 예시된다. It is preferable that a planarization layer is formed by application | coating, for example, in the case of the cured polymer formed by crosslinking-reacting (a)-(c) component, for coating containing each component of (a)-(c) and a solvent It can form by apply | coating a composition on a coating layer and heat-hardening. As a coating method, the method currently used, such as a dip coat, a spray coat, a flow coat, a roll coat, a bar coat, a spin coat, is illustrated.

평탄화층의 막 두께는 0.01~100㎛ 가 바람직하다. 특히 경화 폴리머의 경우, 막 두께가 100㎛ 를 초과하면 경화에 시간이 걸린다. As for the film thickness of a planarization layer, 0.01-100 micrometers is preferable. Especially in the case of a cured polymer, curing takes time when the film thickness exceeds 100 µm.

본 발명의 평탄화층은, 크로스 컷 시험법에 의해서 측정되는 평탄화층의 박리 면적이 10% 이하인 것이 바람직하다. 여기에서, 크로스 컷 시험법에 의해서 측정되는 평탄화층의 박리 면적이란, 평탄화층 상에 1㎟ 의 격자 눈금을 100 개, 바둑판 눈 형상으로 크로스 컷을 행하고, 그 위에 24mm 폭의 셀로판 테이프 (니치반사 제조 등록 상표) 를 부착하여, 180°의 박리 각도로 급격히 떼어낸 후, 박리면을 관찰하여, (박리된 격자 눈금의 수/100개)×100 으로 구해지는 값으로 정의된다. It is preferable that the peeling area of the planarization layer measured by the cross cut test method of the planarization layer of this invention is 10% or less. Here, the peeling area of the planarization layer measured by the crosscut test method cross-cuts 100 grids of 1 mm <2> and a checkerboard eye shape on a planarization layer, and the cellophane tape of 24 mm width (niche reflection) on it. Manufactured trademark), and after peeling off at 180 degree peeling angle rapidly, a peeling surface is observed and it is defined as the value calculated | required by (number / 100 of peeled lattice scales) x100.

또한 본 평가 방법은, 평탄화층과 도막층이 크로스 컷되어 있기 때문에, 기재-도막층간, 도막층-평탄화층간에 있어서, 보다 접착력이 약한 계면에서 박리된다. 그래서 박리 시험 후, 광학 현미경으로 어느 쪽의 계면에서 박리되고 있는지를 판단하는 것으로 한다. In addition, in this evaluation method, since the planarization layer and the coating film layer are cut | disconnected, it peels at the interface with a weaker adhesive force between a base material-coating layer and between coating-film layer-flattening layers. Therefore, after an peeling test, it shall be judged which interface is peeled off by an optical microscope.

평탄화층의 박리 면적이 상한을 초과하는 경우, 도막층을 개재한 기재 필름과 평탄화층의 접착성이 충분하지 않고, 충분한 가스 배리어성이 얻어지지 않는 경우가 있다. 한편, 하한은 작으면 작을수록 도막층과 평탄화층의 접착성이 우수하고, 양호한 가스 배리어성이 얻어지며, 통상은 적어도 0% 이다. When the peeling area of a planarization layer exceeds an upper limit, the adhesiveness of the base film through a coating film layer and a planarization layer may not be enough, and sufficient gas barrier property may not be obtained. On the other hand, the smaller the lower limit, the better the adhesion between the coating layer and the planarization layer, and a good gas barrier property is obtained, and usually at least 0%.

박리 면적을 상기 기술한 범위로 하기 위한 달성 수단으로는, 평탄화층으로서, 도막층과 접착성이 높은 제(劑), 예를 들어 규소 함유 수지 및 폴리비닐알코올 및 그 공중합체, 특히 바람직하게는 (a)~(c) 성분을 가교 반응시켜 이루어지는 경화 폴리머를 사용함으로써 달성된다. As means for achieving the peeling area in the above-described range, as the planarization layer, a high adhesiveness with the coating layer, for example, silicon-containing resin and polyvinyl alcohol and its copolymer, particularly preferably It is achieved by using the cured polymer formed by crosslinking-reacting (a)-(c) component.

<가스 배리어 가공용 (적층) 폴리에스테르 필름 및 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름> <(Laminated) Polyester Film and Gas Barrier Laminated Polyester Film for Gas Barrier Processing>

본 발명에 있어서의 가스 배리어 가공용 (적층) 폴리에스테르 필름이란, 가 스 배리어층이 적층되기 전 단계의 층 구성의 폴리에스테르 필름을 가리킨다. 구체적으로는, 폴리에스테르로 이루어지는 기재 필름의 적어도 편면에 도막층이 형성된 층 구성을 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름으로 지칭한다. 또한 폴리에스테르로 이루어지는 기재 필름의 적어도 편면에 도막층과 평탄화층을 갖는 층 구성의 경우, 가스 배리어 가공용 적층 폴리에스테르 필름으로 지칭한다. 이들 층 구성의 경우, 가스 배리어 가공용 (적층) 폴리에스테르 필름 자체로는 유기 EL 디스플레이 기판이나 전자 페이퍼 기판으로서 충분한 가스 배리어성은 갖지 않지만, 가스 배리어 가공용 (적층) 폴리에스테르 필름에, 추가로 후술하는 가스 배리어층을 형성한 경우, 종래에 없는 우수한 수증기 가스 배리어성을 발현시킬 수 있고, 본 발명에서는 가스 배리어층을 함유하는 적층 폴리에스테르 필름을 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름으로 지칭하고 있다. The (laminated) polyester film for gas barrier processing in this invention refers to the polyester film of the laminated constitution of a step before a gas barrier layer is laminated | stacked. Specifically, the layer structure in which the coating film layer was formed in the at least single side | surface of the base film which consists of polyester is called the polyester film for gas barrier processes. Moreover, in the case of the laminated constitution which has a coating film layer and a planarization layer in the at least single side | surface of the base film which consists of polyester, it is called the laminated polyester film for gas barrier processes. In the case of these laminated constitutions, the (laminated) polyester film for gas barrier processing itself does not have sufficient gas barrier properties as an organic EL display substrate or an electronic paper substrate, but is further described later in the (laminated) polyester film for gas barrier processing. When the barrier layer is formed, excellent water vapor gas barrier properties, which are not available in the past, can be expressed, and in the present invention, the laminated polyester film containing the gas barrier layer is referred to as a gas barrier laminated polyester film.

<가스 배리어층> <Gas barrier layer>

본 발명에 있어서, 가스 배리어성을 더욱 높일 목적에서, 적어도 1 개의 도막층 상 또는 적어도 1 개의 평탄화층 상에 가스 배리어층이 적층된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름을 사용할 수 있다. 이러한 가스 배리어층으로, 금속 산화물 또는 금속 질화물이 예시된다. In the present invention, in order to further improve the gas barrier property, a gas barrier laminated polyester film in which a gas barrier layer is laminated on at least one coating layer or at least one planarization layer can be used. As such a gas barrier layer, a metal oxide or metal nitride is exemplified.

금속 산화물로서, 예를 들어 산화아연, 산화규소, 산화알루미늄, 산화마그네슘, 산화티탄, 산화인듐, 산화주석, 산화주석인듐 (ITO), 산화탄타늄, 산화지르코늄 및 산화니오듐을 들 수 있고, 1 종류 또는 그들을 조합하여 사용해도 된다. 이들 금속 산화물 중에서도, 주성분은 산화아연, 산화규소, 산화알루미늄, 산화마그 네슘이 바람직하고, 특히 가스 배리어성이나 접착성 등의 면에서 산화규소가 바람직하다. 이들 금속 화합물에는, 또한 보조 성분으로 철, 니켈, 크롬, 티탄, 인듐, 주석, 안티몬, 텅스텐, 몰리브덴, 구리로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 금속이 함유되어 있어도 된다. 또한 막의 가요성(可撓性)이나 투명성을 개선할 목적에서 탄소나 불소를 적절히 함유시켜도 된다. 주성분은 가스 배리어층의 중량을 기준으로 70 중량% 이상, 보조 성분은 가스 배리어층의 중량을 기준으로 30 중량% 이하의 범위에서 각각 첨가할 수 있다. Examples of the metal oxides include zinc oxide, silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, titanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), titanium oxide, zirconium oxide, and nidium oxide. You may use one type or a combination of them. Among these metal oxides, zinc oxide, silicon oxide, aluminum oxide and magnesium oxide are preferable, and silicon oxide is particularly preferable in terms of gas barrier properties and adhesiveness. These metal compounds may further contain at least one metal selected from the group consisting of iron, nickel, chromium, titanium, indium, tin, antimony, tungsten, molybdenum and copper as auxiliary components. Moreover, you may contain carbon and fluorine suitably for the purpose of improving the flexibility and transparency of a film | membrane. The main component may be added in the range of 70% by weight or more based on the weight of the gas barrier layer and the auxiliary component in the range of 30% by weight or less based on the weight of the gas barrier layer.

산화규소의 조성은, X 선 광전자 분광법, X 선 마이크로 분광법, 오제 전자 분광법, 라자호드 후방 산란법 등에 의해 분석, 결정된다. 투과율, 굴곡성 등의 면에서, SiOx 로 표시된 평균 조성에 있어서, x 는 1.5 이상 2.0 이하의 범위가 바람직하다. x 가 1.5 보다 작으면 굴곡성, 투명성이 저하되는 경우가 있다. The composition of silicon oxide is analyzed and determined by X-ray photoelectron spectroscopy, X-ray microscopy, Auger electron spectroscopy, Rajahord backscattering, or the like. In view of transmittance, flexibility, and the like, in the average composition represented by SiOx, x is preferably in a range of 1.5 or more and 2.0 or less. When x is smaller than 1.5, flexibility and transparency may fall.

금속 질화물로는, 질화알루미늄, 질화규소 및 질화붕소가 예시되고, 1 종류 또는 그들을 조합하여 사용해도 된다. Examples of the metal nitrides include aluminum nitride, silicon nitride, and boron nitride, and may be used alone or in combination.

가스 배리어층은, 공지된 스퍼터법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법, 플라즈마 CVD 법 등에 의해 형성된다. 특히 스퍼터법은, 금속 산화물의 산화도를 자유롭게 바꿀 수 있고, 게다가 장시간에 걸쳐 막 조성의 변화가 작고, 막 두께 균일성, 표면 평탄성이 우수한 이점을 갖는다. The gas barrier layer is formed by a known sputtering method, vacuum deposition method, ion plating method, plasma CVD method, or the like. In particular, the sputtering method can freely change the oxidation degree of a metal oxide, and also has the advantage that the change in film composition is small over a long time, and the film thickness uniformity and surface flatness are excellent.

