JPH02101754A - ボンディング方法及びボンディング装置 - Google Patents
ボンディング方法及びボンディング装置Info
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- JPH02101754A JPH02101754A JP63253763A JP25376388A JPH02101754A JP H02101754 A JPH02101754 A JP H02101754A JP 63253763 A JP63253763 A JP 63253763A JP 25376388 A JP25376388 A JP 25376388A JP H02101754 A JPH02101754 A JP H02101754A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 241000587161 Gomphocarpus Species 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
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- H01L2224/45099—Material
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
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- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
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- H01L2224/85009—Pre-treatment of the connector or the bonding area
- H01L2224/8503—Reshaping, e.g. forming the ball or the wedge of the wire connector
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- H01L2924/01073—Tantalum [Ta]
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- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01074—Tungsten [W]
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- H01L2924/203—Ultrasonic frequency ranges, i.e. KHz
- H01L2924/20301—Ultrasonic frequency [f] f<25 kHz
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- H01L2924/20—Parameters
- H01L2924/203—Ultrasonic frequency ranges, i.e. KHz
- H01L2924/20302—Ultrasonic frequency [f] 25 Khz=<f< 50 KHz
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、微小部品内の配線接触等を行なうボンディン
グ方法及びそれを行なうボンディング装置に係り、特に
ポールボンディングに好適なボンディング方法及びボン
ディング装置に関する。
グ方法及びそれを行なうボンディング装置に係り、特に
ポールボンディングに好適なボンディング方法及びボン
ディング装置に関する。
従来半導体の配線等に用いられているボンディング方法
は1例えば特開昭61−71642号に記載のネイルヘ
ッドボンディングといわれる方法のように、金属細線の
一端にポールを形成し、これをキャピラリーを用いて上
1部より押し付けて基板に接続し、さらに細線の他端も
同様にポールを形成して接続するものである。また特開
昭57−173951号にはウェッジボンディングとい
われる方法が記載されている。
は1例えば特開昭61−71642号に記載のネイルヘ
ッドボンディングといわれる方法のように、金属細線の
一端にポールを形成し、これをキャピラリーを用いて上
1部より押し付けて基板に接続し、さらに細線の他端も
同様にポールを形成して接続するものである。また特開
昭57−173951号にはウェッジボンディングとい
われる方法が記載されている。
上記従来技術は、ボンディング後のポールの形状につい
て配慮されておらず、特にポールの上部の形状に問題が
あった。すなわち、上記従来技術はボンディング後のポ
ールの垂直方向にワイヤーが配線されていたり、ボンデ
ィングした後のその上部の形状が傾斜する構造となって
いた。そのためボンディング後にボンディング部の接続
チエツク及び部品の機能チエツクを行なう時に上からプ
ローブピンを接触させる場合に非常に不都合な形状とな
っていた。また、ボンディング部にさらにポールボンデ
ィングを重ねて行なう場合も、上記の形状は信頼性の高
い接続を行なうには不都合な形状となっていた。
