JP4963627B2 - 熱交換器用アルミニウムろう付け構造体、およびそれに用いるクラッド材と、熱交換器用アルミニウムろう付け構造体の製造方法 - Google Patents

熱交換器用アルミニウムろう付け構造体、およびそれに用いるクラッド材と、熱交換器用アルミニウムろう付け構造体の製造方法 Download PDF

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Description

この発明は、主として自動車熱交換器用のアルミニウムろう付け構造体、その製造方法、およびそれに用いるクラッド材に関するものである。
良く知られているように、アルミニウム合金製の熱交換器は、軽量で熱交換性能に優れるため、自動車に必須の部品となっている。このようなアルミニウム合金製の熱交換器は、基本的にろう付けによって接合されて、所定の構造体とされるものであり、その素材としては、一般にAl−Si合金ろう材を皮材とし、Al−Mn系合金を芯材としたクラッド材(ブレージングシート)を用いることが多い。
ところで熱交換器、特に自動車用熱交換器については、近年はさらに軽量化を図るため、各部材を、一層薄肉化することが強く望まれている。しかしながら熱交換器の部材の薄肉化を進めれば、腐食による不具合が生じる可能性が高まる。ここで、熱交換器において腐食により熱媒体が流通するチューブにリークが発生すれば、熱交換器としての機能が失われて、安全上の問題を引き起こしかねない。
そこで、クラッド材の板を加工して熱交換器のチューブを形成する場合には、Znを添加したAl−Zn系合金あるいはAl−Si−Zn系合金ろう材を腐食環境に曝される面に配して、犠牲防食を図ることが従来から広く行なわれている。また熱交換器のうちでもコンデンサーなどの場合には、Zn含有合金面にアルミニウム製のベアフィンあるいはクラッドフィンを接合して用いることも行なわれており、この場合は、このフィンの成分にもZnを添加して、フィンによる犠牲陽極効果をもチューブの防食に活かすことが一般的である。
上述のようなZn添加による犠牲防食効果は確かに有効ではあるが、熱交換器の薄肉化をはかる上では必ずしも万能ではない。すなわちZnを添加した場合、Znによる電位を卑にする効果が顕著であるだけに、全体的に腐食の進行が速くなり、そのためチューブをより薄肉化した場合、熱交換器の内圧による破壊リスクが短期間で高まってしまう。また、コンデンサー等に組み合わせて用いるZn含有フィンも薄肉化すれば、腐食によるフィンの脆化が起こりやすくなってしまう。また、各種のろう付け法のうちでも、真空ろう付け法(VB)は、Zn添加による防食を行なおうとしても、ろう付け中のZnの蒸発が著しくなるため、実際上は適用することができない。
ところでZnの如く電位を卑にする添加元素を用いた犠牲防食とは異なる防食方法も従来から試みられている。例えば米国特許第4699674号明細書(特許文献1)には、ろう付け製品の耐食性を向上する手法として、Al−Si系合金ろう材を表面材とし、非熱処理型アルミニウム合金(具体的には3000系:Al−Mn系合金)を芯材とするクラッド材を用い、これと他のアルミニウム材とをろう付けした後、300〜800°F(149〜426℃)の範囲で熱処理する技術が開示されている。この米国特許の発明者らによる発表論文(W D Finnegan and R A Woods:IMechE C496/064/95(1995)、275.;非特許文献1)によれば、ろう付け後に加熱処理(析出処理)を行なって、表面に残留したAl−Si系合金ろう層中に微細なSi粒子あるいはα−Al(FeMn)Siを析出させた状態にすれば、腐食はこの表面層を横方向に進展し、芯材の深さ方向への孔食や粒界腐食が抑えられるとされている。
また上記の技術とほぼ同様の技術が、特許第3549027号公報(特許文献2)にも開示されている。これは、Mnを含むAl合金からなる芯材の表面に、少なくともSiを含むAl系ろう材が用いられた製品の製造方法として、ろう付け作業の後、100〜400℃の温度で15分以上の熱処理を行なうものであり、この技術によれば、電位をことさらに下げるZnなどの元素を添加せずに、実質的に犠牲防食が可能となるとされている。