금속 산화물층의 두께는 2~200nm 의 범위가 바람직하다. 금속 산화물층의 두께가 2nm 미만에서는 균일하게 막을 형성하는 것이 어렵고, 막이 형성되지 않는 부분이 발생하여 가스 배리어성을 손상시키는 경우가 있다. 한편 두께가 200nm 을 초과하는 경우, 투명성, 굴곡성이 저하되어 크랙이 생기고, 가스 배리어성을 손상시키는 경우이 있다. The thickness of the metal oxide layer is preferably in the range of 2 to 200 nm. If the thickness of the metal oxide layer is less than 2 nm, it is difficult to form a film uniformly, and a portion where the film is not formed may occur, thereby impairing the gas barrier property. On the other hand, when thickness exceeds 200 nm, transparency and flexibility may fall, a crack may arise and gas barrier property may be impaired.

<습도 팽창 계수 αh> Humidity Expansion Coefficient αh

본 발명의 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름의 MD 방향 및 TD 방향의 습도 팽창 계수 αh 는, 각각 1~10ppm/%RH 의 범위에 있는 것이 바람직하다. 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름의 습도 팽창 계수 αh 가 이러한 범위에 있음으로써, 높은 가스 배리어성이 얻어진다. MD 방향 및 TD 방향의 습도 팽창 계수 αh 는, 바람직하게는 각각 1~5ppm/%RH 의 범위이다. MD 방향 및 TD 방향의 습도 팽창 계수 αh 가 각각 하한 미만인 경우, 기재 필름을 구성하는 폴리에스테르에 대하여 흡습성이 낮은 블렌드 성분을 다량으로 첨가할 필요성이 생기고, 이들 성분에 의해서 폴리에스테르 필름이 갖는 내열 치수 안정성 및 투명성이 저하되는 경우가 있다. 한편, MD 방향 및 TD 방향의 습도 팽창 계수 αh 가 각각 상한을 초과하는 경우, 고습도 분위기 하에서 기재 필름이 흡습 팽창해 버리고, 기판 상에 적층시키는 가스 배리어층을 포함하는 각종 기능층과의 습도 변화에 대한 치수 변화의 차이로부터, 각종 기능층에 크랙이 생기는 등으로 기능층이 원래의 기능을 충분히 발휘할 수 없게 되어, 높은 가스 배리어성이 얻어지지 않는 경우가 있다. It is preferable that humidity expansion coefficient (alpha) h of MD direction and TD direction of the gas barrier laminated polyester film of this invention exists in the range of 1-10 ppm /% RH, respectively. When the humidity expansion coefficient (alpha) h of a gas barrier laminated polyester film exists in such range, high gas barrier property is obtained. The humidity expansion coefficient αh in the MD direction and the TD direction is preferably in the range of 1 to 5 ppm /% RH, respectively. When the humidity expansion coefficients αh in the MD direction and the TD direction are less than the lower limit, respectively, it is necessary to add a large amount of the blend component having low hygroscopicity to the polyesters constituting the base film, and the heat resistance dimensions of the polyester film by these components Stability and transparency may fall. On the other hand, when the humidity expansion coefficients αh in the MD direction and the TD direction exceed the upper limits, respectively, the base film is hygroscopically expanded and expanded in a high humidity atmosphere, and changes in humidity with various functional layers including a gas barrier layer laminated on a substrate. From the difference in the dimensional change, the functional layer may not fully exhibit the original function due to cracks in various functional layers, and thus high gas barrier properties may not be obtained.

이들 습도 팽창 계수 αh 의 범위를 달성하기 위해서는, 폴리에스테르 기재 필름의 적어도 1 개의 도막층 상에 가스 배리어층을 포함하는 층 구성, 또는 폴리에스테르 기재 필름의 적어도 1 개의 도막층 상에 평탄화층과 가스 배리어층이 적 층된 층 구성 중 어느 하나의 층 구성을 갖는 것, 그리고 도막층을 개재하여 기재 필름, 가스 배리어층 쌍방과의 접착성을 높이는 것을 들 수 있다. 각 층이 밀착함으로써 수증기의 투과 경로가 되는 결함이 적어진다. 또한 어떠한 응력이 가해진 경우에, 계면 박리 또는 가스 배리어층에 크랙이 발생하는 것에 의한 결함이 잘 생기지 않기 때문에, 수증기의 확산 속도가 늦어지고, 고습도 분위기의 상태에서도 기재 필름이 잘 흡습되지 않게 되어, 본 발명의 습도 팽창 계수 αh 의 범위를 갖는 가스 배리어성 적층 필름을 얻을 수 있다. In order to achieve the range of these humidity expansion coefficients (alpha) h, the layer structure containing a gas barrier layer on at least 1 coating layer of a polyester base film, or the planarization layer and gas on at least 1 coating layer of a polyester base film The thing which has a laminated constitution of any one of the laminated constitution in which the barrier layer was laminated | stacked, and improving adhesiveness with both a base film and a gas barrier layer through a coating film layer is mentioned. By adhering each layer closely, the defect which becomes a permeation path of water vapor | steam reduces. In addition, when any stress is applied, defects due to the occurrence of cracks in the interfacial peeling or the gas barrier layer are less likely to occur, resulting in a slower diffusion rate of water vapor and less absorption of the base film even in a high humidity atmosphere. The gas barrier laminated film which has the range of the humidity expansion coefficient (alpha) h of this invention can be obtained.

본 발명의 습도 팽창 계수 αh 는, 더욱 상세하게는, i) 층 구성으로서 폴리에스테르 기재 필름의 편면에 도막층, 평탄화층, 가스 배리어층이 순서대로 적층된 층 구성이거나, 또는 폴리에스테르로 이루어지는 기재 필름의 양면에 적어도 도막층 및 가스 배리어층을 이 순서로 포함하는 층 구성인 것, ii) 상기 기술한 각 층의 접착성을 높이는 것, 구체적으로는 기재 필름 그리고 가스 배리어층 또는 평탄화층과의 접착성을 높이는 효과를 갖는 특정한 도막층을 사용하는 것, 및 iii) 기재 필름이 2.9 배 이상의 배율로 MD 방향 및 TD 방향의 연신되어 이루어지는 것인 i)~iii) 모두를 구비함으로써 달성된다. 또한, 폴리에스테르 기재 필름의 편면에 도막층, 평탄화층, 가스 배리어층이 순서대로 적층된 층 구성의 경우, 추가로 iv) 기재 필름 두께의 하한이 이미 기술한 범위를 만족시키는 것이 바람직하다. More specifically, the humidity expansion coefficient αh of the present invention is, i) a layer structure in which a coating film layer, a planarization layer, and a gas barrier layer are sequentially laminated on one side of a polyester base film as a layer structure, or a substrate made of polyester. A layer structure comprising at least a coating layer and a gas barrier layer on both sides of the film in this order, ii) enhancing the adhesion of the above-described layers, specifically, the base film and the gas barrier layer or the planarizing layer. It is achieved by using the specific coating film layer which has the effect of improving adhesiveness, and iii) both the base films are i)-iii) which are extended | stretched of MD direction and TD direction by the magnification of 2.9 times or more. Moreover, in the case of the laminated constitution in which a coating film layer, a planarization layer, and a gas barrier layer were laminated | stacked in order on the single side | surface of a polyester base film, it is preferable that the minimum of iv) base film thickness satisfy | fills the range previously described further.

또한 5ppm/%RH 이하의 습도 팽창 계수 αh 를 달성하는 수단으로서, 상기 기술한 i) 층 구성이, 폴리에스테르 기재 필름의 양면에 도막층, 평탄화층, 가스 배리어층이 순서대로 적층된 3 층 구성을 갖는 것이 바람직하다. In addition, as a means for achieving a humidity expansion coefficient αh of 5 ppm /% RH or less, the i) layer structure described above is a three-layer structure in which a coating film layer, a planarization layer, and a gas barrier layer are sequentially stacked on both surfaces of a polyester base film. It is preferable to have.

<수증기 투과율> <Water vapor transmittance>

본 발명의 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름은, 40℃, 90%RH 의 고습도 조건에 있어서, 수증기 투과율이 0.1g/㎡/day 이하인 것이 바람직하다. 또한, 40℃, 90%RH 에서의 수증기 투과율은, 보다 바람직하게는 0.05g/㎡/day 이하, 특히 바람직하게는 0.01g/㎡/day 이하이다. 40℃, 90%RH 에서의 수증기 투과율의 하한은 특별히 한정은 없고, 통상은 MOCON 법의 검출 한계 미만이다. 환산한 경우의 수증기 투과율의 하한은, 바람직하게는 10×10-6g/㎡/day 이상이다. It is preferable that the water vapor transmission rate of the gas barrier laminated polyester film of this invention is 0.1 g / m <2> / day or less in 40 degreeC and the high humidity conditions of 90% RH. The water vapor transmission rate at 40 ° C. and 90% RH is more preferably 0.05 g / m 2 / day or less, and particularly preferably 0.01 g / m 2 / day or less. The lower limit of the water vapor transmission rate at 40 ° C. and 90% RH is not particularly limited, and is usually less than the detection limit of the MOCON method. The lower limit of the water vapor transmission rate in terms of conversion is preferably 10 × 10 −6 g / m 2 / day or more.

상기 기술한 수증기 투과율의 범위는, 도막층의 구성 성분으로서 (A)~(C) 성분을 사용하여 평탄화층 또는 가스 배리어층과의 접착성을 높이고, 또한 층 구성이 폴리에스테르 기재 필름의 편면에 도막층, 평탄화층, 가스 배리어층이 순서대로 적층된 층 구성이거나, 또는 폴리에스테르로 이루어지는 기재 필름의 양면에 적어도 도막층 및 가스 배리어층을 이 순서로 포함하는 층 구성인 것에 의해 달성된다. 가스 배리어층 자체는 가스 배리어 기능을 갖는 층이지만, 가스 배리어층을 갖는 것만으로는 가스의 투과 경로가 될 수 있는 어떠한 결함이 생겨 버리고, 유기 EL 디스플레이나 전자 페이퍼 용도에 필요한 레벨의 가스 배리어성, 즉 상기 기술한 수증기 투과율로 표시되는 가스 배리어성을 얻을 수 없다. 그래서, 본 발명의 도막층 및 평탄화층을 개재하여 기재 필름에 금속 산화물 또는 금속 질화물로 이루어지는 층을 적층시킴으로써, 상기 기술한 범위의 가스 배리어성이 달성된다. 또한 기재 필름이 에틸렌나프탈레이트인 것에 의해, 보다 높은 가스 배리어성이 달성 된다.  The above-mentioned range of water vapor transmission rate improves the adhesiveness with a planarization layer or a gas barrier layer using (A)-(C) component as a structural component of a coating film layer, and a layer structure is provided to one side of a polyester base film. This is achieved by a layer structure in which a coating film layer, a planarization layer, and a gas barrier layer are laminated in this order, or a layer structure including at least a coating film layer and a gas barrier layer in this order on both surfaces of a base film made of polyester. The gas barrier layer itself is a layer having a gas barrier function, but having a gas barrier layer alone causes some defects that can be a gas transmission path, and the level of gas barrier properties required for organic EL display and electronic paper applications, That is, gas barrier properties expressed by the water vapor transmission rate described above cannot be obtained. Therefore, the gas barrier property of the above-mentioned range is achieved by laminating | stacking the layer which consists of a metal oxide or a metal nitride on a base film via the coating film layer and planarization layer of this invention. In addition, when the base film is ethylene naphthalate, higher gas barrier properties are achieved.

