JP4941268B2 - ワイヤボンディング方法およびワイヤボンディング装置 - Google Patents

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Description

本発明は半導体チップと配線基板との電気的接続等に用いられるワイヤボンディング方法およびワイヤボンディング装置に関する。
ワイヤボンディング方法は、半導体チップと配線基板とを電気的に接続する方法等として広く用いられている。
図6に、ボンディングヘッド10を用いて半導体チップ20を配線基板22にワイヤボンディングする例を示す。ボンディングヘッド10は超音波振動を利用してワイヤボンディングするもので、超音波振動を伝達するトランスデューサ12と、トランスデューサ12の基部に取り付けられた超音波発生源14と、トランスデューサ12の先端に取り付けられたキャピラリ16とを備える。キャピラリ16は細い円筒状に形成され、ボンディングワイヤはキャピラリ16の上部から先端へキャピラリ16の内部を通過して供給される。
ワイヤボンディングは、ファーストボンディングで半導体チップ20の電極にボンディングワイヤを接合し、セカンドボンディングで配線基板のパッドにボンディングワイヤを接合してワイヤを切断する操作を1回の操作として、次々と電極とパッド間を接続することによってなされる。ボンディングヘッド10では、半導体チップ20の電極と配線基板22のパッドにボンディングワイヤを接合するごとに、トランスデューサ12を介してキャピラリ16に超音波振動を作用させ、接合時にボンディングワイヤと被接合部との接触部に超音波を作用させて接合する。
ボンディングワイヤの接合性を良好にするため、半導体チップ20が搭載された配線基板22を加熱用のステージ30にセットし、配線基板22と半導体チップ20とを加熱しながらワイヤボンディングする方法が行われている。ファーストボンディングではボンディングワイヤを溶融してボンディングワイヤを電極に超音波接合し、セカンドボンディングではボンディングワイヤに超音波振動を作用させボンディングワイヤとパッドとの摩擦力(摩擦熱)を利用して接合するから、配線基板22や半導体チップ20を加熱しておくことが有効である。
特開平6−204301号公報 特開昭60−202948号公報 特開2004−95810号公報 特開2004−165548号公報 特開2005−347506号公報
しかしながら、半導体チップが高集積化し半導体チップの電極の配置間隔が狭くなってきたため(ピッチ35μm程度)、従来よりも細いボンディングワイヤが使用されるようになってきた。この結果、ボンディングワイヤと被接合部(電極あるいはパッド等)との接合面積が従来よりも縮小し、接合部の接合強度が低下するという問題が生じてきた。
接合強度が低下する問題は、ボンディングワイヤと被接合部との接合強度を向上させることによって補うことができる。上述した加熱用のステージ30を用いてワイヤボンディングする方法は、被接合部を加熱することにより接合部分の合金化率を高め、これによって接合強度を高める作用を有する。
従来のワイヤボンディング装置では、ボンディングワイヤの接合性を向上させる方法としてボンディングヘッド側に加熱手段を設ける方法も提案されている。本発明は、超音波を利用するボンディングヘッドを用いてワイヤボンディングする際に、一層確実に、ボンディングワイヤを被接合部に接合することを可能にするワイヤボンディング方法およびワイヤボンディング装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明は以下の構成を備える。
すなわち、超音波振動を伝達するトランスデューサと、トランスデューサに取り付けられたキャピラリとを備えるボンディングヘッドを用いるワイヤボンディング方法において、トランスデューサにより加振された際に生じる振動の節の位置にヒータが取り付けられたキャピラリを備えたボンディングヘッドを使用し、前記ヒータにより前記キャピラリを加熱してワイヤボンディングすることを特徴とする。
前記トランスデューサとして、超音波振動が印加された際に生じる振動の節の位置にヒータが取り付けられたトランスデューサを使用し、前記ヒータにより前記トランスデューサを加熱しながらワイヤボンディングすることによって、さらにボンディングワイヤの接合強度を向上させることができる。