なおまた、犠牲陽極による防食の一手法として、特開2005−307251号公報(特許文献3)に、1.5%を越え、3.0%未満のSiを含み、ZnやInを実質的に含有しないAl−Si系合金を犠牲陽極材とする熱交換器用クラッド材も開示されている。
米国特許第4699674号明細書 特許第3549027号公報 特開2005−307251号公報 W D Finnegan and R A Woods:IMechE C496/064/95(1995)、275
熱交換器用アルミニウムろう付け構造体において、Znなど電位を卑にする元素を添加せずに防食する方法として、前述の特許文献1、2あるいは非特許文献1に示すような析出熱処理を施してAl−Si合金残留ろう層に防食効果を持たせる方法は、今後有望と考えられているが、このような手法により充分な防食効果を発揮させるためには、防食を要する表面全域で残留ろう層が充分かつ均一な厚みを有していることが求められる。しかしながら、従来一般のAl−Si系合金ろう材層を表面に有するブレージングシートを用いてろう付けを行なった場合、凝固後の残留ろう層を目標通りに制御することは、実際上は極めて困難であった。これは、ろう付け時に溶融したろうが表面で流動することと、ろう材が芯材を溶解してその深さ方向に浸入することなどにより、残留ろう層の厚さが部位によって異なる状態となるためである。特に薄肉化したチューブなどの場合、ろう材層の元厚さも薄いため、ろう付け後に前述のような熱処理を行なっても、充分な耐食性を得ることができなかったのである。
なお前述のように特許文献3には、1.5%を越え、3.0%未満のSiを含み、かつZnやInを実質的に含有しないAl−Si系合金を犠牲陽極材とする技術も開示されているが、これは単純にろう付けして犠牲材として用いるものであり、ZnやInを含有しないAl−Si系合金を用いた場合には、ZnやInを添加した場合よりも明らかに最大腐食深さが大きくなり、充分な耐食性を実現しているとは言えない。
本発明者らは、熱交換器用アルミニウムろう付け構造体について、ZnやInなどの電位を卑化する元素を積極的に添加することなく、チューブ材の薄肉化に対応できる防食方法、特に腐食環境に曝されるAl−Si合金層の厚さの制御を可能として、その組織中に微細なSi系析出物を高密度で析出させ、これにより良好な耐食性を実現させた熱交換器用アルミニウムろう付け構造体を得るべく、種々実験・検討を重ねた結果、この発明をなすに至った。
すなわちこの発明は、基本的には、熱交換器用ろう付け構造体に用いるクラッド材として、Mnを含有するAl−Mn系合金からなる芯材の少なくとも片面に、ZnやInなどの電位を卑化させる元素を実質的に含有せず、かつろう付け温度においてろう流動を起こさない程度の低Si量のAl−Si系合金(これをこの明細書ではAl−低Si合金と記す)を使用し、ろう付け後に適切な熱処理を施して微細なSi系析出物を適切に析出させて、良好な耐食性を発現させることとしている。
具体的には、請求項1の発明では、熱交換器用アルミニウムろう付け構造体を規定しており、このろう付け構造体は、Mn0.5〜1.5%を含むAl−Mn系合金を芯材とし、かつその芯材の少なくとも片面に、1.5%以上で3.0%未満のSiを含有し、残部がAlおよび不可避的不純物よりなるAl−低Si合金からなる皮材層を配してなるクラッド材を用いて、ろう付けにより組立てられた構造体からなり、しかもそのクラッド材における構造体表面に存在するAl−低Si合金皮材層内に、円相当径0.05μm〜2.0μmのSi系析出粒子が10000μm2当り400個以上分布していることを特徴とするものである。
また請求項2の発明では、上述のような熱交換器用アルミニウムろう付け構造体の製造方法を規定しており、この製造方法は、請求項1に記載の熱交換器用アルミニウムろう付け構造体を製造するにあたり、前記クラッド材をろう付け後、200〜400℃の範囲内の温度に10分〜30時間保持する条件でAl−低Si合金皮材中のSi析出処理を行なうことを特徴とするものである。
さらに請求項3〜請求項8の発明においては、前述のような熱交換器用アルミニウムろう付け構造体に使用するためのクラッド材そのものを規定している。