<제막 방법> <Production method>

본 발명의 폴리에스테르 필름은, 폴리에스테르를 필름상으로 용융 압출하고, 캐스팅 드럼에서 냉각 고화시켜 미연신 필름으로 하고, 이 미연신 필름을 폴리에스테르 수지의 Tg~(Tg+60)℃ 에서 세로 (MD) 방향, 가로 (TD) 방향으로 배율 2.0~5.0 배로 2 축으로 연신하고, (Tm-100)~(Tm-5)℃ 의 온도에서 1~100 초간 열고정함으로써 얻어진다. The polyester film of this invention melt-extrudes polyester to a film form, it solidifies by cooling in a casting drum, and it is set as an unstretched film, and this unstretched film is lengthwise (Tg- (Tg + 60) degreeC of polyester resin. It is obtained by extending | stretching biaxially at 2.0-5.0 times magnification in MD) direction and a transverse (TD) direction, and heat-setting for 1 to 100 second at the temperature of (Tm-100)-(Tm-5) degreeC.

MD 방향 및 TD 방향의 연신 배율은, 본 발명의 영률 및 습도 팽창 계수 αh를 구비하기 위해서는 하한이 2.9 배 이상인 것이 바람직하다. 또한 MD 방향 및 TD 방향의 연신 배율은, 본 발명의 영률 및 200℃ 에 있어서의 열 수축률을 구비하기 위해서 상한이 3.9 배 이하인 것이 바람직하다. In order for the draw ratio of MD direction and TD direction to have the Young's modulus and humidity expansion coefficient (alpha) h of this invention, it is preferable that a minimum is 2.9 times or more. Moreover, it is preferable that an upper limit is 3.9 times or less for the draw ratio of MD direction and a TD direction to provide the Young's modulus of this invention and the heat shrink rate in 200 degreeC.

연신은 일반적으로 사용되는 방법, 예를 들어 롤에 의한 방법이나 스텐터를 사용하는 방법으로 실시할 수 있고, MD 방향, TD 방향을 동시에 연신해도 되고, 또한 MD 방향, TD 방향으로 축차 연신해도 된다. 도막층은 축차 연신하는 경우, 일 방향으로 연신한 1 축 배향 필름에 수성 도포액을 도포하고, 그 상태로 다른 일 방향으로 연신하여 열고정하는 방법으로 형성할 수 있다. 도막층의 도포 방법으로는, 공지된 임의의 도포법을 적용할 수 있다. 예를 들어 롤 코트법, 그라비아 코트법, 롤 브러시법, 스프레이 코트법, 에어나이프 코트법, 함침법 및 커튼 코트법 등을 단독 또는 조합하여 사용할 수 있다. 도포량은 주행하고 있는 필름 1㎡ 당 0.5~20g, 더욱 1~10g 이 바람직하다. 수성액은 수분산액 또는 유 화액으로 사용하는 것이 바람직하다. Stretching can be performed by a method generally used, for example, by a roll method or a method using a stenter, and may be simultaneously drawn in the MD direction and the TD direction, or may be sequentially drawn in the MD direction and the TD direction. . When the coating film layer is gradually drawn, it can be formed by apply | coating an aqueous coating liquid to the uniaxial oriented film extended | stretched to one direction, extending | stretching and heat-setting in the other direction in that state. As a coating method of a coating film layer, the well-known arbitrary coating methods can be applied. For example, a roll coating method, a gravure coating method, a roll brush method, a spray coating method, an air knife coating method, an impregnation method, a curtain coating method, etc. can be used individually or in combination. The coating amount is preferably 0.5 to 20 g, more preferably 1 to 10 g, per 1 m 2 of running film. The aqueous solution is preferably used as an aqueous dispersion or emulsion.

또한 이완 처리를 실시하는 경우는, 가열 처리를 필름의 (X-80)~X℃ 의 온도에서 실시하는 것이 효과적이다. 여기에서 X 는 열고정 온도인 것을 나타낸다. 이완 처리 방법으로는, 열고정~롤에 권취할 때까지의 사이에 있어서, i) 열고정 존의 도중에서 필름의 양단부를 분리하고, 필름의 공급 속도에 대하여 인취(引取) 속도를 감속시키는 방법, ii) 2 개의 속도가 다른 반송 롤 사이에 있어서 IR 히터로 가열하는 방법, iii) 가열 반송 롤 상에 필름을 반송시켜 가열 반송 롤 후의 반송롤의 속도를 감속시키는 방법, iv) 열고정 후 열풍을 내뿜는 노즐 상에 필름을 반송시키면서, 공급 속도보다 인취 속도를 감속시키는 방법을 들 수 있다. 또한 v) 제막기로 권취한 후, 필름을 가열시키면서, 필름 공급측의 롤 속도보다, 권취측의 롤 속도를 감속시켜 이완 처리를 실시하는 방법도 들 수 있다. 이 경우의 가열 수단은, 롤을 가열하는 방법, 가열 오븐이나 IR 히터를 사용하는 방법 등을 들 수 있다. Moreover, when performing a relaxation process, it is effective to perform heat processing at the temperature of (X-80)-X degreeC of a film. X represents here being a heat setting temperature. In the relaxation treatment method, between the heat setting and the roll, the process is performed. I) A method of separating both ends of the film in the middle of the heat setting zone and reducing the take-up speed with respect to the feeding speed of the film. ii) a method of heating with an IR heater between two conveying rolls having different speeds, iii) a method of conveying a film on a heated conveying roll to reduce the speed of the conveying roll after the heating conveying roll, iv) hot air after heat setting The method of slowing down a take-up speed rather than a feed speed is conveyed, conveying a film on the nozzle which blows out. Moreover, after winding up the film forming machine, the method of slowing down the roll speed of the winding side rather than the roll speed of the film supply side, heating a film, and performing a relaxation process are also mentioned. As a heating means in this case, the method of heating a roll, the method of using a heating oven, an IR heater, etc. are mentioned.

이완 처리는, 어떠한 방법을 사용해도 되고, 공급측의 속도에 대하여 인취 측의 속도의 감속률을 0.1~10% 로 하여 이완 처리를 실시하는 것이 바람직하다. What kind of method may be used for a relaxation process, and it is preferable to perform a relaxation process by making the deceleration rate of the speed | rate of a take-out side into 0.1 to 10% with respect to the speed of a supply side.

본 발명의 200℃ 에서의 열 수축률 특성을 구비하는 폴리에스테르 필름을 얻기 위해서는, 3.9 배 이하의 연신 배율로 MD 방향, TD 방향으로 각각 연신하고, (Tm-100)~(Tm-5)℃ 의 온도에서 1~100 초간 열고정을 실시하고, 그 후 (X-80)~X℃ 의 온도에서 이완 처리를 실시함으로써 달성된다. In order to obtain the polyester film which has the heat shrinkage characteristic in 200 degreeC of this invention, it extends | stretches to MD direction and TD direction at the draw ratio of 3.9 times or less, respectively, and (Tm-100)-(Tm-5) degreeC It is achieved by performing heat setting for 1 to 100 seconds at a temperature, and then performing a relaxation treatment at a temperature of (X-80) to X ° C.

평탄화층은, 얻어진 폴리에스테르 필름의 도막층 상에, 평탄화 조성물 용액 을 도포하고, 100~150℃ 의 온도 범위에서 열 처리를 실시함으로써 형성된다. 또한 도막층 또는 평탄화층 상에, 스퍼터링법 등을 사용하여 가스 배리어층이 형성된다. A planarization layer is formed by apply | coating a planarization composition solution on the coating film layer of the obtained polyester film, and heat-processing in the temperature range of 100-150 degreeC. Further, a gas barrier layer is formed on the coating layer or the planarization layer by using a sputtering method or the like.

<용도> <Use>

본 발명의 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름은, 가스 배리어성 및 투명성이 강하게 요구되는 용도, 예를 들어 유기 EL 디스플레이, 전자 페이퍼 등의 화상 표시 장치의 기판 필름으로 바람직하게 사용된다. 또한 액정 디스플레이, 유기 TFT 등의 기판 필름으로도 사용할 수 있다. The polyester film for gas barrier processing of this invention is used suitably as a board | substrate film of image display apparatuses, such as the use for which gas barrier property and transparency are strongly requested | required, for example, organic electroluminescent display, an electronic paper. Moreover, it can also be used as substrate films, such as a liquid crystal display and an organic TFT.

또한 본 발명의 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름은, 가스 배리어성, 투명성이 우수하기 때문에, 이들 특성이 요구되는 화상 표시 장치, 예를 들어 유기 EL 디스플레이 기판, 전자 페이퍼 기판으로 바람직하게 사용된다. 또한 액정 디스플레이 기판, 유기 TFT 기판으로도 사용할 수 있다. Moreover, since the gas barrier laminated polyester film of this invention is excellent in gas barrier property and transparency, it is used suitably as an image display apparatus which requires these characteristics, for example, an organic electroluminescent display board | substrate and an electronic paper substrate. It can also be used as a liquid crystal display substrate and an organic TFT substrate.

실시예Example

이하, 실시예에 근거하여 본 발명을 설명한다. 각 특성치 그리고 평가법은 하기의 방법에 의해서 측정, 평가하였다. 또한, 필름 샘플이란, 폴리에스테르 기재 필름과, 도막층이 형성되어 있는 경우는 도막층으로 이루어지는 필름을 가리킨다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated based on an Example. Each characteristic value and the evaluation method were measured and evaluated by the following method. In addition, a film sample refers to the film which consists of a coating film layer, when a polyester base film and a coating film layer are formed.

(1) 필름 두께 (1) film thickness

전자 마이크로 미터 (안리츠 (주) 제조의 상품명 「K-312A 형」) 를 사용하여 침압 30g 으로 필름 샘플 두께를 측정하였다. The film sample thickness was measured by the immersion pressure 30g using the electronic micrometer (brand name "K-312A type" by Anritsu Corporation).

