JP4942358B2 - 固定キャリア - Google Patents
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Description
しかしながら、出願人は、係る効果のみに満足することなく、固定キャリアに様々な改良を施して付加価値を付け、技術の飛躍的進歩を刺激することを欲している。具体的には、バックグラインド工程時に固定キャリアと半導体ウェーハとの間に研削液が浸入するおそれが考えられるので、これを未然に抑制防止することを望んでいる。
剛性を有し、半導体ウェーハよりも大きい基板と、この基板の表面周縁部を除く表面の大部分に凹み形成される平面円形の凹み穴と、この凹み穴内に並設される複数の支持突起と、基板の表面周縁部と複数の支持突起とに平坦に接着されて凹み穴を被覆し、半導体ウェーハを着脱自在に粘着保持する変形可能な薄膜の粘着層と、負圧源の駆動に基づいて粘着層に被覆された凹み穴内の気体を外部に導き、複数の支持突起に応じて粘着層を変形させる排気路とを含み、
凹み穴の周縁部を半導体ウェーハの周縁部に粘着層を介して対向させ、各支持突起を円柱形に形成し、凹み穴の周縁部から内方向に、粘着層に接着する複数の櫛歯を突出させ、この複数の櫛歯を凹み穴の周縁部周方向に所定のピッチで配列するとともに、隣接する複数の櫛歯間に隙間を形成し、複数の櫛歯により、バックグラインド時における半導体ウェーハの周縁部の部分的な振動を抑制するようにしたことを特徴としている。
実施例
先ず、ポリカーボネートを使用して300mmタイプの半導体ウェーハを粘着可能な固定キャリアの基板、凹み穴、複数の支持突起、排気路、複数の櫛歯を一体成形し、この基板の表面に柔軟な粘着層を接着して図2や図3に示す固定キャリアを製造した。
その結果、固定キャリアと半導体ウェーハとの間に研削液が1mm程度しか浸入していないのを確認した。
複数の櫛歯を省略し、その他は実施例と同様にして固定キャリアを製造した。固定キャリアを製造したら、実施例同様にバックグラインド装置にセットし、半導体ウェーハの裏面を研削装置の回転砥石で研削し、その後、固定キャリアと半導体ウェーハとの間に研削液がどの程度浸入したかを確認した。
その結果、固定キャリアと半導体ウェーハとの間には実用上問題はないが、研削液が多いところで15mm浸入していた。
2 基板
3 凹み穴(凹部)
4 周縁部
5 支持突起
6 粘着層
7 排気路
8 真空ポンプ(負圧源)
10 抑制体
11 櫛歯
20 バックグラインド装置
23 チャックテーブル
25 研削装置
26 粗研削装置
26a 回転砥石
27 仕上げ研削装置
27a 回転砥石
W 半導体ウェーハ
Claims (1)
- 研削液と回転砥石とを用いたバックグラインドにより薄片化される半導体ウェーハ用の固定キャリアであって、
剛性を有し、半導体ウェーハよりも大きい基板と、この基板の表面周縁部を除く表面の大部分に凹み形成される平面円形の凹み穴と、この凹み穴内に並設される複数の支持突起と、基板の表面周縁部と複数の支持突起とに平坦に接着されて凹み穴を被覆し、半導体ウェーハを着脱自在に粘着保持する変形可能な薄膜の粘着層と、負圧源の駆動に基づいて粘着層に被覆された凹み穴内の気体を外部に導き、複数の支持突起に応じて粘着層を変形させる排気路とを含み、
凹み穴の周縁部を半導体ウェーハの周縁部に粘着層を介して対向させ、各支持突起を円柱形に形成し、凹み穴の周縁部から内方向に、粘着層に接着する複数の櫛歯を突出させ、この複数の櫛歯を凹み穴の周縁部周方向に所定のピッチで配列するとともに、隣接する複数の櫛歯間に隙間を形成し、複数の櫛歯により、バックグラインド時における半導体ウェーハの周縁部の部分的な振動を抑制するようにしたことを特徴とする固定キャリア。
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JP2006040416A JP4942358B2 (ja) | 2006-02-17 | 2006-02-17 | 固定キャリア |
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