すなわち請求項3の発明は、Mn0.5〜1.5%を含むAl−Mn系合金を芯材とし、かつその芯材の少なくとも片面に、1.5%以上で3.0%未満のSiを含有し、残部がAlおよび不可避的不純物よりなるAl−低Si合金からなる皮材層を配してなり、しかも前記Al−低Si合金からなる皮材層が、厚さ40μm以上でかつ組織中における円相当径7μm以上のSi系第2相粒子の分布密度が10000μm2当り10個以下であることを特徴とするものである。
また請求項4の発明は、Mn0.5〜1.5%を含むAl−Mn系合金を芯材とし、かつその芯材の片面に、1.5%以上で3.0%未満のSiを含有し、残部がAlおよび不可避的不純物よりなるAl−低Si合金からなる皮材層が、また芯材の他の片面に、6〜14%のSiを含有するAl−高Si合金ろう材からなる皮材層が配されており、しかも前記Al−低Si合金からなる皮材層は、厚みが40μm以上でかつ組織中における円相当径7μm以上のSi系第2相粒子の分布密度が10000μm2当り10個以下であることを特徴とするものである。
さらに請求項5の発明は、請求項3もしくは請求項4に記載のクラッド材において、前記芯材のAl−Mn系合金が、さらにCu0.05〜1.0%、Ti0.05〜0.2%のうちの1種もしくは2種を含むことを特徴とするものである。
また請求項6の発明は、請求項3〜請求項5のいずれかの請求項に記載のクラッド材において、前記芯材のAl−Mn系合金が、さらにMg0.05〜1.5%を含むことを特徴とするものである。
またさらに請求項7の発明は、請求項3もしくは請求項4に記載のクラッド材において、前記Al−低Si合金が、さらにMg0.05〜0.5%を含むことを特徴とするものである。
そしてまた請求項8の発明は、請求項4に記載のクラッド材において、前記Al−高Si合金ろう材が、さらにMg0.05〜1.5%を含むことを特徴とするものである。
この発明の熱交換器用アルミニウムろう付け構造体は、腐食環境に曝される表面には、ろう付け温度でろう流動を生じない程度の低Si量のAl−低Si合金からなる皮材層が存在しており、このAl−低Si合金層は、ろう付け加熱時においても実質的に流動しないため、ろう付け後の状態(ろう付け構造体の状態)でも充分かつ均一な厚みを確保することができ、さらにろう付け後に、適切な析出処理を行なって表面のAl−低Si合金層中に適切かつ微細にSi系析出物を高密度で析出させておくことによって、ZnやIn等の電位を卑化する作用を有する元素を添加せずに充分な防食効果を得ることができる。したがってこの発明のろう付け構造体は、Zn等の添加に起因する選択的な腐食の進行を抑制できること、および前述のように表面のAl−低Si合金皮材層の厚みをろう付け後の構造体の状態でも充分に確保できることとが相俟って、チューブ部分などの板厚を従来よりも薄肉化しても充分な耐食性を確保することができ、また前述のようにZnを実質的に添加しないため、ろう付け構造体の製造時におけるろう付け方法として、真空ろう付け法を適用することも可能となる。
まずこの発明の熱交換器用アルミニウムろう付け構造体に用いるクラッド材について説明する。
このクラッド材は、基本的には、請求項3において規定しているように、Mn0.5〜1.5%を含むAl−Mn系合金を芯材とし、かつその芯材の少なくとも片面に、1.5%以上で3.0%未満のSiを含有してなるAl−低Si合金からなる皮材層を配してなるものであって、しかも前記Al−低Si合金からなる皮材層が、厚さ40μm以上でかつ組織中における粒径7μm以上のSi系第2相粒子が10000μm2当り10個以下であるものとする。
ここで、クラッド材の芯材は、前述のようにMnを必須成分として0.5〜1.5%含有していれば良く、その残部は特に限定されるものではない。すなわち、Mnの残部は実質的にAl、もしくはAlおよび不可避的不純物としても、あるいは請求項5において規定しているように、Mnのほか、さらにCu0.05〜1.0%、Ti0.05〜0.2%のうちの1種もしくは2種を含有していても、あるいは請求項6において規定するように、Mnのほか、Mg0.05〜1.5%を含有するか、あるいはMnのほか、Cu0.05〜1.0%およびTi0.05〜0.2%のうちの1種もしくは2種と、Mg0.05〜1.5%を含有していても良い。
これらの芯材の合金の成分についてさらに詳細に説明する。