(2) 헤이즈, 전체 광선 투과율 (2) haze, total light transmittance

JIS 규격 K7105 에 따라서, 필름 샘플의 전체 광선 투과율 Tt(%) 와 산란광 투과율 Td(%) 를 구하여, 헤이즈 ((Td/Tt)×100)(%) 를 산출한다. According to JIS standard K7105, the total light transmittance Tt (%) and scattered light transmittance Td (%) of a film sample are calculated | required, and haze ((Td / Tt) * 100) (%) is computed.

헤이즈 Hayes

A : 1.5% 이하 A: 1.5% or less

B : 1.5% 를 초과 B: more than 1.5%

전체 광선 투과율Total light transmittance

A : 85% 이상 A: 85% or more

B : 85% 미만 B: less than 85%

(3) 열 수축률 (3) heat shrinkage

필름 샘플에 30cm 간격으로 표점을 그리고, 하중을 가하지 않고 소정 온도의 오븐으로 열 처리를 실시하고, 열 처리 후의 표점 간격을 측정하여, MD 방향과 TD 방향에서, 각각 하기 식으로 열 수축률을 산출하였다. 열 수축률(%)=((열 처리 전 표점간 거리-열 처리 후 표점간 거리)/열 처리 전 표점간 거리)×100The film sample was drawn at 30 cm intervals, heat treated in an oven at a predetermined temperature without applying a load, and the gap between the marks after the heat treatment was measured, and the heat shrinkage was calculated in the following directions in the MD and TD directions, respectively. . Heat shrinkage percentage (%) = ((distance between gage marks before heat treatment-distance between gage marks after heat treatment) / distance between gage marks before heat treatment) × 100

150℃×30 분 열 처리 후의 열 수축률에 대하여 하기 기준으로 평가하였다. The following reference | standard evaluated the thermal contraction rate after heat-processing 150 degreeC * 30 minutes.

A : MD, TD 각각의 150℃ 열 수축률≤0.05% A: 150 ° C heat shrinkage of MD and TD≤0.05%

B : 0.05%<MD, TD 각각의 150℃ 열 수축률≤0.1% B: 0.05% <MD, 150 DEG C heat shrinkage of TD≤0.1%

C : 0.1%<MD, TD 각각의 150℃ 열 수축률C: 0.1% <MD, 150 ° C heat shrinkage of each TD

200℃×10 분 열 처리 후의 열 수축률에 대하여 하기 기준으로 평가하였다. The following reference | standard evaluated the heat shrink rate after 200 degreeC * 10 minute heat processing.

A : MD, TD 각각의 200℃ 열 수축률≤0.2% A: 200 ° C heat shrinkage of MD and TD≤0.2%

B : 0.2%<MD, TD 각각의 200℃ 열 수축률B: 0.2% <MD, 200 ° C. heat shrinkage of each TD

(4) 도막층의 두께 (4) thickness of coating layer

필름의 소편을 에폭시 수지 (리파인텍 (주) 제조의 상품명「에포마운트」) 중에 포매(包埋)하고, Reichert-Jung 사 제조 Microtome2050 을 사용하여 포매 수지마다 50nm 두께로 슬라이스하며, 투과형 전자 현미경 (LEM-2000) 으로 가속 전압 100KV, 배율 10 만배로 관찰하여, 도막층의 두께를 측정하였다. A small piece of film was embedded in an epoxy resin (trade name "Epomount" manufactured by Refinefine Inc.) and sliced into 50 nm thickness for each embedding resin using a Microtome2050 manufactured by Reichert-Jung Co., Ltd., and a transmission electron microscope ( LEM-2000), it observed with acceleration voltage 100KV and magnification 100,000 times, and measured the thickness of the coating film layer.

(5) 도막층 중의 입자의 평균 입경 (5) Average particle diameter of particles in coating layer

도막층 두께의 측정과 동일한 조작을 실시하고, 100 개의 입자의 입자 직경을 측정하여, 평균치를 평균 입자 직경으로 하였다. The same operation as the measurement of the coating film layer thickness was performed, and the particle diameter of 100 particles was measured, and the average value was made into the average particle diameter.

(6) 도막층의 내깎임성 (6) shear resistance of coating layer

20mm 폭으로 절단한 필름 샘플을 사용하고, 필름의 도막층면을 직경 10mm 의 원주상 스테인리스제 고정 바에 맞추어 200g 의 하중을 가한 상태에서 80m 주행시킨 후, 바에 부착한 도막의 백분을 관찰하여, 내깎임성을 하기와 같이 평가한다. Using a film sample cut to a width of 20 mm, the film layer surface of the film was run for 80 m with a load of 200 g in accordance with a fixed column made of a columnar stainless steel with a diameter of 10 mm. Evaluate as follows.

A : 바에 백분의 부착이 없다 · · · ·내깎임성 양호 A: No sticking of powder on the bar · · · · Good cutting resistance

B : 바에 백분이 소량 부착된다 · · ·내깎임성 약간 불량B: small amount of powder adheres to the bar

(7) 블로킹성 (7) blocking property

50mm 폭으로 절단한 필름 샘플을 2 장 사용하고, 도막층면과 도막층이 도포 형성되어 있지 않은 면을 포개어, 50kg/c㎡ 의 하중 하, 60℃×80%RH 에서 17 시간 처리한 후, 도막층면과 비도막층면의 박리력을 측정하여, 내블로킹성을 하기와 같이 평가한다. After using two film samples cut | disconnected in 50 mm width, the coating film surface and the surface on which the coating film layer is not apply | coated were piled up, and after processing for 17 hours at 60 degreeC x 80% RH under a load of 50 kg / cm <2>, The peeling force of a layer surface and a non-coating layer surface is measured, and blocking resistance is evaluated as follows.

A : 박리력≤10g · · · 내블로킹성 양호 A: Peeling force ≤ 10 g Good blocking resistance

B : 10g<박리력≤30g · ·내블로킹성 약간 불량B: 10 g <peeling force ≤ 30 g

C : 30g<박리력· · · ·내블로킹성 불량 C: 30 g <Peeling force · Bad blocking resistance

(8) 평탄화층, 기재층의 밀착성(8) Adhesion between the planarization layer and the base material layer

에틸렌-비닐알코올 공중합체 (구라레 주식회사 제조, 제품명「에발」,이하 EVOH 로 약기하는 경우가 있다) 100 부를, 물 720 부, n-프로판올 1080 부의 혼합 용매에 가열 용해시키고, 이 용액에 레벨링제 (토레이 다우코닝사 제조, 제품명「SH30PA」) 를 0.1 부, 아세트산 39 부 첨가한 후, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란을 211 부 첨가하여 10 분간 교반하였다. 추가로 이 용액에 3-아미노프로필트리메톡시실란을 77 부 첨가하고 3 시간 교반하여 코팅 조성물을 얻었다. 이 코팅 조성물을, 폴리에스테르 필름의 도막층면 상에 코팅하고, 130℃×3 분 열 처리를 실시하여, 두께가 2㎛ 의 평탄화층을 형성하였다. 100 parts of ethylene-vinyl alcohol copolymers (manufactured by Kuraray Co., Ltd., product name "Eval", hereinafter sometimes referred to as EVOH) are dissolved by heating in a mixed solvent of 720 parts of water and 1080 parts of n-propanol, and the leveling agent in this solution. After 0.1 part and 39 parts of acetic acid were added (Toray Dow Corning Co., Ltd. product name "SH30PA"), 211 parts of 2- (3, 4- epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane were added and it stirred for 10 minutes. Furthermore, 77 parts of 3-aminopropyltrimethoxysilane were added to this solution, and it stirred for 3 hours, and obtained the coating composition. This coating composition was coated on the coating layer surface of the polyester film, and 130 degreeC * 3 heat | fever treatment was performed, and the planarization layer of 2 micrometers in thickness was formed.

평탄화층 면에 바둑판 눈 형상의 크로스 컷 (1m㎡ 의 격자 눈금을 100 개) 을 행하고, 그 위에 24mm 폭의 셀로판 테이프 (니치반사 제조) 를 부착하여, 180°의 박리 각도로 급격히 떼어낸 후, 박리면을 관찰하여, 하기 기준으로 평가하였다. 또한 본 평가 방법은, 평탄화층과 도막층이 크로스 컷되어 있기 때문에, 기재-도막층간, 도막층-평탄화층간에 있어서, 보다 접착력이 약한 계면에서 박리한다. 그래서 박리 시험 후, 도막층에 포함되는 미립자의 존재를 광학 현미경으로 확인하여, 어느 쪽의 계면에서 박리되고 있는가를 판단하였다. A cross cut (100 square meters of 1 m 2) in the shape of a checkerboard eye was formed on the planarization layer surface, and a cellophane tape (manufactured by Nichiban Co., Ltd.) having a width of 24 mm was attached thereon, and rapidly peeled off at a peeling angle of 180 degrees. The peeling surface was observed and evaluated based on the following criteria. In addition, in this evaluation method, since the planarization layer and the coating film layer are cut | disconnected, it peels at the interface with weaker adhesive force between a base material-coating layer and between coating-film layer-flattening layer. Therefore, after peeling test, presence of the microparticles | fine-particles contained in a coating film layer was confirmed with the optical microscope, and it was judged which interface is peeling off.

A : 박리 면적이 10% 미만· · · · · ·접착력 매우 양호 A: Peeling area is less than 10% Very good adhesion

B : 박리 면적이 10% 이상 40% 미만· · ·접착력 약간 양호 B: Peeling area is 10% or more but less than 40%.

C : 박리 면적이 40% 를 초과하는 것· · ·접착력 매우 불량C: Peeling area exceeds 40%.

(9) 습도 팽창 계수 αh (9) humidity expansion coefficient αh

필름을 길이 15mm, 폭 5mm 로 필름 시료편을 잘라내고, 신꾸우 이공 제조 TMA3000 에 세트하고, 30℃, 질소 분위기 하에서, 습도를 30%RH×16hr, 및 습도 70%RH× 16hr 로 일정하게 유지하고, 각각의 습도 조건시의 샘플 길이를 측정하여, 하기 식 (3) 으로 습도 팽창 계수를 산출한다. 또한, MD 방향의 습도 팽창 계수란 필름의 세로 방향을 측정 방향으로 한 것이고, TD 방향의 습도 팽창 계수란 필름의 가로 방향을 측정 방향으로 한 것이다. 각각의 방향에 대하여 10 개의 필름 샘플을 측정하여, 그 평균치를 αh 로 하였다. A film sample piece was cut out to 15 mm in length and 5 mm in width, and it was set in TMA3000 made by Shin-Kyu-poong, and it kept constant at 30 degreeC and nitrogen atmosphere at 30% RH * 16hr, and humidity 70% RH * 16hr. And the sample length in each humidity condition is measured, and a humidity expansion coefficient is computed by following formula (3). In addition, the humidity expansion coefficient of MD direction made the longitudinal direction of a film the measurement direction, and the humidity expansion coefficient of the TD direction made the horizontal direction of a film the measurement direction. Ten film samples were measured about each direction, and the average value was made into (alpha) h.