て配慮されておらず、特にポールの上部の形状に問題が
あった。すなわち、上記従来技術はボンディング後のポ
ールの垂直方向にワイヤーが配線されていたり、ボンデ
ィングした後のその上部の形状が傾斜する構造となって
いた。そのためボンディング後にボンディング部の接続
チエツク及び部品の機能チエツクを行なう時に上からプ
ローブピンを接触させる場合に非常に不都合な形状とな
っていた。また、ボンディング部にさらにポールボンデ
ィングを重ねて行なう場合も、上記の形状は信頼性の高
い接続を行なうには不都合な形状となっていた。
本発明の目的は、ボンディング部を好ましい形状とする
ためのボンディング方法及びボンディング装置を提供す
ることにある。
ためのボンディング方法及びボンディング装置を提供す
ることにある。
上記目的は、(1)先端がポール状のボンディングワイ
ヤーを所望の位置に圧接し、超音波を用いてボンディン
グするボンディング方法において、上記圧接は、平坦な
加熱チップを用いて上記ボンディングワイヤーを加圧し
ながら高周波通電加熱して行なうことを特徴とするボン
ディング方法、(2)先端がポール状のボンディングワ
イヤーを被ボンディング物に圧接するためのボンディン
グチップと、該ボンディングチップに超音波を与えるだ
めの超音波発振器と、該ボンディングチップを高周波加
熱するための加熱手段とを有することを特徴とするボン
ディング装置によって達成される。
ヤーを所望の位置に圧接し、超音波を用いてボンディン
グするボンディング方法において、上記圧接は、平坦な
加熱チップを用いて上記ボンディングワイヤーを加圧し
ながら高周波通電加熱して行なうことを特徴とするボン
ディング方法、(2)先端がポール状のボンディングワ
イヤーを被ボンディング物に圧接するためのボンディン
グチップと、該ボンディングチップに超音波を与えるだ
めの超音波発振器と、該ボンディングチップを高周波加
熱するための加熱手段とを有することを特徴とするボン
ディング装置によって達成される。
本発明のボンディング方法は、例えばワイヤーポールに
ほぼ垂直に加圧を加えるボンディングチップに超音波振
動を印加しつつ高周波通電加熱して行なう。高音波振動
の振動数は30〜90k Hzの範囲であることが好ま
しく、また振幅は数μmであることが好ましい。また高
周波通電の振動数は2゜OHz〜2kHzの範囲である
ことが好ましい。
ほぼ垂直に加圧を加えるボンディングチップに超音波振
動を印加しつつ高周波通電加熱して行なう。高音波振動
の振動数は30〜90k Hzの範囲であることが好ま
しく、また振幅は数μmであることが好ましい。また高
周波通電の振動数は2゜OHz〜2kHzの範囲である
ことが好ましい。
第6図は、本発明の方法により接着されたボンディング
部の一例の接着強度を他の方法のそれと比較して示すも
ので、超音波と高周波加熱を併用すると他の方法例えば
超音波と交流加熱の場合より接着強度が増加することを
示している。
部の一例の接着強度を他の方法のそれと比較して示すも
ので、超音波と高周波加熱を併用すると他の方法例えば
超音波と交流加熱の場合より接着強度が増加することを
示している。
超音波を発振しつつ、高周波を印加し、大電流通電を行
ない、チップ自体に通電振動を起こすと、超音波の振動
とは異なるうなり振動とうねりが発生し、高周波加熱チ
ップとワイヤーのポールとの界面の摩擦力が向上し、ボ
ンディング部の上面が平坦となり、さらにその分だけポ
ンディングパッドとポールの摩擦作用が大きく働き、接
続強度が高くなる。すなわち超音波振動と高周波加熱と
を併用することによって、超音波の振動数(回/秒)と
加熱高周波の振動数(回/秒)との差の振動数をもった
うなり振動が発生し、このうなり振動が上記摩擦力を生
せしめる。また振幅は超音波のみの共振点の振幅にチッ
プ自身の通電振動が加算された振幅のうねりによって、
仕事量が増加するためボンディング時の摩擦作用が大き
く働く。
ない、チップ自体に通電振動を起こすと、超音波の振動
とは異なるうなり振動とうねりが発生し、高周波加熱チ
ップとワイヤーのポールとの界面の摩擦力が向上し、ボ
ンディング部の上面が平坦となり、さらにその分だけポ
ンディングパッドとポールの摩擦作用が大きく働き、接
続強度が高くなる。すなわち超音波振動と高周波加熱と
を併用することによって、超音波の振動数(回/秒)と
加熱高周波の振動数(回/秒)との差の振動数をもった
うなり振動が発生し、このうなり振動が上記摩擦力を生
せしめる。また振幅は超音波のみの共振点の振幅にチッ
プ自身の通電振動が加算された振幅のうねりによって、
仕事量が増加するためボンディング時の摩擦作用が大き
く働く。
以下1本発明の一実施例を図面を用いて説明する。
第4図は、本発明のボンディング装置の一例の概略斜視
図である。先端が平坦なボンディングチップ1はチップ
ホルダー2に保持されている。超音波ホーン3は絶縁ブ
ロック13を介して上記チップホルダー2の胴部に押し
付けられる。これらを含むヘッド部分は、モータ駆動機
構12とポールネジ(図示せず)により垂直方向に下降
し得る構成となっている。上記ボンディングチップ1は
タングステン板をU字形に加工し、先端に平坦加工を施
したものであり、高周波定電力電源9から高周波トラン
ス8を介してチップ両端に高周波電圧が印加され、通電
される。また高音波発振の強度。