また、ワイヤボンディング装置として、超音波発生源と、超音波振動を伝達するトランスデューサと、トランスデューサに取り付けられたキャピラリとを備え、前記キャピラリには、前記トランスデューサにより加振された際に生じる振動の節の位置にヒータが取り付けられているボンディングヘッドを備えているものが有効である。
また、前記ヒータは、前記キャピラリに生じる複数の振動の節のうち、キャピラリのより先端側の節の位置に取り付けられていることにより、ボンディング部により近い位置でボンディングワイヤを加熱することができ、ボンディングワイヤの接合部の接続信頼性を高めることができる。
また、前記ヒータは、前記キャピラリに生じる節の位置から(2L/N)×0.032(Lはキャピラリの長さ、Nは0以外の整数)の範囲内に取り付けることによって、キャピラリの接合作用を阻害することなくボンディングワイヤを接合することができる。
また、前記トランスデューサには、前記超音波発生源により超音波振動が印加された際に生じる振動の節の位置にヒータが取り付けられることにより、キャピラリを加熱する作用がさらに促進され、ボンディング部の接続信頼性を高めることができる。
また、超音波接合用ボンディングヘッドのトランスデューサに取り付けて用いられるキャピラリであって、前記トランスデューサにより加振された際に生じる振動の節の位置にヒータが取り付けられていることにより、キャピラリの振動作用が阻害されず、キャピラリが効果的に加熱され、ワイヤボンディング性に優れたキャピラリとして提供される。
また、前記ヒータは、前記キャピラリに生じる複数の振動の節のうち、キャピラリのより先端側の節の位置に取り付けられていることが有効であり、前記ヒータは、前記キャピラリに生じる節の位置から(2L/N)×0.032(Lはキャピラリの長さ、Nは0以外の整数)の範囲内に取り付けて用いることができる。
本発明によれば、キャピラリに作用する超音波振動の作用を阻害することなく、キャピラリを加熱することができ、ワイヤボンディングの際にボンディングワイヤを加熱することによってボンディングワイヤと被接合部との接合強度を高めることができ、ボンディング部における接続信頼性を高めることができる。
以下、本発明に係るワイヤボンディング方法およびワイヤボンディング装置の実施の形態について説明する。
図1は、ワイヤボンディング装置のボンディングヘッド11の構成を示す。ボンディングヘッド11は、トランスデューサ12と、トランスデューサ12の基端部に設けられた超音波発生源14とトランスデューサ12の先端部に固定されたキャピラリ16とを備える。
トランスデューサ12は超音波発生源14において発生した超音波振動をキャピラリ16に伝達する作用をなす。超音波発生源14において発生した超音波振動は、疎密波としてトランスデューサ12の長手方向に縦波として伝達される。超音波発生源14にはたとえば圧電素子が使用でき、圧電素子に印加させる電圧の周波数を制御することによって、トランスデューサ12に作用させる超音波振動の周波数を制御することができる。
図1に示すトランスデューサ12、超音波発生源14およびキャピラリ16についての構成は従来のワイヤボンディング装置におけるボンディングヘッドの構成と同様である。本実施形態のボンディングヘッド11において特徴的な構成は、キャピラリ16を加熱するヒータ18をキャピラリ16に取り付け、キャピラリ16をヒータ18によって加熱してボンディングワイヤと被接合部との接合性を向上させるようにしたことにある。
また、本発明においては、このヒータ18をトランスデューサ12に取り付ける位置を、キャピラリ16がトランスデューサ12よって強制的に振動された際に生じる節(ノード)の位置に取り付けることを特徴とする。
図2は、キャピラリ16に超音波振動を作用させキャピラリ16が振動している状態でのキャピラリ16の長手方向の各々の位置における変位を示している。
キャピラリ16のトランスデューサ12に固定されている基端部Aは、トランスデューサ12によって図の左右方向に強制的に振動され、キャピラリ16の基端部Aは振動の腹となる。一方、キャピラリ16の先端部Bは、ボンディングワイヤに振動を作用させる点であり、先端部Bも腹となる。
図2は、キャピラリ16の基端部Aと先端部Bとが腹となるように振動させる条件で、キャピラリ16の長さが振動波長の1波長分に相当した場合である。この場合には、振動の節(ノード)がキャピラリ16の長手方向の2箇所N1、N2に生じる。