αh={(L2-L1)/(L1×ΔH)}· · ·(3) αh = {(L 2 -L 1 ) / (L 1 × ΔH)} (3)

여기에서, 상기 식 중, L1 은 습도 30%RH 시의 시료편 길이 (mm), L2 는 습도 70%RH 시의 시료편 길이 (mm), ΔH 는 40(=70-30)%RH 를 각각 나타낸다. Here, in the above formula, L 1 is the sample piece length (mm) at 30% RH humidity, L 2 is the sample piece length (mm) at 70% RH humidity, and ΔH is 40 (= 70-30)% RH. Respectively.

또한, 표 1, 2 에 기재된 실시예 1~31, 비교예 2~8 은, (8) 밀착성 및 (10) 가스 배리어성의 평가 방법에 따라서, 폴리에스테르 기재 필름의 편면에 도막층, 평탄화층 및 가스 배리어층을 적층한 적층 필름을 사용하여 αh 의 측정을 실시하였다. 표 3 에 기재된 실시예 32~35, 비교예 9, 10 은, 각각 표 3 에 기재에 적층 구성의 필름을 사용하여 αh 의 측정을 실시하였다. In addition, Examples 1-31 and Comparative Examples 2-8 of Table 1, 2 show a coating film layer, a planarizing layer, and the single side | surface of a polyester base film according to the evaluation method of (8) adhesiveness and (10) gas barrier property. (Alpha) h was measured using the laminated | multilayer film which laminated | stacked the gas barrier layer. Examples 32-35 and Comparative Examples 9 and 10 of Table 3 measured αh using the film of a laminated constitution in Table 3, respectively.

A : 1ppm/%RH≤αh<5ppm/%RH · · ·치수 안정성 매우 양호 A: 1ppm /% RH≤αh <5ppm /% RH Very good dimension stability

B : 5ppm/%RH≤αh≤10ppm/%RH · ·치수 안정성 양호 B: 5ppm /% RH≤αh≤10ppm /% RH

C : 10ppm/%RH<αh≤15ppm/%RH · ·치수 안정성 불량 C: 10ppm /% RH <αh≤15ppm /% RH

D : 15ppm/%RH<αh · · · · · ·치수 안정성 매우 불량D: 15ppm /% RH <αh Very poor dimension stability

(10) 가스 배리어성 (수증기 배리어성 (평가법 1))(10) Gas barrier property (water vapor barrier property (evaluation method 1))

(8) 밀착성의 평가 방법에 따라서 도막층 상에 형성한 평탄화층 상에, 스퍼터링법으로 두께 30nm 의 SiO2 막을 형성하고, MOCON 사 제조의 퍼머트란 W1A 를 사용하여 40℃, 90 RH% 분위기 하에 있어서의 수증기 투과율을 측정하여, 하기 기준으로 가스 배리어성을 평가하였다. (8) A SiO 2 film having a thickness of 30 nm was formed on the planarization layer formed on the coating layer in accordance with the evaluation method of adhesion, by using a Permran W1A manufactured by MOCON under 40 ° C and 90 RH% atmosphere. The water vapor transmission rate in was measured and gas barrier properties were evaluated based on the following criteria.

A : 수증기 투과율≤0.05g/㎡/day · · · · · · ·배리어성 매우 양호 A: water vapor transmission rate ≤0.05 g / m 2 / day Very good barrier

B : 0.05g/㎡/day <수증기 투과율≤0.1g/㎡/day· · ·배리어성 양호 B: 0.05 g / m 2 / day <water vapor transmission rate ≤0.1 g / m 2 / day

C : 0.1g/㎡/day <수증기 투과율 · · · · · · ·배리어성 불량C: 0.1g / ㎡ / day <Water vapor transmittance · · · · · Barrier poor

(11) 가스 배리어성 (수증기 배리어성 (평가법 2))(11) gas barrier property (water vapor barrier property (evaluation method 2))

각 실시예, 비교예에 기재된 층 구성의 필름 샘플을 사용하고, M0CON 사 제조의 퍼머트란 W1A 를 사용하여 40℃, 90 RH% 분위기 하에 있어서의 수증기 투과율을 측정하여, 하기 기준으로 가스 배리어성을 평가하였다. Using the film sample of the laminated constitution described in each Example and the comparative example, the water vapor transmission rate in 40 degreeC and 90 RH% atmosphere is measured using the Permtran W1A by M0CON Co., Ltd. Evaluated.

A : 수증기 투과율≤0.05g/㎡/day · · · · · ·배리어성 매우 양호 A: Water vapor transmission rate ≤ 0.05g / m2 / day Very good barrier

B : 0.05g/㎡/day <수증기 투과율≤0.1g/㎡/day · ·배리어성 양호 B: 0.05 g / m 2 / day <water vapor transmission rate ≤0.1 g / m 2 / day

C : 0.1g/㎡/day <수증기 투과율 · · · · · · ·배리어성 불량C: 0.1g / ㎡ / day <Water vapor transmittance · · · · · Barrier poor

(12) 고온 열이력 후의 수증기 배리어성(12) Water vapor barrier property after high temperature thermal history

(10) 또는 (11) 과 동일한 층 구성의 필름을 사용하여 200℃ 에서 10 분간 가열 처리를 실시하고, 그 후 MOCON 사 제조의 퍼머트란 W1A 를 사용하여 40℃, 90 RH% 분위기 하에서의 필름의 수증기 투과율을 측정하여, 하기 기준으로 평가하였다. Water treatment was performed at 200 ° C. for 10 minutes using a film having the same laminated constitution as (10) or (11), and thereafter, water vapor of the film was used at 40 ° C. and 90 RH% atmosphere using Permran W1A manufactured by MOCON. The transmittance was measured and evaluated based on the following criteria.

A : 수증기 투과율≤0.05g/㎡/day · · · · · ·배리어성 매우 양호 A: Water vapor transmission rate ≤ 0.05g / m2 / day Very good barrier

B : 0.05g/㎡/day <수증기 투과율≤0.1g/㎡/day · ·배리어성 양호 B: 0.05 g / m 2 / day <water vapor transmission rate ≤0.1 g / m 2 / day

C : 0.1g/㎡/day <수증기 투과율 · · · · · · 배리어성 불량C: 0.1g / ㎡ / day <Water vapor transmittance · · · · · Barrier barrier property

[실시예 1]Example 1

나프탈렌-2,6-디카르복실산디메틸 100 부 및 에틸렌글리콜 60 부를, 에스테르 교환 촉매로서 아세트산망간4수염 0.03 부를 사용하고, 150℃ 에서 238℃ 로 서서히 승온시키면서 120 분간 에스테르 교환 반응을 실시하였다. 도중 반응 온도가 170℃ 에 도달한 시점에서 인산트리메틸 (에틸렌글리콜 중에서 135℃, 5 시간 0.11~0.16MPa 의 가압 하에서 가열 처리한 용액: 인산트리메틸 환산량으로 0.023 부) 을 첨가하고, 에스테르 교환 반응 종료 후, 3 산화 안티몬 0.024 부를 첨가하였다. 100 parts of dimethyl naphthalene-2,6-dicarboxylic acid and 60 parts of ethylene glycol were transesterified for 120 minutes, using 0.03 part of manganese acetate tetrahydrate as a transesterification catalyst, gradually heating up from 150 degreeC to 238 degreeC. When the reaction temperature reached 170 degreeC, trimethyl phosphate (The solution heat-processed by pressure of 135 degreeC in ethylene glycol at 0.11-0.16 MPa for 5 hours: 0.023 part in trimethyl phosphate equivalent) was added, and transesterification reaction was complete | finished. Thereafter, 0.024 parts of antimony trioxide was added.

그 후 반응 생성물을 중합 반응기에 옮기고, 290℃ 까지 승온하여, 27Pa 이하의 고진공 하에서 중축합 반응을 실시하여, 고유 점도가 0.61dl/g 의, 실질적으로 입자를 함유하지 않는, 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트를 얻었다. The reaction product is then transferred to a polymerization reactor, heated up to 290 ° C, subjected to a polycondensation reaction under a high vacuum of 27 Pa or less, and substantially free of particles having an intrinsic viscosity of 0.61 dl / g, polyethylene-2,6 -Naphthalenedicarboxylate was obtained.

이 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트의 펠릿을 170℃ 에서 6 시간 건조 후, 압출기 호퍼에 공급하여, 용융 온도 305℃ 에서 용융하고, 2mm 의 슬릿상 다이를 통과시켜 표면 온도 60℃ 의 회전 냉각 드럼 상에서 압출하고, 급랭하여 미연신 필름을 얻었다. 얻어진 미연신 필름을 120℃ 에서 예열하고, 추가로 저속, 고속의 롤 사이에서, 15mm 상방에서 900℃ 의 IR 히터로 가열하여 세로 방향으로 3.1 배로 연신하였다. 이 종연신 후의 필름의 편면에, 도막층을 형성하기 위해서, 이하의 조성으로 이루어지는 고형분 농도 4 중량% 의 수성액을 롤 코터로 도포하고, 계속해서 텐터에 공급하여, 145℃ 에서 가로 방향으로 3.5 배로 연신하였다. After drying the pellet of this polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate at 170 degreeC for 6 hours, it supplies to an extruder hopper, melts at melting temperature of 305 degreeC, and passes through a 2 mm slit-shaped die, and has a surface temperature of 60 degreeC. Extruded on a rotary cooling drum and quenched to obtain an unstretched film. The obtained unstretched film was preheated at 120 degreeC, and also it extended | stretched 3.1 times in the longitudinal direction by heating with a 900 degreeC IR heater 15 mm above between low speed and high speed rolls. In order to form a coating film layer on the single side | surface of this longitudinal stretched film, the aqueous liquid of 4 weight% of solid content concentration which consists of the following compositions is apply | coated with a roll coater, it is supplied to a tenter, and it is 3.5 in the horizontal direction at 145 degreeC. Stretched by ship.

얻어진 2 축 배향 필름을 240℃ 의 온도에서 40 초간 열고정하고, 두께 100㎛ 의 폴리에스테르 필름을 권취한 후, IR 히터에 의한 가열 존을 사용하여 처리 온도 200℃, 이완율 1.0% 로 이완 처리를 실시하여, 연신 필름 (필름 샘플) 을 얻었다. 얻어진 필름 샘플의 특성을 표 1, 2, 3 에 나타낸다. After heat-setting the obtained biaxially-oriented film for 40 second at the temperature of 240 degreeC, and winding up the 100-micrometer-thick polyester film, a relaxation process was performed at 200 degreeC of treatment temperature and 1.0% of relaxation rate using the heating zone by IR heater. It carried out and obtained the stretched film (film sample). The characteristic of the obtained film sample is shown to Table 1, 2, 3.