Mn:
Mnは、ろう付けおよび熱処理後のクラッド材における芯材の電位を貴として、耐食性を向上する効果を果たす。ここで、芯材のMn含有量が0.5%未満であれば耐食性が不充分となり、また1.5%を越えれば芯材の鋳造時に粗大な晶出物が形成され均一な組織が得られない。そこで芯材のMn含有量は0.5〜1.5%の範囲内とした。
Cu:
芯材に添加されるCuは、芯材の電位を貴にし、表面との電位差を大きくして耐食性を向上させる作用を有する。またCuは、材料の強度を向上させる効果も果たす。ここでCu量が0.05%未満ではCu添加による効果が得られず、一方1.0%を越えれば逆に芯材の粒界腐食感受性が高くなってしまう。そこでCuを添加する場合のCu量は0.05〜1.0%の範囲内とした。なおCuを積極添加しない場合でも、不純物として0.05%未満のCuが許容されることはもちろんである。
Ti:
Tiも芯材に含まれて耐食性向上に寄与する添加元素である。Ti量が0.05%未満ではその効果が得られず、一方0.2%を越えれば、粗大な晶出物の形成を助長して、不均質な組織の原因となる。そこで芯材にTiを添加する場合のTi量は0.05〜0.2%の範囲内とした。
Mg:
Mgは強度に寄与する元素であり、また真空ろう付け法(VB)を適用する場合には、ろう付け性の向上にも寄与する。Mg量が0.05%未満ではこれらの効果が充分に得られず、一方Mg量が1.5%越えれば、逆にろう付け性が低下してしまう。そこで芯材にMgを添加する場合のMg量は0.05〜1.5%の範囲内とした。なおろう付け法として、窒素中で行なうノコロックブレージング法(NB)を適用する場合には、フラックスとMgの反応によりろう付け性が低下するが、Cs系のフラックスを使用すれば、芯材に0.5%程度までMgを添加して、強度向上をはかることが可能であり、そこでノコロックブレージング法を適用する場合は、Mg量は0.5%以下とすることが望ましい。なおMgを積極添加しない場合でも、不純物として0.05%未満のMgが許容されることはもちろんである。
ここで、一般にアルミニウム合金においては、不可避的不純物としてFe、Siが含有されるのが通常であるが、クラッド材の芯材としても、不純物として0.5%以下のFe、同じく不純物として1.0%以下のSiをそれぞれ含有していても特に支障はない。
またTiは、アルミニウム合金において鋳塊組織の微細化剤として添加されることが多いが、請求項5で規定する合金成分として0.05〜0.2%のTiを積極添加する場合以外においても、0.05%以下のTiを微細化剤として添加することは許容される。さらに微細化剤としては、Tiと併せてBを添加することも行なわれているが、その目的で、Tiと併せてBを0.01%以下添加することも許容される。
次にろう付け構造体を構成するクラッド材における皮材について説明する。
クラッド材の皮材としては、少なくとも芯材の片面側のものとして、Si含有量が1.5%以上、3.0%未満の低Si量のAl−低Si合金を用いる。このAl−低Si合金からなる皮材は、最終的な熱交換器用ろう付け構造体において腐食環境に曝される側の表面に配されるものであり、ろう付け後に適切な析出処理を施して微細にSi系析出物を析出させることによって犠牲陽極的な防食機能を果たすものであるが、ろう付け後においても充分かつ均一な厚みが確保されるように、ろう付け時においてろう付け温度でろう流動を起こさない程度の低Si量のAl−Si系合金を用いることとしている。なおここでAl−低Si合金と称しているのは、Al−Si系合金ろう材と区別するためであり、ろう付け温度(通常は585〜615℃が一般的)で、通常のろう材の如く自ら全面的に溶融することがなく、流動状態とならないものを指称している。
ここで、クラッド材の少なくとも片面の皮材として用いるAl−低Si合金のSi含有量が1.5%未満では、前述のような析出処理によって微細なSi系析出物を析出させることによる防食効果が充分に得られない。一方Si量が3.0%以上となれば、ろう付け温度でろう流動により皮材層に薄い部分が生じ、この場合も充分な防食機能を発揮できなくなってしまう。そこでクラッド材における芯材の少なくとも片面に配されるAl−低Si合金のSi量は1.5%以上、3.0%未満と規定した。