本発明においては、キャピラリ16が強制振動されて生じる節の位置にヒータ18を取り付ける。ヒータ18は、図のように、キャピラリ16が固定支持されるトランスデューサ12に近い側の節の位置N2に取付けてもよいし、キャピラリ16の先端に近い側の節の位置N1にヒータ18を取り付けてもよい。また、2つの節の位置N1、N2の双方にヒータ18を取り付けてもよい。
キャピラリ16が強制振動された際に生じる節の位置にヒータ18を取り付けるのは、キャピラリ16に作用する超音波振動を阻害することなく超音波接合ができるようにするためである。キャピラリ16が振動した際に生じる節の位置は、キャピラリ16の状態で固定点となっているから、この位置にヒータ18を取り付けても超音波振動を作用させてボンディングワイヤを接合する作用を損なうことはない。
図3は、キャピラリにトランスデューサを取り付けた状態でトランスデューサを振動させた場合に、キャピラリが振動する様子を解析した結果を示す。図3の解析結果は、トランスデューサに連結されるキャピラリの位置と、キャピラリの先端がともに振動の腹となり、キャピラリの長手方向の中央に一つの節(ノード)が生じることを示す。
なお、図3では、キャピラリの変位量については強調して表している。ボンディングヘッドのトランスデューサ12によってキャピラリ16を振動させる際の振幅は1μm程度である。キャピラリ16の長さは5〜10mm程度であるから、キャピラリ16の長さに対する振幅の比率は、実際には図3に示す状態よりもはるかに小さい。
図4は、ボンディングヘッド10のトランスデューサ12によってキャピラリ16に作用させる超音波振動の周波数を変えたときに、キャピラリ16に生じる振動の節(ノード)がどの位置にあらわれるかを図示したものである。図では、キャピラリ16の長さを8mmとし、キャピラリ16に作用させる周波数、いいかえればボンディングヘッド10の周波数を120kHz、240kHz、360kHz、480kHz、600kHzとした場合について示している。
ボンディングヘッド10に印加する超音波振動の周波数120kHzは一般的な超音波ヘッドで用いられている周波数である。この場合に、キャピラリ16は、キャピラリ16の長手方向の中央(先端から4mmの位置)に1つの振動の節が生じる状態になる(図3に示す状態)。図中の小円は、振動の節(ノード)の位置を示す。これに対してボンディングヘッド10の周波数を240kHzとした場合は振動の節が2か所に生じ、ボンディングヘッド10の周波数を360kHzとした場合は、振動の節が3か所に生じる。
このように、ボンディングヘッド10の周波数が120kHz(基本周波数)のN倍になると、キャピラリ16に生じる振動の節の数がN個となり、周波数を増大させるとともに振動の節の数が増大していく。
キャピラリ18に生じる振動の節は、ボンディングヘッド10の発振周波数を120×N(kHz)[Nは自然数]とした場合、キャピラリ16の先端から、(n/2N)×L[nは2N以下の奇数、Lはキャピラリの長さ]の位置に生じる。
ボンディングヘッド10の周波数が120kHzの場合には、振動の節が1か所のみであり、ヒータ18の取り付け位置はこの振動の節の位置に限定される。これに対して、ボンディングヘッド10の周波数が120×N(kHz)[Nは2以上の自然数]となると、振動の節は複数個所に生じるから、ヒータ18は適宜節の位置を選択して取り付けることができる。
ヒータ18はキャピラリ16の先端に近い側に取り付ける方が、被接合部に対する加熱効率が向上する点で効率的である。しかしながら、キャピラリ16の先端は、ボンディングワイヤを押圧するために細径となっているから、キャピラリ16の強度やヒータ18の取り付けの容易さを考慮してヒータ18の取り付け位置を選択するのがよい。
キャピラリ16にヒータ18を取り付ける際には、キャピラリ18の振動を阻害しないように振動の節の位置に正確にヒータ18を取り付ける必要がある。しかしながら、キャピラリ16は小型部品であり、キャピラリ16にヒータ18を取り付ける際に正規位置から位置ずれすることが起こり得るし、ヒータ18はある程度の大きさがあるから、振動の節の位置からの位置ずれを考慮する必要がある。
