JP4943530B2 - アライメントターゲットのコントラストを大きくするための方法およびシステム - Google Patents
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Description
結論
Claims (15)
- ダブルパターニングリソグラフィプロセスにおけるウェーハを位置合わせするための方法であって、
第1の光学特性を有する第1のレジスト層を堆積させる工程と、
前記第1の光学特性を有する少なくとも1つのアライメントマークを前記第1のレジスト層の中に形成する工程と、
前記第1のレジスト層を現像する工程と、
前記第1のレジスト層の上に第2の光学特性を有する第2のレジスト層を堆積させる工程であって、第1および第2のレジスト層ならびにアライメントマークの組合せが、前記アライメントマークに入射する所定の波長の放射によって、前記第1および第2の光学特性の関数としての第1の次数またはより高い次数の回折が生成される工程と
を含む方法。 - 前記第1のレジスト層中の前記アライメントマークおよび前記第2のレジスト層の一部が相俟って回折格子を形成する、請求項1に記載の方法。
- アライメントのために使用される前記所定の波長の放射で照明されると、吸収し、蛍光を発し、あるいは発光する色素または光活性化合物を前記第1および第2のレジスト層のうちの一方または両方に注入する工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- アライメントのために使用される前記所定の波長の放射で照明されると、吸収し、蛍光を発し、あるいは発光し、また、化学線波長の放射で照明されると透明である色素または光活性化合物を前記第1のレジスト層に注入する工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第1のレジスト層を堆積させる前に、前記第1のレジスト層に色素または光活性化合物を加える工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第1のレジスト層を堆積させている間に、前記第1のレジスト層に色素または光活性化合物を加える工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第1のレジスト層を現像した後に、前記第1のレジスト層に色素または光活性化合物を加える工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記現像する工程の後に前記第1のレジスト層を凍結させる工程と、前記第1のレジスト層を凍結させるために使用される凍結剤に色素または光活性化合物を加える工程とをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第2のレジスト層に色素または光活性化合物を加える工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第1のレジスト層をパターニングした後に前記第1のレジスト層に色素または光活性化合物を加える工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第1のレジスト層と第2のレジスト層の間の光学コントラストを大きくし、かつ、前記第1のレジスト層中の前記アライメントマークに入射する放射の回折を改善するために、第1の色素または光活性化合物を前記第1のレジスト層に加え、かつ、第2の色素または光活性化合物を前記第2のレジスト層に加える工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 第1の光学特性を有する第1のレジスト層と、
前記第1のレジスト層の上に堆積された、第2の光学特性を有する第2のレジスト層と
を備えた光学エレメントであって、前記第1および第2のレジスト層の組合せによって形成されるアライメントマークにより、アライメントのために使用される所定の波長で照明されると、前記第1および第2の光学特性の関数としての第1の次数またはより高い次数の回折が生成される光学エレメント。 - 前記アライメントマークおよび前記第2のレジスト層の一部が相俟って回折格子を形成する、請求項12に記載の光学エレメント。
- 第1および第2のレジスト層の組合せならびにアライメントマークが、アライメントのために使用される波長で照明されると、第1の次数またはより高い次数の回折を強化し、一方、ゼロ番目の次数の回折および鏡面反射を実質的に小さくする回折格子を形成する、請求項13に記載の光学エレメント。
- ダブルパターニングプロセスにおけるアライメントのための所定の波長の放射を提供し、かつ、第1の光学特性および所与の基板上の少なくとも1つのアライメントターゲットを有する現像済みの第1のレジスト層を照明する照明源と、
前記第1のレジスト層の上に第2の光学特性を有する第2のレジスト層を堆積させる際に、第1および第2のレジスト層ならびに前記少なくとも1つのアライメントターゲットの組合せによって、前記第1のレジスト層と第2のレジスト層の間の光学コントラストの向上、および前記第1のレジスト層中の前記少なくとも1つのアライメントターゲットに入射する放射の回折の向上のうちの少なくとも1つを可能にするよう、前記少なくとも1つのアライメントターゲットからの改善された回折次数および高コントラストのうちの少なくとも1つを使用してウェーハを位置合わせするためのアライメントシステムと
を備えたリソグラフィ装置。
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