ここで、上記のAl−低Si合金におけるSiに対する残部は、基本的にはAlおよび不可避的不純物とすれば良いが、請求項7において規定しているように、Siのほか、さらにMg0.05〜0.5%を含有していても良い。
すなわちMgは強度に寄与する元素であり、また真空ろう付け法(VB)を適用する場合には、ろう付け性の向上にも寄与する。Mg量が0.05%未満ではこれらの効果が充分に得られず、一方Mg量が0.5%越えれば、逆にろう付け性が低下してしまう(??)。そこでAl−低Si合金からなる皮材にMgを添加する場合のMg量は0.05〜0.5%の範囲内とした。なお芯材の場合はMg量の上限を1.5%としているが、Al−低Si合金からなる皮材の場合は、Mgを多く添加すれば粗大なMg2Siの形成によりSi析出物が充分な分布密度とならないことから、Mg量の上限は0.5%としている。またここで、ろう付け法として、窒素中で行なうノコロックブレージング法(NB)を適用する場合には、フラックスとMgの反応によりろう付け性が低下するが、0.5%以下のMg添加であれば、Cs系フラックスの使用によりろう付けが可能となる。
なおアルミニウム合金においては、不可避的不純物としてFeが含有されるのが通常であるが、Al−低Si合金からなる皮材としても、不純物として0.5%以下のFeを含有していても特に支障はない。
またTiは、前述のようにアルミニウム合金において鋳塊組織の微細化剤として添加されることが多いが、Al−低Si合金からなる皮材においても、0.05%以下のTiを微細化剤として添加することは許容される。さらに微細化剤としては、Tiと併せてBを添加することも行なわれているが、その目的でTiとともにBを0.01%以下添加することも許容される。
さらに、Al−低Si合金皮材については、鋳塊中の晶出Siの粒径を小さくするため、鋳造時に鋳塊改良処理剤としてNa、Srの1種または2種を合計200ppm以下の範囲内で添加することが許容される。
さらにクラッド材の芯材の少なくとも片面に配されるAl−低Si合金からなる皮材は、単にその成分組成が前述の条件を満たすだけではなく、厚さ40μm以上で、かつ組織中における粒径(具体的には円相当径)7μm以上のSi系第2相粒子の分散密度として、そのSi系第2相粒子が10000μm2当り10個以下であることが必要である。これらの限定理由は次の通りである。
すなわち、Al−低Si合金からなる皮材層は、ろう付けによっても実質的にろう流動を起こさないため、ろう付け前の層厚みがろう付け後にもほぼ維持されるが、ろう付け前の層厚みが40μm未満では、腐食が芯材に到達してさらに深く進行する場合が生じるおそれがあるから、Al−低Si合金からなる皮材の厚みは40μm以上とする必要がある。なお、Al−低Si合金層の厚みが厚くなれば、クラッド材の強度は低下する傾向を示すから、薄肉のチューブの厚みを0.15〜0.25mm程度と想定すれば、Al−低Si合金からなる芯材のクラッド率(片面当り)は、33%以内とすることが望ましい。
またクラッド材のAl−低Si合金からなる皮材の組織中において、円相当径7μm以上のSi系第2相粒子が10000μm2当り10個を越える多量となれば、ろう付け温度において、その粒子の周辺での溶融が顕著となり、材料の流動が生じやすくなってしまう。
そこで芯材の少なくとも片面に配されるAl−低Si合金からなる皮材について、その厚みおよびSi系第2相粒子の分散密度を前述のように規定した。
なお、前述のようなAl−低Si合金からなる皮材は、芯材の片面のみに配して、2層構造のクラッド材としても、あるいは芯材の両面に配置して3層構造のクラッド材としても良い。
またAl−低Si合金からなる皮材を芯材の片面に配した場合、それに対する反対側の片面に、Al−高Si合金ろう材からなる皮材を配して、3層構造のクラッド材としても良く、これを規定したのが請求項4である。特にチューブ材として使用する場合には、このようにAl−低Si合金からなる皮材に対し反対側の面にAl−高Si合金ろう材からなる皮材を配しておくことが望ましい。
上述のようなAl−高Si合金ろう材としては、Si量が6〜14%のものを用いる。Si量が6%未満では充分なろう付け性を確保できないおそれがあり、一方14%を越えれば、粗大な初晶Si粒子を多く含む状態となり、安定したろう流れ性が得られない。なおAl−高Si合金ろう材からなる皮材のクラッド率は特に限定されるものではないが、通常は3〜15%程度とすることが望ましい。