ヒータ18を取り付ける際の位置ずれは、キャピラリ16の最大振幅の±10%以内の変位範囲内であれば、キャピラリ16の振動を大きく阻害しないと考えられる。この条件は、キャピラリ16に生じる節の位置から(2L/N)×0.032の範囲内にヒータ18を取り付けることによって満足される。
図4では、ヒータ18をキャピラリ16に取り付ける際に、振動の節の位置からの位置ずれが上記条件下で許容される範囲を細線範囲によって示した。ボンディングヘッドの周波数が増大するとともに、位置ずれが許容される範囲が狭まる。すなわち、周波数が高くなった場合には、より高精度に位置合わせしてヒータ18をキャピラリ16に取り付ける必要がある。
なお、上記実施形態ではボンディングヘッド10に作用させる超音波振動の周波数を、従来のワイヤボンディング装置において用いられている周波数である120(kHz)を基本周波数として説明した。ワイヤボンディング装置によっては、ボンディングヘッド10に加える周波数を120(kHz)以外に設定する場合があり得る。その場合には、その周波数を基本周波数として、キャピラリ16における振動の節(ノード)の位置を求めてヒータ18の取り付け位置を設定すればよい。すなわち、ボンディングヘッド10に作用させる超音波振動の周波数は上記実施形態の場合に限られるものではない。
キャピラリ16に挿通するボンディングワイヤは数十μm径の細線であり、キャピラリ16も外径が1mm程度である。したがって、キャピラリ16に取り付けるヒータ18も小型部品となる。キャピラリ16にヒータ18を取り付ける方法としては、ヒータをキャピラリ16の外面に貼着する方法、ヒータ線をキャピラリ16の外周面に巻きつけて固定する方法、キャピラリ16に穴加工して穴にヒータを挿通させるといった方法による。
キャピラリ16には一般にセラミック材が用いられている。ヒータ18には常時通電して、キャピラリ16が加熱された状態でボンディングワイヤが供給されるようにする。加熱用ステージの加熱温度は170〜180℃程度である。キャピラリ16については、配線基板を過熱させて損傷するといったことがないから、加熱用のステージよりも高温(200℃程度)に設定することができる。
キャピラリ16にヒータ18を取り付けてキャピラリ16を加熱しながらワイヤボンディングすれば、図6に示すように、加熱用のステージ30にワークをセットして電極やパッド等の被接合部を加熱することに加えて、ボンディングワイヤについても加熱してワイヤボンディングできるから、ボンディングワイヤと被接合部との接触部をさらに効果的に加熱することができ、ボンディングワイヤの接合強度を高めることができる。
これにより、半導体チップの電極配置が微細化して細線のボンディングワイヤを使用しなければならないような場合でも、ボンディングワイヤと被接合部との接合性を向上させ、ワイヤボンディングによる電気的接続の信頼性を向上させることができる。
上述した実施形態では、ボンディングヘッド10のキャピラリ16にヒータ18を取り付ける方法について説明した。上記のようにキャピラリ16にヒータ18を取り付けて、キャピラリ16を加熱することと併せて、ボンディングヘッド10のトランスデューサ12にヒータを取り付け、トランスデューサ12についても加熱することによって、さらにボンディングワイヤに対する加熱効率を向上させ、ボンディングワイヤの接合性を向上させることができる。
前述したように、トランスデューサ12は超音波発生源14による超音波振動を疎密波としてキャピラリ16に伝達する作用をなす。したがって、トランスデューサ12に超音波振動が印加されるとトランスデューサ12自体も振動しトランスデューサ12にも振動の腹、振動の節(ノード)が生じる。
図5はトランスデューサ12における変位(縦波の変位)を示したものである。同図において、変位が0となる点が振動の節(ノード)となる位置である。トランスデューサ12についてもこの振動の節の位置にヒータを取り付けることによって、超音波振動を伝達する作用を阻害することなくトランスデューサ12を加熱することができる。
トランスデューサ12にヒータを取り付ける場合、トランスデューサ12に生じる振動の節の位置のうちキャピラリ16が連結される側に近い位置の節の位置を選択して、効果的にキャピラリ16が加熱されるようにすることもできるし、複数の節の位置にそれぞれヒータを取り付けることもできる。トランスデューサ12にヒータを取り付けてトランスデューサ12を加熱することによって、キャピラリ16をさらに効率的に加熱することが可能となり、ボンディングワイヤと被接合部との接合強度をさらに向上させることが可能になる。
