JP4946136B2 - 極端紫外線露光用マスクブランク及び極端紫外線露光用マスク並びにパターン転写方法 - Google Patents
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Description
ここで、吸収膜の欠陥検査として、例えば、エッチングによって吸収膜が除去されるべき部分に吸収膜が残留しているか否かを調べるときは吸収膜のエッチングが終了したタイミングで実施する。このときにコントラストをなす一方の反射率は吸収膜の欠陥部分の反射率であり、他方の反射率は多層膜上にキャッピング膜と緩衝膜を積層した積層体の反射率となる。そして、これら反射率の差が大きいほど、吸収膜の欠陥を発見し易い。
本発明は、かかる問題に対する対策を提供するものであり、DUV光による欠陥検査能力を向上するために、多層膜にキャッピング膜及び緩衝膜を積層した積層体と吸収膜の欠陥部分との間のコントラストを確保できるようにしたEUV露光用マスク、及びそれを作製するためのブランクを提供することを主な目的とする。
本発明の極端紫外線露光用マスクブランクは、基板上に形成された多層膜からなる高反射部と、前記多層膜を保護するキャッピング膜と、前記キャッピング膜上に緩衝膜を介して形成された吸収膜からなる低反射部とを具備する極端紫外線露光用マスクブランクにおいて、前記吸収膜は、波長190nmから260nmの紫外線に対する屈折率が下地となる前記緩衝膜側へ向かうにつれて大きくなることを特徴としている。
この極端紫外線露光用マスクのマスクブランクは、欠陥部分を修正する過程などで吸収膜の膜厚が薄くなっても反射率を維持することができ、コントラストを保持することができ、高品質の極端紫外線露光用マスクを作製することができるようになる。
この極端紫外線露光用マスクブランクは、吸収膜の物性を上記したものにすることで、欠陥部分と、他の部分とのコントラストを高くでき、高品質の極端紫外線露光用マスクを作製することができるようになる。
この極端紫外線露光用マスクは、吸収膜をパターニングする際に、吸収膜が残留するなどした欠陥部分と、他の部分とのコントラストが高くなり、欠陥検査が容易になる。
このパターン転写方法によれば、上記の極端紫外線露光用マスクに露光光として極端紫外線を照射することで、優れた反射コントラストでパターンを転写することができる。また、極端紫外線を照射することで、極端紫外線の波長に対応した微細な線幅のパターニングを行うことが可能である。
図1に示すように、EUV(極端紫外線)露光用マスク1は、基板2上に高反射部である多層膜3と、キャッピング膜4と、緩衝膜5と、吸収膜6とを順番に積層した構造を有する。緩衝膜5及び吸収膜6は、キャッピング膜4上に所定の露光転写パターンを形成する低反射部である。なお、低反射部とは、多層膜3からなる高反射部よりも相対的に反射率が低いことをいう。
また、図2に示すように、EUV露光用マスク1の作製に用いられるマスクブランク10(極端紫外線露光用マスクブランク)は、緩衝膜5及び吸収膜6をパターニングする前の積層体であり、基板2上に多層膜3と、キャッピング膜4と、緩衝膜5と、吸収膜6とを順番に積層した構造を有する。
さらに、下地に向かって屈折率nが次第に大きくなるように吸収膜6を形成したので、小さい欠陥や、修正途中で膜厚が薄くなった欠陥であっても欠陥検査に十分なコントラストが得られ、欠陥の存在を確実に検出できる。その結果、欠陥を確実に修正でき、信頼性の高いEUV露光用マスク1が得られる。このようなEUV露光用マスク1を使用してパターン転写を行うと、所望のパターンを確実に転写することが可能になる。
このような積層体に対してDUV反射光によるコントラストを利用して欠陥検査を行ったが、吸収膜の微小な欠陥まで効率よく検査することができた。その後、緩衝膜、キャッピング膜、多層膜に損傷が起きないように注意しながら集束イオンビームによる欠陥修正を行った。さらに再度欠陥検査を行ったが、修正により薄くなった修正残りの吸収膜欠陥を十分に検出することができた。
このようにして欠陥検査と、必要に応じた欠陥修正を実施した後で緩衝膜をエッチングし、パターンに欠陥がない高品質のEUV露光用マスクを作製した。
例えば、高反射部の構成は、多層膜3に限定されない。多層膜3を構成する元素や膜厚、ペア数は実施の形態に限定されない。多層膜3によって反射率Rmを異ならせた場合には、その反射率Rmに対してコントラストが50%よりも大きくなるように反射率Raを調整する。
2 基板
3 多層膜(高反射部)
4 キャッピング膜
5 緩衝膜
6 吸収膜(低反射部)
10 マスクブランク(極端紫外線露光用マスクブランク)
Ra 反射率(吸収膜を含む反射率)
Rm 反射率
d 膜厚
k 消衰係数
n 屈折率
Claims (5)
- 基板上に形成された多層膜からなる高反射部と、前記多層膜を保護するキャッピング膜と、前記キャッピング膜上に緩衝膜を介して形成された吸収膜からなる低反射部とを具備する極端紫外線露光用マスクブランクにおいて、
前記吸収膜は、波長190nmから260nmの紫外線に対する屈折率が下地となる前記緩衝膜側へ向かうにつれて大きくなることを特徴とする極端紫外線露光用マスクブランク。 - 波長190nmから260nmの紫外線領域における前記高反射部と前記キャッピング膜と前記緩衝膜と前記吸収膜を含む部分の反射率の上限値が、6.7乃至20%の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の極端紫外線露光用マスクブランク。
- 前記吸収膜は、波長190nmから260nmの紫外線に対する消衰係数が、0.5乃至1.5の範囲にあり、屈折率が1.0乃至2.5の範囲にあることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の極端紫外線露光用マスクブランク。
- 請求項1乃至3のいずれかの極端紫外線露光用マスクブランクの前記吸収膜および前記緩衝膜をエッチングして露光転写パターンを形成したことを特徴とする極端紫外線露光用マスク。
- 請求項4に記載の極端紫外線露光用マスクを露光装置に設置し、該マスクを用いたリソグラフィ法により露光転写を行い、パターン形成を行うことを特徴とするパターン転写方法。
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