なおまた、芯材の片面にAl−高Si合金ろう材を配する場合、そのAl−高Si合金ろう材は、Siのほか、請求項8において規定するように、さらにMg0.05〜1.5%を含んでいても良い。Mgは、既に芯材に関して述べたように、強度向上に寄与するばかりでなく、真空ろう付け法を適用する場合にろう付け性の向上に寄与するが、Mg量が0.05%未満ではそれらの効果が充分ではなく、一方Mg量が1.5%を越えれば逆にろう付け性が低下してしまう。またろう付け法としてノコロックブレージング法を適用する場合、フラックスとMgとの反応によりろう付け性が低下するが、その場合でもCs系のフラックスを使用すれば0.5%程度までのMgの添加は支障ない。
このようなAl−高Si合金ろう材は、Si、あるいはSiおよびMgに対する残部は、Alおよび不可避的不純物とすればよい。ここで、不可避的不純物としてFeが0.5%以下含有されていても特に支障はない。また既に述べたように鋳塊微細化剤として0.05%以下のTiを含有していても良く、またTiとともにBを0.01%以下含有していても良い。さらに、鋳塊中の晶出Siの粒径を小さくするため、Al−高Si合金ろう材についても、鋳造時に、鋳塊改良処理剤としてNa、Srの1種または2種を合計200ppm以下の範囲内で添加することは許容される。
ここで、以上のようなクラッド材を製造するための方法は、特に限定されるものではないが、次に望ましい製造方法について説明する。
先ず、常法に従った鋳造法(工業的にはDC鋳造法)により、芯材、皮材(Al−低Si合金、Al−高Siろう合金)をそれぞれ別に鋳造する。ここで、特にAl−低Si合金の鋳造にあたっては、粗大なSi系第2相粒子の晶出を防ぐため、7℃/sec以上の冷却速度を適用することが望ましい。これにより、請求項3で規定するAl−低Si合金からなる皮材の組織条件(粒径5μm以上のSi系第2相粒子が10000μm2当り10個以下)を容易に満たすことができる。鋳塊に対しては、任意に均質化処理を施すことができる。そして面削や予備熱間圧延により厚さを調整した後、芯材と皮材を組み合わせて熱間圧延し、クラッド接合する。続いて冷間圧延、焼鈍を組み合わせて所定厚さのクラッド材を得る。
なお、クラッド材の板材からチューブを形成する手段としては、プレス成形、ロール成形など、任意の成形方法を選択することができる。
次に以上のようなクラッド材を用いたろう付け構造体について説明する。
このろう付け構造体を構成しているクラッド材の芯材、皮材については既に述べた通りであるが、ろう付け後に後述するような析出処理を適切に施すことにより、構造体表面に存在するAl−低Si合金皮材層内において、円相当径0.05〜2.0μmの範囲内の径のSi系析出粒子が、10000μm2当り400個以上分布していることが必要である。
すなわち、ろう付け構造体におけるAl−低Si合金層は、皮材として熱交換器内において腐食環境にさらされる面に配されることになるが、円相当径0.05μm〜2.0μmのSi系析出粒子が面積10000μm2当り400個以上分布していることにより、耐食性の向上を図ることができるが、上述のような析出粒子の分布数が10000μm2当り400個未満の場合には、充分な耐食性が得られなくなる。
ここで、600℃前後の温度でのろう付け加熱後には、Al−低Si合金からなる皮材層はその合金中の多くのSiが固溶された状態となり、このようにSiが固溶された状態では、Siは電位を貴にする方向の作用を持ってしまうが、一旦固溶されたSiを、その後の適切な熱処理により析出させることにより、Al−低Si合金層からなる皮材はAl−Mn系合金芯材より卑な状態となるため、Al−低Si合金層が犠牲陽極的に作用して、防食機能を発揮するのである。なお、析出処理後のAl−低Si合金層中のSi固溶量は0.25%以下であることが望ましい。なおまた、このようなAl−低Si合金皮材のマトリクスとSi系析出物の間にはミクロな電池が形成されて析出物周辺が優先的な腐食位置となるから、微細な析出物が高密度で分布することにより、板厚方向よりも表面の横方向に腐食が進展する状態が維持されて、より良好な防食機能を発揮すると考えられる。