접착성 평가는 (8) 밀착성 평가에 기재된 방법에 따라서, 필름 샘플의 도막층 상에 평탄화층을 적층하여 평가를 실시하였다. 또한 가스 배리어성 및 습도 팽창 계수의 평가는, (10) 가스 배리어성 평가에 기재된 방법에 따라, 기재 필름의 편면에 도막층, 평탄화층, 가스 배리어층이 순차 적층된 구성의 필름을 사용하여 실시하였다. Adhesive evaluation evaluated by laminating | stacking the planarization layer on the coating film layer of a film sample in accordance with the method as described in (8) Adhesive evaluation. In addition, evaluation of gas barrier property and a humidity expansion coefficient is performed using the film of the structure by which the coating film layer, the planarizing layer, and the gas barrier layer were sequentially laminated on one side of the base film according to the method described in (10) Gas barrier property evaluation. It was.

평탄화층, 기재 필름 쌍방과의 우수한 접착성이 얻어지고, 또한 도막층은 내구성이 우수하며, 배리어 가공하여 얻어진 적층 필름은 우수한 가스 배리어성을 갖고 있었다. Excellent adhesion to both the planarization layer and the base film was obtained, and the coating film layer was excellent in durability, and the laminated film obtained by barrier processing had excellent gas barrier properties.

<도막층 성분> <Coat layer component>

(A) 코폴리에스테르 수지 : 산 성분이 테레프탈산 60mol%, 이소프탈산 36mol% 및 5-Na술포이소프탈산 4mol%, 글리콜 성분이 에틸렌글리콜 60mol% 및 네오 펜티글리콜 40mol% 로 이루어지는 공중합 폴리에스테르 (Tg=30℃, 이하, E 로 약기한다.) 55 중량% (A) Copolyester resin: Copolymer polyester consisting of 60 mol% of terephthalic acid, 36 mol% of isophthalic acid and 4 mol% of 5-Nasulfoisophthalic acid, 60 mol% of ethylene glycol and 40 mol% of neopentiglycol (Tg) = 30 ° C, hereinafter abbreviated as E.) 55 wt%

(B) 폴리비닐알코올 : 비누화도 74-80% 의 폴리비닐알코올 (이하, J 로 약기한다.) 16 중량%(B) Polyvinyl alcohol: Polyvinyl alcohol having a saponification degree of 74-80% (hereinafter abbreviated as J) 16% by weight

(C) 미립자 : 평균 입경 80nm 의 구상 실리카 입자 (이하, N 으로 약기한다. ) 10 중량%(C) Microparticles | fine-particles: 10 weight% of spherical silica particles (henceforth abbreviated as N.) with an average particle diameter of 80 nm.

(D) 가교제 : 에폭시계 수지의 N,N,N',N'-테트라글리시딜메타자일릴렌디아민(이하, R 로 약기한다.) 10 중량%(D) Crosslinking agent: 10 weight% of N, N, N ', N'- tetraglycidyl meta xylylenediamine (it abbreviates as R hereafter) of an epoxy resin.

(E) 습윤제: 폴리옥시에틸렌라우릴에테르 9 중량%(E) Wetting agent: 9% by weight of polyoxyethylene lauryl ether

[비교예 1] Comparative Example 1

도막층을 형성하는 수성액을 도포하지 않는 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 실시하였다. 얻어진 필름의 특성을 표 1 에 나타낸다. It carried out similarly to Example 1 except not applying the aqueous liquid which forms a coating film layer. Table 1 shows the properties of the obtained film.

평탄화층, 가스 배리어층은 각각 실시예 1 의 평가와 동일하게 편면에 적층하고, 폴리에스테르 기판 필름의 편면에 직접 평탄화층을 형성시켰다. The planarization layer and the gas barrier layer were respectively laminated on one side in the same manner as in Example 1, and a flattening layer was directly formed on one side of the polyester substrate film.

[실시예 2~20, 비교예 2~7] [Examples 2-20, Comparative Examples 2-7]

도막층을 구성하는 (A)~(D) 성분의 종류와 비율을 표 1 에 나타내는 바와 같이 변경하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 실시하였다. 얻어진 필름의 특성을 표 1 에 나타낸다. 표 1 에 나타내는 결과로부터 명확한 바와 같이, 각 실시예는, 평탄화층, 기재 필름 쌍방과의 우수한 접착성이 얻어지고, 또한 도막층은 내구성이 우수하고, 배리어 가공하여 얻어진 적층 필름은 우수한 가스 배리어성을 갖고 있었다. It implemented like Example 1 except changing the kind and ratio of (A)-(D) component which comprise a coating film layer as shown in Table 1. Table 1 shows the properties of the obtained film. As is clear from the results shown in Table 1, each example has excellent adhesion to both the planarization layer and the base film, the coating layer is excellent in durability, and the laminated film obtained by barrier working has excellent gas barrier properties. Had.

또한, 표 1 에 있어서, (A) 코폴리에스테르 수지의 종류 F~I 는, 각각 하기의 코폴리에스테르를 사용하였다. In addition, in Table 1, the following copolyesters were used for the types F-I of (A) copolyester resin, respectively.

F : <산 성분> 2,6-나프탈렌디카르복실산 20mol%, 이소프탈산 76mol%, 5-K 술포테레프탈산 4mol%/<디올 성분> 에틸렌글리콜 50mol%, 네오펜티글리콜 50mol% 의 코폴리에스테르 (Tg=42℃) F: <acid component> 20 mol% of 2, 6- naphthalenedicarboxylic acid, 76 mol% of isophthalic acids, 4 mol% of 5-K sulfoterephthalic acids / <diol component> 50 mol% of ethylene glycol, 50 mol% of neopentiglycol ( Tg = 42 ℃)

G : <산 성분> 테레프탈산 70mol%, 이소프탈산 24mol%, 5-Na 술포테레프탈산 6mol%/<디올 성분> 에틸렌글리콜 60mol%, 디에틸렌글리콜 3mol%, 네오펜티글리콜 37mol% 의 코폴리에스테르 (Tg=65℃)G: <acid component> 70 mol% of terephthalic acids, 24 mol% of isophthalic acids, 6 mol% of 5-Na sulfoterephthalic acids / <diol component> 60 mol% of ethylene glycol, 3 mol% of diethylene glycol, 37 mol% of neopentiglycol (Tg = 65 ℃)

H : <산 성분> 테레프탈산 16mol%, 이소프탈산 80mol%, 5-Na 술포테레프탈산4mol%/<디올 성분> 디에틸렌글리콜 5mol%, 1,4-부탄디올 60mol%, 네오펜티글리콜 35mol% 의 코폴리에스테르 (Tg=17℃) H: <acid component> 16 mol% of terephthalic acid, 80 mol% of isophthalic acids, 4 mol% of 5-Na sulfoterephthalic acid / <diol component> 5 mol% of diethylene glycol, 60 mol% of 1, 4- butanediol, and 35 mol% of neopentiglycol (Tg = 17 ° C)

I : <산 성분> 2,6-나프탈렌디카르복실산 77mol%, 테레프탈산 19mol%, 5-K 술포테레프탈산 4mol%/<디올 성분> 에틸렌글리콜 90mol%, 네오펜티글리콜 10mol% 의 코폴리에스테르 (Tg=98℃) I: <acid component> 77 mol% of 2, 6- naphthalenedicarboxylic acid, 19 mol% of terephthalic acids, 4 mol% of 5-K sulfoterephthalic acid / <diol component> 90 mol% of ethylene glycol, 10 mol% of neopentiglycol (Tg = 98 ℃)

또한, (B) 폴리비닐알코올의 종류 K~M 은, 각각 하기의 화합물을 사용하였다. In addition, the following compounds were used for the types K-M of (B) polyvinyl alcohol, respectively.

K : 비누화도 85-90mol% 의 폴리비닐알코올 K: polyvinyl alcohol having a saponification degree of 85-90 mol%

L : 비누화도 91-95mol% 의 폴리비닐알코올 L: Polyvinyl alcohol having a saponification degree of 91-95 mol%

M : 비누화도 65-72mol% 의 폴리비닐알코올 M: polyvinyl alcohol of saponification degree 65-72mol%

(C) 미립자의 종류 O~Q 는, 각각 하기의 화합물을 사용하였다. The following compounds were used for the types O-Q of (C) microparticles | fine-particles, respectively.

O : 평균 입경 60nm 의 구상 실리카 입자 O: spherical silica particles having an average particle diameter of 60 nm

P : 평균 입경 120nm 의 구상 실리카 입자 P: spherical silica particles with an average particle diameter of 120 nm

Q : 평균 입경 10nm 의 콜로이드성 실리카 입자 Q: colloidal silica particles with an average particle diameter of 10 nm

(D) 가교제의 종류 S~U 는, 각각 하기의 화합물을 사용하였다. (D) Kinds of crosslinking agents S to U used the following compounds, respectively.

S : 멜라민계 수지··트리메톡시메틸멜라민 (트리메틸올멜라민을 메탄올로 에테르화한 것) S: melamine resin trimethoxymethylmelamine (etherylated trimethylolmelamine with methanol)

T : 옥사졸린기를 갖는 공중합체··2-프로페닐-옥사졸린 60mol% 및 메틸메타크릴레이트 40mol% 의 공중합체 T: Copolymer having an oxazoline group Copolymer of 60 mol% of 2-propenyl-oxazoline and 40 mol% of methyl methacrylate

U : 디메틸올에틸렌우레아 U: Dimethylol Ethylene Urea

Figure 112006047684694-pat00005
Figure 112006047684694-pat00005

[실시예 21] Example 21

200℃ 에서의 이완 처리를 실시하지 않은 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 2 에 나타낸다. 고온 치수 안정성이 부족한 부분은 있지만, 기재의 가스 배리어성도 높고, 투명성이 우수한 필름이 얻어졌다. A film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the relaxation treatment at 200 ° C. was not performed. The characteristic of the obtained film is shown in Table 2. Although the part which lacks high temperature dimensional stability, the film also has high gas barrier property and was excellent in transparency.

[실시예 22~24] [Examples 22 to 24]

필름의 두께가 상이한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 2 에 나타낸다. 얻어진 필름은 투명성, 치수 안정성, 기재의 가스 배리어성도 우수하였다. A film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the film was different. The characteristic of the obtained film is shown in Table 2. The obtained film was also excellent in transparency, dimensional stability, and the gas barrier property of the base material.

[실시예 25] [Example 25]

연신 배율이 상이한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 2 에 나타낸다. 얻어진 필름은 투명성, 치수 안정성, 기재의 가스 배리어성도 우수하였다. A film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the draw ratio was different. The characteristic of the obtained film is shown in Table 2. The obtained film was also excellent in transparency, dimensional stability, and the gas barrier property of the base material.