ボンディングヘッドの構成を示す説明図である。 キャピラリとキャピラリを振動させた際に生じる振動の腹の位置を示すグラフを対比して示した説明図である。 トランスデューサの強制振動によってキャピラリが振動する様子を解析した結果を示すグラフである。 キャピラリに作用させる超音波振動によって、キャピラリに生じる振動の節の位置を示す説明図である。 トランスデューサの変位を示すグラフである。 超音波ヘッドを用いて半導体チップと配線基板とをワイヤボンディングする例を示す説明図である。
符号の説明
10、11 ボンディングヘッド
12 トランスデューサ
14 超音波発生源
16 キャピラリ
18 ヒータ
20 半導体チップ
22 配線基板
30 ステージ

Claims (9)

  1. 超音波振動を伝達するトランスデューサと、トランスデューサに取り付けられたキャピラリとを備えるボンディングヘッドを用いるワイヤボンディング方法において、
    トランスデューサにより加振された際に生じる振動の節の位置にヒータが取り付けられたキャピラリを備えたボンディングヘッドを使用し、
    前記ヒータにより前記キャピラリを加熱してワイヤボンディングすることを特徴とするワイヤボンディング方法。
  2. 超音波振動が印加された際に生じる振動の節の位置にヒータが取り付けられたトランスデューサを使用し、
    前記ヒータにより前記トランスデューサを加熱しながらワイヤボンディングすることを特徴とする請求項1記載のワイヤボンディング方法。
  3. 超音波発生源と、超音波振動を伝達するトランスデューサと、トランスデューサに取り付けられたキャピラリとを備え、
    前記キャピラリには、前記トランスデューサにより加振された際に生じる振動の節の位置にヒータが取り付けられているボンディングヘッドを備えていることを特徴とするワイヤボンディング装置。
  4. 前記ヒータは、前記キャピラリに生じる複数の振動の節のうち、キャピラリのより先端側の節の位置に取り付けられていることを特徴とする請求項3記載のワイヤボンディング装置。
  5. 前記ヒータは、前記キャピラリに生じる節の位置から(2L/N)×0.032(Lはキャピラリの長さ、Nは0以外の整数)の範囲内に取り付けられていることを特徴とする請求項3または4記載のワイヤボンディング装置。
  6. 前記トランスデューサには、前記超音波発生源により超音波振動が印加された際に生じる振動の節の位置にヒータが取り付けられていることを特徴とする請求項3〜5のいずれか一項記載のワイヤボンディング装置。
  7. 超音波接合用ボンディングヘッドのトランスデューサに取り付けて用いられるキャピラリであって、
    前記トランスデューサにより加振された際に生じる振動の節の位置にヒータが取り付けられていることを特徴とするキャピラリ。
  8. 前記ヒータは、前記キャピラリに生じる複数の振動の節のうち、キャピラリのより先端側の節の位置に取り付けられていることを特徴とする請求項7記載のキャピラリ。
  9. 前記ヒータは、前記キャピラリに生じる節の位置から(2L/N)×0.032(Lはキャピラリの長さ、Nは0以外の整数)の範囲内に取り付けられていることを特徴とする請求項7または8記載のキャピラリ
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10847491B2 (en) 2009-02-06 2020-11-24 Kulicke And Soffa Industries, Inc. Ribbon bonding tools and methods of using the same
CN102308374B (zh) * 2009-02-06 2016-02-03 奥托戴尼电气公司 带式焊接工具及采用所述工具的方法
KR20120062813A (ko) * 2009-09-30 2012-06-14 토토 가부시키가이샤 본딩 캐피러리
JP2012039032A (ja) 2010-08-11 2012-02-23 Fujitsu Ltd ワイヤボンディング装置用キャピラリ及び超音波トランスデューサ