以上のようなろう付け構造体を製造するにあたっては、前述のようなクラッド材を用いてろう付けにより接合し、その後に析出熱処理を施す。
ここで、ろう付け法は特に限定されるものではないが、この発明の効果は特に真空ろう付け法(VB)もしくはノコロックブレージング法(NB)を適用した場合に良好に発揮される。これらのろう付け法における具体的なろう付け条件も特に限定されるものではないが、ろう付け温度は585〜615℃が好適である。またろう付けの加熱にあたっては、後の析出処理で皮材中に充分な析出物分布が得られるようにするため、Al−低Si層から芯材へのSi拡散を抑制するべく、材料が480℃以上に曝される時間を15分以内とすることが望ましい。
またろう付け後に行なう析出処理は、Al−低Si合金皮材中のSiを微細に析出させるためのものであるが、この析出処理は、200〜400℃で10分〜30時間保持の条件とする。
ここで、析出処理の温度が200℃より低ければ、工業的に可能な時間内で適当なSi析出粒子分散状態を得ることが困難となり、一方、400℃より高い温度の析出処理では、粗大な析出物が形成されやすくなって不適当となる。また析出処理の時間は、10分より短ければ充分に析出を進行させることができず、一方30時間を越える処理は工業的に問題が生じる。
なおろう付け後に行なう析出処理は、大気中、不活性ガス雰囲気中、あるいは真空中のいずれで実施しても良い。またこの析出処理は、ろう付け後に完全に冷却されたろう付け構造体に対して別途施しても良く、あるいはろう付け後の冷却過程中に析出処理を行なっても良い。ここで、ろう付け後の冷却過程中の析出処理としては、ろう付け後の冷却過程における200〜400℃の範囲内の一定の温度に10分〜30時間保持しても、あるいはろう付け後の冷却過程において400℃から200℃まで冷却される間を、10分〜30時間かけて徐冷しても良い。
実施例1:
表1の合金符号A1〜A8に示す皮材、表2に示す合金符号B1〜B4の芯材、表3に示す合金符号C1〜C3のろう材を、それぞれDC鋳造法によって鋳造した。DC鋳造での凝固時の冷却速度は3℃/sec程度であった。これらを、表4に示す組合せによって重ね合せて、常法により熱間圧延、冷間圧延、中間焼鈍および最終冷間圧延を施して、H14調質で板厚0.18mmのクラッド材を得た。なおこの発明の実施例の皮材(Al−低Si合金)は全て層厚50μmとし、比較例としてこれより薄いものも作製した。さらに、ろう材層の厚さは全て9μm(クラッド率5%)とした。
このようにして得られたクラッド材を用いて、ノコロックブレージング法(NB)によりろう付けを行い、その後、表4中に示す条件でSi析出処理を施した。なおろう付けにおいては、実験上、クラッド板にフラックス(KAlF系)の5%懸濁液を塗布し、酸素濃度約30ppmの窒素雰囲気中にて加熱した。なおろう付け前のクラッド材の皮材中における7μm以上のSi系第2相粒子の分散密度と、ろう付けおよび析出処理後の皮材中の円相当径0.05〜2.0μmのSi系析出物粒子の分布密度を、SEM(×5000および×8000)により調べたので、その結果を表4中に併せて示す。
さらに、前述のようにろう付けおよび析出処理を行なった後、ろう材側をマスキングして、SWAAT試験で720h後の最大腐食深さを調べたので、その結果を表4中に示す。
Figure 0004963627
Figure 0004963627
Figure 0004963627
Figure 0004963627
表4から明らかなように、この発明の実施例は、いずれもクラッド材全板厚0.18mm中において、Al−低Si合金皮材は50μmであって、ろう付け加熱後にSi析出処理を実施したものであるが、最大腐食深さはいずれも1/2以下であり、良好な耐食性を示していることが確認された。これに対し比較例では、いずれも耐食性が劣る結果となっていることが確認された。
実施例2:
表1の皮材、表2の芯材、表3のろう材を、表5中に示すように組合せ、実施例1と同様にクラッド材を作成し、真空ブレージング法(VB)によりろう付けし、実施例1と同様に析出処理を行なった。その結果を表5中に示す。
Figure 0004963627
表5から明らかなように、フラックスなどを用いずにろう付け加熱した実施例2の場合でも、この発明によれば良好な耐食性が得られることが確認された。
実施例3:
前記同様に表1の皮材、表2の芯材、表3のろう材を表6中に示すように組合せて、実施例1と同様にして厚み0.18mmのクラッド材を作成した。一方、3003合金芯材の両面に4343合金ろうを10%クラッド率で有する0.08μm厚のクラッドフィン材をコルゲートし、これを上述の0.18mm厚のクラッド材のAl−低Si合金面に、ノコロックブレージング法によりろう付け接合して、一段のミニコアを作成し、前記と同様な析出処理を施した。これについて、Al−低Si合金面以外の部分をマスキングして、Al−低Si合金面からの腐食深さを調べた結果を、表6に示す。
Figure 0004963627
表6から、実施例3場合も、良好な耐食性を示すことが確認された。

Claims (8)

  1. Mn0.5〜1.5%(mass%、以下同じ)を含むAl−Mn系合金を芯材とし、かつその芯材の少なくとも片面に、1.5%以上で3.0%未満のSiを含有し、残部がAlおよび不可避的不純物よりなるAl−低Si合金からなる皮材層を配してなるクラッド材を用いて、ろう付けにより組立てられた構造体からなり、しかもそのクラッド材における構造体表面に存在するAl−低Si合金皮材層内に、円相当径0.05μm〜2.0μmのSi系析出粒子が10000μm2当り400個以上分布していることを特徴とする、耐食性に優れた熱交換器用アルミニウムろう付け構造体。
  2. 請求項1に記載の熱交換器用アルミニウムろう付け構造体を製造するにあたり、
    前記クラッド材をろう付け後、200〜400℃の範囲内の温度に10分〜30時間保持する条件でAl−低Si合金皮材中のSi析出処理を行なうことを特徴とする、熱交換器用アルミニウムろう付け構造体の製造方法。
  3. Mn0.5〜1.5%を含むAl−Mn系合金を芯材とし、かつその芯材の少なくとも片面に、1.5%以上で3.0%未満のSiを含有し、残部がAlおよび不可避的不純物よりなるAl−低Si合金からなる皮材層を配してなり、しかも前記Al−低Si合金からなる皮材層が、厚さ40μm以上でかつ組織中における円相当径7μm以上のSi系第2相粒子の分布密度が10000μm2当り10個以下であることを特徴とする、請求項1に記載の熱交換器用アルミニウムろう付け構造体に使用されるクラッド材。
  4. Mn0.5〜1.5%を含むAl−Mn系合金を芯材とし、かつその芯材の片面に、1.5%以上で3.0%未満のSiを含有し、残部がAlおよび不可避的不純物よりなるAl−低Si合金からなる皮材層が、また芯材の他の片面に、6〜14%のSiを含有するAl−高Si合金ろう材からなる皮材層が配されており、しかも前記Al−低Si合金からなる皮材層は、厚みが40μm以上でかつ組織中における円相当径7μm以上のSi系第2相粒子の分布密度が10000μm2当り10個以下であることを特徴とする、請求項1に記載の熱交換器用アルミニウムろう付け構造体に使用されるクラッド材。
  5. 請求項3もしくは請求項4に記載のクラッド材において、
    前記芯材のAl−Mn系合金が、さらにCu0.05〜1.0%、Ti0.05〜0.2%のうちの1種もしくは2種を含むことを特徴とする、熱交換器用アルミニウムろう付け構造体に使用されるクラッド材。
  6. 請求項3〜請求項5のいずれかの請求項に記載のクラッド材において、
    前記芯材のAl−Mn系合金が、さらにMg0.05〜1.5%を含むことを特徴とする、熱交換器用アルミニウムろう付け構造体に使用されるクラッド材。
  7. 請求項3もしくは請求項4に記載のクラッド材において、
    前記Al−低Si合金が、さらにMg0.05〜0.5%を含むことを特徴とする、熱交換器用アルミニウムろう付け構造体に使用されるクラッド材。
  8. 請求項4に記載のクラッド材において、
    前記Al−高Si合金ろう材が、さらにMg0.05〜1.5%を含むことを特徴とする、熱交換器用アルミニウムろう付け構造体に使用されるクラッド材。
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