[실시예 26] Example 26

연신배율이 상이한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 2 에 나타낸다. 얻어진 필름은 고온 치수 안정성이 부족한 부분은 있지만, 투명성, 기재의 가스 배리어성도 우수하였다. A film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the draw ratio was different. The characteristic of the obtained film is shown in Table 2. Although the obtained film had a part lacking high temperature dimensional stability, it was also excellent in transparency and gas barrier property of a base material.

[실시예 27] [Example 27]

디메틸테레프탈레이트 96 부, 에틸렌글리콜 58 부 및 아세트산망간 0.038 부를 각각 반응기에 주입하고, 교반 하 내온이 240℃ 가 될 때까지 메탄올을 유출시키면서 에스테르 교환 반응을 실시하였다. 트리메틸포스페이트 0.097 부를 첨가하여 그 에스테르 교환 반응이 종료된 후 3 산화 안티몬 0.041 부를 첨가하였다. 이어서, 반응 생성물을 승온시키고, 최종적으로 고진공 하 280℃ 의 조건에서 중 축합을 실시하여 고유 점도 ([η]) 0.64 의 폴리에틸렌테레프탈레이트의 칩을 얻었다. 96 parts of dimethyl terephthalate, 58 parts of ethylene glycol, and 0.038 parts of manganese acetate were injected into the reactor, and the transesterification reaction was carried out while distilling methanol until the internal temperature became 240 ° C under stirring. 0.097 part of trimethyl phosphate was added and 0.041 part of antimony trioxide was added after the transesterification reaction was complete | finished. Subsequently, the reaction product was heated up and finally condensed under conditions of high vacuum at 280 ° C to obtain chips of polyethylene terephthalate having an intrinsic viscosity ([η]) of 0.64.

다음으로, 이 폴리에틸렌테레프탈레이트의 칩을 170℃ 에서 3 시간 건조시킨 후, 2 축 압출기에 공급하여, 280℃ 에서 용융 혼연하고, 급랭 고화시켜 마스터 칩을 얻었다. Next, after drying the chip of this polyethylene terephthalate at 170 degreeC for 3 hours, it supplied to the twin screw extruder, melt-kneaded at 280 degreeC, and solidified rapidly and obtained the master chip.

이 폴리에틸렌테레프탈레이트의 펠릿을 160℃ 에서 3 시간 건조 후, 압출기 호퍼에 공급하고, 용융 온도 295℃ 에서 용융하여, 20℃ 로 유지한 냉각 드럼 상에서 급냉 고화시켜 미연신 필름을 얻었다. 그 미연신 필름을 95℃ 에서 세로 방향으로 3.1 배로 연신하고, 이어서 편면에 실시예 1 과 동일한 도포제를 건조 후의 두께가 0.1㎛ 이 되도록 도포하고, 110℃ 에서 가로 방향으로 3.5 배로 연신한 후, 230℃ 에서 열 처리하여, 두께가 100㎛ 인 2 축 연신 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 2 에 나타낸다. 고온 치수 안정성은 충분하지 않지만, 투명성, 기재의 가스 배리어성도 양호한 필름을 얻을 수 있었다. After pelleting this polyethylene terephthalate at 160 degreeC for 3 hours, it supplied to the extruder hopper, melted at 295 degreeC of melting temperature, and rapidly solidified on the cooling drum hold | maintained at 20 degreeC, and obtained the unstretched film. The unstretched film was stretched 3.1 times in the longitudinal direction at 95 ° C., and then coated on the single side with the same coating agent as in Example 1 so that the thickness after drying was 0.1 μm, and stretched at 110 times in the transverse direction at 3.5 times, then 230 It heat-processed at ° C and obtained the biaxially stretched film whose thickness is 100 micrometers. The characteristic of the obtained film is shown in Table 2. Although high temperature dimensional stability is not enough, the film which is also excellent in transparency and gas barrier property of a base material was obtained.

[실시예 28] [Example 28]

IR 히터에 의한 가열 존을 사용하여, 처리 온도 160℃, 이완율 1.0% 로 이완 처리를 실시한 것 이외에는 실시예 27 과 동일하게 하여 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 2 에 나타낸다. 200℃ 에서의 치수 안정성은 충분하지 않지만 150℃ 에서의 치수 안정성이 양호하고, 투명성, 기재의 가스 배리어성도 양호한 필름을 얻을 수 있었다. Using the heating zone by an IR heater, a film was obtained in the same manner as in Example 27 except that the relaxation treatment was performed at a treatment temperature of 160 ° C. and a relaxation rate of 1.0%. The characteristic of the obtained film is shown in Table 2. Although the dimensional stability in 200 degreeC was not enough, the film in which the dimensional stability in 150 degreeC was favorable and also the transparency and gas barrier property of a base material were obtained was obtained.

[실시예 29] [Example 29]

필름의 두께가 상이한 것 이외에는 실시예 27 과 동일하게 하여 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 2 에 나타낸다. 고온 치수 안정성, 기재의 배리어성은 부족하지만 투명성이 우수한 필름을 얻을 수 있었다. A film was obtained in the same manner as in Example 27 except that the thickness of the film was different. The characteristic of the obtained film is shown in Table 2. Although the high temperature dimensional stability and the barrier property of the base material were insufficient, the film excellent in transparency was obtained.

[비교예 8] [Comparative Example 8]

폴리에틸렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트에 평균 입경 0.35㎛ 의 구상 실리카 입자를 0.1 중량% 배합한 것 이외에는 실시예 21 과 동일하게 하여 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 특성을 표 2 에 나타낸다. 불활성 입자를 활제로서 함유하고 있기 때문에 광학 특성이 부족한 필름이었다. A film was obtained in the same manner as in Example 21 except that 0.1% by weight of spherical silica particles having an average particle diameter of 0.35 µm was mixed with polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate. The characteristic of the obtained film is shown in Table 2. Since it contained inert particle as a lubricant, it was a film lacking optical characteristics.

Figure 112006047684694-pat00006
Figure 112006047684694-pat00006

[실시예 30] [Example 30]

폴리에스테르 필름의 양면에 도막층, 평탄화층, 가스 배리어층을 형성하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 적층 필름을 얻었다. 얻어진 적층 필름의 특성을 표 3 에 나타낸다. A laminated film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating film layer, the planarization layer, and the gas barrier layer were formed on both surfaces of the polyester film. The characteristic of the obtained laminated | multilayer film is shown in Table 3.

[실시예 31] [Example 31]

양면에 평탄화층을 형성하지 않은 것 이외에는 실시예 30 과 동일한 조작을 실시하여, 적층 필름을 얻었다. 얻어진 적층 필름의 특성을 표 3 에 나타낸다. Except not having provided the planarization layer in both surfaces, operation similar to Example 30 was performed and the laminated film was obtained. The characteristic of the obtained laminated | multilayer film is shown in Table 3.

[실시예 32] [Example 32]

평탄화층을 형성하지 않은 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 조작을 실시하여, 적층 필름을 얻었다. 얻어진 적층 필름의 특성을 표 3 에 나타낸다. Except not having formed a planarization layer, the operation similar to Example 1 was performed and the laminated film was obtained. The characteristic of the obtained laminated | multilayer film is shown in Table 3.

[실시예 33] [Example 33]

연신 배율이 상이한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 적층 필름을 얻었다. 얻어진 적층 필름의 특성을 표 3 에 나타낸다. A laminated film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the draw ratio was different. The characteristic of the obtained laminated | multilayer film is shown in Table 3.

[비교예 9] [Comparative Example 9]

도막층 및 평탄화층을 형성하지 않은 것 이외에는 실시예 33 과 동일하게 하여 적층 필름을 얻었다. 얻어진 적층 필름의 특성을 표 3 에 나타낸다. A laminated film was obtained in the same manner as in Example 33 except that the coating film layer and the planarization layer were not formed. The characteristic of the obtained laminated | multilayer film is shown in Table 3.

Figure 112006047684694-pat00007
Figure 112006047684694-pat00007

산업상의 이용가능성 Industrial availability

본 발명의 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름은, 추가로 가스 배리어층을 형성한 경우에 고도의 가스 배리어성을 갖고, 또한 고투명성 및 이활성을 구비하기 때문에, 이들 특성이 요구되는 유기 EL 디스플레이, 전자 페이퍼 등의 기판 필름으로 바람직하게 사용할 수 있다. 또한 본 발명의 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름은, 고도의 가스 배리어성을 갖고, 또한 고투명성 및 이활성을 구비하기 때문에, 이들 특성이 요구되는 유기 EL 디스플레이 기판, 전자 페이퍼 기판으로 바람직하게 사용할 수 있다. Since the polyester film for gas barrier processing of this invention has a high gas barrier property, and also has high transparency and diactivation, when a gas barrier layer is further formed, the organic electroluminescent display which has these characteristics and an electron It can use suitably for substrate films, such as paper. Moreover, since the gas barrier laminated polyester film of this invention has a high gas barrier property and also has high transparency and diactivity, it can use suitably as an organic electroluminescent display board | substrate and an electronic paper board | substrate which require these characteristics. have.

Claims (29)