US9931709B2 (en) 2016-01-26 2018-04-03 Orthodyne Electronics Corporation Wedge bonding tools, wedge bonding systems, and related methods
US10879211B2 (en) * 2016-06-30 2020-12-29 R.S.M. Electron Power, Inc. Method of joining a surface-mount component to a substrate with solder that has been temporarily secured

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3641304A (en) * 1969-06-16 1972-02-08 Kulicke & Soffa Ind Inc Heated semiconductor bonding tool
US4315128A (en) * 1978-04-07 1982-02-09 Kulicke And Soffa Industries Inc. Electrically heated bonding tool for the manufacture of semiconductor devices
US4513190A (en) * 1983-01-03 1985-04-23 Small Precision Tools, Inc. Protection of semiconductor wire bonding capillary from spark erosion
JPS61134031A (ja) * 1984-12-05 1986-06-21 Nec Corp 半導体素子用熱圧着装置
JPS61198737A (ja) * 1985-02-28 1986-09-03 Toshiba Corp ワイヤボンデイング装置
JPS62210633A (ja) * 1986-03-12 1987-09-16 Hitachi Ltd ワイヤボンデイング装置
JPH02101754A (ja) * 1988-10-11 1990-04-13 Hitachi Ltd ボンディング方法及びボンディング装置
JPH0334341A (ja) * 1989-06-29 1991-02-14 Nec Corp ボンディング装置及びボンディング方法
US5142117A (en) * 1990-11-20 1992-08-25 Motorola, Inc. Proximity heater for an ultrasonic bonding tool
US5186378A (en) * 1991-09-30 1993-02-16 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus for transducer heating in low temperature bonding
US5240166A (en) * 1992-05-15 1993-08-31 International Business Machines Corporation Device for thermally enhanced ultrasonic bonding with localized heat pulses
JP2527399B2 (ja) * 1992-09-29 1996-08-21 完テクノソニックス株式会社 ワイヤ―・ボンダ―・システム
JPH06204301A (ja) * 1992-12-28 1994-07-22 Toshiba Corp 超音波ボンディング用ヘッド
JP3078231B2 (ja) * 1995-08-22 2000-08-21 株式会社アルテクス 超音波振動接合装置
JP3290632B2 (ja) * 1999-01-06 2002-06-10 株式会社アルテクス 超音波振動接合装置
JP2002151551A (ja) * 2000-11-10 2002-05-24 Hitachi Ltd フリップチップ実装構造、その実装構造を有する半導体装置及び実装方法
JP4772467B2 (ja) * 2005-11-16 2011-09-14 株式会社東芝 超音波接合装置、超音波接合装置の制御装置及び超音波接合方法

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