図である。先端が平坦なボンディングチップ1はチップ
ホルダー2に保持されている。超音波ホーン3は絶縁ブ
ロック13を介して上記チップホルダー2の胴部に押し
付けられる。これらを含むヘッド部分は、モータ駆動機
構12とポールネジ(図示せず)により垂直方向に下降
し得る構成となっている。上記ボンディングチップ1は
タングステン板をU字形に加工し、先端に平坦加工を施
したものであり、高周波定電力電源9から高周波トラン
ス8を介してチップ両端に高周波電圧が印加され、通電
される。また高音波発振の強度。
時間は超音波発振器7によりコントロールされる。
なお、10は、モータ駆動機構12をコントロールする
コントローラ、6は基板、5はポンディングパッド、4
は線材(ポール付)である。また、これらの高周波定電
力電源9、コントローラ10、超音波発振器7等は制御
手段(マイクロコンピュータ)11により制御される。
コントローラ、6は基板、5はポンディングパッド、4
は線材(ポール付)である。また、これらの高周波定電
力電源9、コントローラ10、超音波発振器7等は制御
手段(マイクロコンピュータ)11により制御される。
つぎにこの装置によりボンディングを行なった例を示す
、第1図に示すように先端にポール41を形成した線材
42をポンディングパッド5の上に、線材42が基板に
ほぼ平行になるように配置する。
、第1図に示すように先端にポール41を形成した線材
42をポンディングパッド5の上に、線材42が基板に
ほぼ平行になるように配置する。
この上部からボンディングチップで加圧し、超音波を印
加し、さらに高周波通電加熱し、第2図に示すようにボ
ンディング部41′の上面の形状が平坦になるようにボ
ンディングする。このような形状にボンディングすれば
、第3図に示すようにボンディング部41′の上にさら
に重ねてボンディングすることもでき、接続後の導通チ
エツクを行なう場合、上層のボンディング部41′の上
面の平坦部をプローブすることもできる。
加し、さらに高周波通電加熱し、第2図に示すようにボ
ンディング部41′の上面の形状が平坦になるようにボ
ンディングする。このような形状にボンディングすれば
、第3図に示すようにボンディング部41′の上にさら
に重ねてボンディングすることもでき、接続後の導通チ
エツクを行なう場合、上層のボンディング部41′の上
面の平坦部をプローブすることもできる。
以上のボンディングは、第5図のタイムシーケンスに従
って制御手段1工にて制御し、超音波印加は加圧が充分
完了した時点で発振し、高周波通電も発振後数秒後に瞬
間的に通電加熱する方式を採用し、線材及び下地のメタ
ライズ構成に熱影響を与えないようにした。なお、第5
図のタイムシーケンス以外の方法でも行なうことができ
る。
って制御手段1工にて制御し、超音波印加は加圧が充分
完了した時点で発振し、高周波通電も発振後数秒後に瞬
間的に通電加熱する方式を採用し、線材及び下地のメタ
ライズ構成に熱影響を与えないようにした。なお、第5
図のタイムシーケンス以外の方法でも行なうことができ
る。
また、上記実施例では超音波の振動数を60k Hz、
高周波加熱の周波数を400 Hzとして行なったが。
高周波加熱の周波数を400 Hzとして行なったが。
超音波の振動数を30〜90k Hz、高周波加熱の周
波数を200Hz〜2kHzの範囲で同様に実施したが
、いずれも同様の効果があった。
波数を200Hz〜2kHzの範囲で同様に実施したが
、いずれも同様の効果があった。
本発明によれば従来のボンディング方法では得られなか
った平坦でかつ強度の高いボンディングを行なうことが
できる。特に強度に関しては第6図に示す様に超音波と
高周波加熱ボンディングとを採用すると他の方法に較べ
て非常に強度の高いボンディング接続が得られることが
特徴であり、信頼性の高い接続が得られる。また従来行
なっていたボンディングとは異なった平坦ボンディング
が出来るため、接続・配線後のチエツクのためのブロー
ビングが可能となる。さらにはポールボンディングの重
ね接続が可能となるため、微小スペースが高密度に配線
実装することが可能となる6
った平坦でかつ強度の高いボンディングを行なうことが
できる。特に強度に関しては第6図に示す様に超音波と
高周波加熱ボンディングとを採用すると他の方法に較べ
て非常に強度の高いボンディング接続が得られることが
特徴であり、信頼性の高い接続が得られる。また従来行
なっていたボンディングとは異なった平坦ボンディング
が出来るため、接続・配線後のチエツクのためのブロー
ビングが可能となる。さらにはポールボンディングの重
ね接続が可能となるため、微小スペースが高密度に配線
実装することが可能となる6
第1図、第2図及び第3図は、本発明を説明するための
線材と被ボンディング物との関係を示す説明図、第4図
は本発明のボンディング装置の一例の概略斜視図、第5
図はボンディング時のタイムシーケンスの一例を示す図
、第6図は1本発明を説明するためのボンディング部の
強度を示す図である。 1・・・ボンディングチップ 2・・・チップホルダー 4・・・線材(ポール付) 6・・・基板 8・・・高周波トランス 10・・・コントローラ 12・・・モータ駆動機構 41・・・ポール 41’ 、 41’ 42・・・線材 ・・・ボンディング部
線材と被ボンディング物との関係を示す説明図、第4図
は本発明のボンディング装置の一例の概略斜視図、第5
図はボンディング時のタイムシーケンスの一例を示す図
、第6図は1本発明を説明するためのボンディング部の
強度を示す図である。 1・・・ボンディングチップ 2・・・チップホルダー 4・・・線材(ポール付) 6・・・基板 8・・・高周波トランス 10・・・コントローラ 12・・・モータ駆動機構 41・・・ポール 41’ 、 41’ 42・・・線材 ・・・ボンディング部
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、先端がポール状のボンディングワイヤーを所望の位
置に圧接し、超音波を用いてボンディングするボンディ
ング方法において、上記圧接は、平坦な加熱チップを用
いて上記ボンディングワイヤーを加圧しながら高周波通
電加熱して行なうことを特徴とするボンディング方法。 2、先端がポール状のボンディングワイヤーを被ボンデ
ィング物に圧接するためのボンディングチップと、該ボ
ンディングチップに超音波を与えるための超音波発振器
と、該ボンディングチップを高周波加熱するための加熱
手段とを有することを特徴とするボンディング装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63253763A JPH02101754A (ja) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | ボンディング方法及びボンディング装置 |
KR1019890013732A KR920008255B1 (ko) | 1988-10-11 | 1989-09-25 | 본딩방법 및 본딩장치 |
US07/413,822 US5002217A (en) | 1988-10-11 | 1989-09-28 | Bonding method and bonding apparatus |
DE19893933982 DE3933982C2 (de) | 1988-10-11 | 1989-10-11 | Kontaktierungsverfahren und Kontaktierungsvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63253763A JPH02101754A (ja) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | ボンディング方法及びボンディング装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02101754A true JPH02101754A (ja) | 1990-04-13 |
Family
ID=17255802
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63253763A Pending JPH02101754A (ja) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | ボンディング方法及びボンディング装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5002217A (ja) |
JP (1) | JPH02101754A (ja) |
KR (1) | KR920008255B1 (ja) |
DE (1) | DE3933982C2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH0637154A (ja) * | 1992-05-15 | 1994-02-10 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | ボンディング方法及び装置 |
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- 1988-10-11 JP JP63253763A patent/JPH02101754A/ja active Pending
-
1989
- 1989-09-25 KR KR1019890013732A patent/KR920008255B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1989-09-28 US US07/413,822 patent/US5002217A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-11 DE DE19893933982 patent/DE3933982C2/de not_active Expired - Fee Related
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KR900007091A (ko) | 1990-05-09 |
DE3933982C2 (de) | 1994-05-11 |
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KR920008255B1 (ko) | 1992-09-25 |
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