폴리에스테르로 이루어지는 기재 필름의 적어도 편면에 도막층이 형성된 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름으로서, 그 도막층이 도막층의 중량을 기준으로 (A) 코폴리에스테르 수지를 50~80 중량%, (B) 폴리비닐알코올을 10~30 중량% 및(C) 미립자를 3~25 중량% 함유하고, 또한 그 폴리에스테르 필름의 전체 광선 투과율이 85% 이상, 헤이즈가 1.5% 이하인 것을 특징으로 하는 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. A polyester film for gas barrier processing, wherein a coating film layer is formed on at least one side of a base film made of polyester, and the coating layer is 50 to 80% by weight of (A) copolyester resin based on the weight of the coating film layer (B). Polyvinyl alcohol containing 10 to 30% by weight and (C) fine particles 3 to 25% by weight, and the total light transmittance of the polyester film is 85% or more, haze is 1.5% or less, characterized in that the poly for gas barrier processing Ester film. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, (A) 코폴리에스테르 수지의 유리 전이점이 20~90℃ 인 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. (A) Polyester film for gas barrier processing whose glass transition point of copolyester resin is 20-90 degreeC. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, (B) 폴리비닐알코올의 비누화도가 74~90mol% 인 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. (B) The polyester film for gas barrier processing whose saponification degree of polyvinyl alcohol is 74-90 mol%. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, (C) 미립자의 평균 입경이 20~100nm 인 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. (C) Polyester film for gas barrier processes whose average particle diameter of microparticles | fine-particles is 20-100 nm. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 도막층이 추가로 (D) 가교제를 1~20중량% 함유하는 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. The polyester film for gas barrier processes in which a coating film layer contains 1-20 weight% of (D) crosslinking agents. 제 5 항에 있어서,6. The method of claim 5, (D) 가교제가 옥사졸린기 함유 폴리머, 우레아계 수지, 멜라민계 수지 및 에폭시계 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. (D) The polyester film for gas barrier processing whose crosslinking agent is at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of an oxazoline group containing polymer, urea resin, melamine resin, and epoxy resin. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 150℃×30분에 있어서의 열 수축률이 MD 방향, TD 방향 각각 0.1% 이하인 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. The polyester film for gas barrier processes whose thermal contraction rate in 150 degreeC * 30 minutes is 0.1% or less of MD direction and TD direction, respectively. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 200℃×10분에 있어서의 열 수축률이 MD 방향, TD 방향 각각 0.2% 이하인 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. The polyester film for gas barrier processes whose heat shrinkage in 200 degreeC * 10 minutes is 0.2% or less of MD direction and TD direction, respectively. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 기재의 폴리에스테르가 폴리에틸렌나프탈레이트인 가스 배리어 가공용 폴리 에스테르 필름. Polyester film for gas barrier processing whose polyester of base material is polyethylene naphthalate. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 폴리에틸렌나프탈레이트가 전체 반복 구조 단위의 몰수를 기준으로 에틸렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트 90 몰% 이상인 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. The polyester film for gas barrier processing whose polyethylene naphthalate is 90 mol% or more of ethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate based on the number-of-moles of all the repeating structural units. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 유기 EL 디스플레이 또는 전자 페이퍼의 기판 필름으로 사용되는 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름. Polyester film for gas barrier processing used as a substrate film of organic electroluminescent display or electronic paper. 제 1 항에 기재된 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름의 적어도 1 개의 도막층 상에 가스 배리어층이 추가로 적층된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. A gas barrier laminated polyester film in which a gas barrier layer is further laminated on at least one coating film layer of the polyester film for gas barrier processing according to claim 1. 제 12 항에 있어서,13. The method of claim 12, 가스 배리어층이 금속 산화물 또는 금속 질화물인 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. The gas barrier laminated polyester film whose gas barrier layer is a metal oxide or a metal nitride. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 가스 배리어층이 SiOx (1.5≤x≤2.0) 를 포함하는 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. A gas barrier laminated polyester film, wherein the gas barrier layer comprises SiO x (1.5 ≦ x ≦ 2.0). 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, MD 방향 및 TD 방향의 습도 팽창 계수 αh 가 각각 1~10ppm/%RH 인 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. The gas barrier laminated polyester film whose humidity expansion coefficient (alpha) h of MD direction and TD direction is 1-10 ppm /% RH, respectively. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 40℃, 90%RH 에 있어서의 수증기 투과율이 0.1g/㎡/day 이하인 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. The gas barrier laminated polyester film whose water vapor transmission rate in 40 degreeC and 90% RH is 0.1 g / m <2> / day or less. 제 12 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 기재된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름을 포함하는 유기 EL 디스플레이 기판. An organic EL display substrate comprising the gas barrier laminate polyester film according to any one of claims 12 to 16. 제 12 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 기재된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름을 포함하는 전자 페이퍼 기판. The electronic paper substrate containing the gas barrier laminated polyester film in any one of Claims 12-16. 제 1 항에 기재된 가스 배리어 가공용 폴리에스테르 필름의 적어도 1 개의 도막층 상에 평탄화층이 추가로 적층된 가스 배리어 가공용 적층 폴리에스테르 필 름. A laminated polyester film for gas barrier processing, wherein a planarization layer is further laminated on at least one coating film layer of the polyester film for gas barrier processing according to claim 1. 제 19 항에 있어서,20. The method of claim 19, 평탄화층이 폴리비닐알코올을 함유하는 가스 배리어 가공용 적층 폴리에스테르 필름. The laminated polyester film for gas barrier processes in which a planarization layer contains polyvinyl alcohol. 제 19 항에 있어서,20. The method of claim 19, 평탄화층이 (a) 에폭시기 및 알콕시실릴기를 갖는 규소 화합물, 그 (부분) 가수 분해물, 그 (부분) 축합물, 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 에폭시규소계 화합물, (b) 아미노기 및 알콕시실릴기를 갖는 규소 화합물, 그 (부분) 가수 분해물, 그 (부분) 축합물, 및 이들 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 아미노규소계 화합물, 그리고 (c) 폴리비닐알코올 또는 폴리비닐알코올 공중합체를 가교 반응시켜 이루어지는 경화 폴리머층인 가스 배리어 가공용 적층 폴리에스테르 필름. Epoxy silicon-based compound selected from the group consisting of (a) a silicon compound having an epoxy group and an alkoxysilyl group, its (partial) hydrolyzate, its (partial) condensate, and mixtures thereof, (b) amino group and alkoxy Crosslinking reaction of the silicon compound having a silyl group, the (partial) hydrolyzate, the (partial) condensate, and an aminosilicon compound selected from the group consisting of these mixtures, and (c) a polyvinyl alcohol or a polyvinyl alcohol copolymer The laminated polyester film for gas barrier processing which is a hardened polymer layer formed by making. 제 19 항에 있어서,20. The method of claim 19, 크로스 컷 시험법에 의해서 측정되는 평탄화층의 박리 면적이 10% 이하인 가스 배리어 가공용 적층 폴리에스테르 필름. The laminated polyester film for gas barrier processes whose peeling area of the planarization layer measured by a cross cut test method is 10% or less. 제 19 항에 기재된 가스 배리어 가공용 적층 폴리에스테르 필름의 적어도 1 개의 평탄화층 상에 가스 배리어층이 추가로 적층된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. A gas barrier laminated polyester film in which a gas barrier layer is further laminated on at least one planarization layer of the laminated polyester film for gas barrier processing according to claim 19. 제 23 항에 있어서,24. The method of claim 23, 가스 배리어층이 금속 산화물 또는 금속 질화물인 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. The gas barrier laminated polyester film whose gas barrier layer is a metal oxide or a metal nitride. 제 24 항에 있어서,25. The method of claim 24, 가스 배리어층이 SiOx (1.5≤x≤2.0) 를 포함하는 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. A gas barrier laminated polyester film, wherein the gas barrier layer comprises SiO x (1.5 ≦ x ≦ 2.0). 제 24 항에 있어서,25. The method of claim 24, MD 방향 및 TD 방향의 습도 팽창 계수 αh 가 각각 1~10ppm/%RH 인 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. The gas barrier laminated polyester film whose humidity expansion coefficient (alpha) h of MD direction and TD direction is 1-10 ppm /% RH, respectively. 제 24 항에 있어서,25. The method of claim 24, 40℃, 90%RH 에 있어서의 수증기 투과율이 0.1g/㎡/day 이하인 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름. The gas barrier laminated polyester film whose water vapor transmission rate in 40 degreeC and 90% RH is 0.1 g / m <2> / day or less. 제 23 항 내지 제 27 항 중 어느 한 항에 기재된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름을 포함하는 유기 EL 디스플레이 기판. An organic EL display substrate comprising the gas barrier laminate polyester film according to any one of claims 23 to 27. 제 23 항 내지 제 27 항 중 어느 한 항에 기재된 가스 배리어성 적층 폴리에스테르 필름을 포함하는 전자 페이퍼 기판. An electronic paper substrate comprising the gas barrier laminated polyester film according to any one of claims 23 to 27.
KR1020060062041A 2005-07-04 2006-07-03 Polyester film for gas barrier processing and gas barrier laminated polyester film thereof KR101253353B1 (en)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2005-00194707 2005-07-04
JP2005194707 2005-07-04
JP2005324527 2005-11-09
JPJP-P-2005-00324527 2005-11-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070004448A KR20070004448A (en) 2007-01-09
KR101253353B1 true KR101253353B1 (en) 2013-04-11

Family

ID=37870657

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060062041A KR101253353B1 (en) 2005-07-04 2006-07-03 Polyester film for gas barrier processing and gas barrier laminated polyester film thereof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101253353B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113056507B (en) * 2018-10-31 2023-11-10 杰富意钢铁株式会社 Film for coating metal plate and resin-coated metal plate

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3440209B2 (en) 1998-11-17 2003-08-25 帝人株式会社 Ink image receiving layer Easy adhesion polyester film
JP2003260750A (en) 2002-03-08 2003-09-16 Dainippon Printing Co Ltd Gas barrier film and display using the film
KR20050004779A (en) * 2002-06-04 2005-01-12 데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤 Laminated polyester film and laminated film
JP3650541B2 (en) 1999-05-28 2005-05-18 帝人株式会社 Ink-receiving layer easy-adhesive polyester film

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3440209B2 (en) 1998-11-17 2003-08-25 帝人株式会社 Ink image receiving layer Easy adhesion polyester film
JP3650541B2 (en) 1999-05-28 2005-05-18 帝人株式会社 Ink-receiving layer easy-adhesive polyester film
JP2003260750A (en) 2002-03-08 2003-09-16 Dainippon Printing Co Ltd Gas barrier film and display using the film
KR20050004779A (en) * 2002-06-04 2005-01-12 데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤 Laminated polyester film and laminated film

Also Published As

Publication number Publication date
KR20070004448A (en) 2007-01-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4971703B2 (en) Polyester film for organic EL display substrate and gas barrier laminated polyester film for organic EL display substrate comprising the same
JP4052021B2 (en) Oriented polyester film and laminated film using the same
KR101175083B1 (en) oriented polyester film
JP5363206B2 (en) Optical polyester film
KR101059718B1 (en) Laminated film
KR102087006B1 (en) Laminate for transparent electroconductive film base material
KR101382845B1 (en) Biaxially oriented film laminated board, electrical insulation board and machine part
KR101308222B1 (en) Laminated polyester film for flexible display substrate
CN112384366B (en) laminated film
JP2007281071A (en) Biaxial orientation polyester film for amorphous silicon solar battery board
JP3909268B2 (en) Highly transparent and easily adhesive polyester film
JP2010032609A (en) Polyester film for dry film photoresist
JP2002105230A (en) Polyester film
JP3942494B2 (en) Highly transparent and easily adhesive polyester film
CN111201139A (en) Laminated body
JP2006009023A (en) Biaxially oriented polyester film and its production method
JP5108675B2 (en) Composite film
JP2001342267A (en) Biaxially oriented polyester film for transparent vacuum evaporation
KR101253353B1 (en) Polyester film for gas barrier processing and gas barrier laminated polyester film thereof
JP2006007779A (en) Biaxially stretched polyester film and its production method
JP4169546B2 (en) Laminated polyester film
EP2726285B1 (en) Dimensionally stable multi-layer polyester films
JP2003137337A (en) Polyester film for packaging
JP2001047580A (en) Mold release film
JP4097534B2 (en) Transparent laminated polyester film

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee