JP4934643B2 - コートされたフィルムが付着される部分を有するリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成されたサポートであって、このパターニングデバイスは、パターニングされた放射ビームを形成するために放射ビームに対してその断面内にパターンを付与することができるサポートと、
基板を保持するように構成された基板サポートと、
パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分の上に投影するように構成された投影システムと、
装置の少なくとも一部分の上の、コーティングを付けた取り外しできる粘着性フィルムと
を備えたリソグラフィ装置が提供される。
放射ビームに対してその断面内にパターンを付与するステップと、
コーティングを付けた取り外しできる粘着性フィルムがその装置の少なくとも一部分の上に存在するリソグラフィ装置を使用して、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分の上に投影するステップと、
投影された基板を現像するステップと、
現像された基板からデバイスを製造するステップと
を含むデバイス製造方法が提供される。
Claims (13)
- リソグラフィ装置であって、
放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成されたサポートであって、前記パターニングデバイスが、パターニングされた放射ビームを形成するために前記放射ビームに対してその断面内にパターンを付与することができるサポートと、
基板を保持するように構成された基板サポートと、
前記パターニングされた放射ビームを前記基板のターゲット部分の上に投影するように構成された投影システムと、
(i)前記照明システム、または(ii)前記パターニングデバイスサポート、または(iii)前記基板サポート、または(iv)前記投影システム、または(v)(i)〜(iv)から選択された任意の組合せ、の少なくとも一部分の上であって、紫外放射から保護する能力があるコーティング及び/又は疎水性コーティングを付けた取り外しできる粘着性フィルムと、
を備えたリソグラフィ装置。 - 前記投影システムと前記基板サポートとの間の空間の境界の少なくとも一部分に沿って延在する液体閉じ込め構造体を有する液体供給システムをさらに備え、
前記コーティングを付けた前記フィルムは、前記液体閉じ込め構造体の少なくとも一部分の上に存在する、
請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記コーティングを付けた前記フィルムは、前記基板サポートの上面の少なくとも一部分の上に存在する、
請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記コーティングを付けた前記フィルムは、前記上面の中に配置される1つまたは複数のデバイスのための前記基板サポートの中の1つまたは複数の開口部を除く前記基板サポートの前記上面を覆う、
請求項3に記載のリソグラフィ装置。 - 前記上面の中に配置される前記1つまたは複数のデバイスは、(i)測定デバイス、または(ii)シールデバイス、または(iii)アクチェエータ、または(iv)(i)〜(iii)から選択された任意の組合せ、を備える、
請求項4に記載のリソグラフィ装置。 - 前記コーティングを付けた前記フィルムは、前記基板サポートの中の前記1つまたは複数の開口部に対応する1つまたは複数の開口部を備える、
請求項4に記載のリソグラフィ装置。 - それぞれがコーティングを付け積み重ねて配置された複数の粘着性フィルムを備える、
請求項1から6いずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記フィルムは金属箔を備える、
請求項1から7いずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記コーティングを付けた前記フィルムは、そのフィルムが付着される前記装置の前記部分と概ね同一の熱膨張特性を有する、
請求項1から8いずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記疎水性コーティングは重合ヘキサメチルジシロキサンを含む、
請求項1から9いずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記コーティングはシリコーンを含む、
請求項1から10いずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記コーティングは酸化チタンを含む、
請求項1から11いずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 放射ビームに対してその断面内にパターンを付与するステップと、
紫外放射から保護する能力があるコーティング及び/又は疎水性コーティングを付けた取り外しできる粘着性フィルムが、(i)放射ビームを調整するように構成された照明システム、または(ii)パターニングデバイスを支持するように構成されたサポートであって、前記パターニングデバイスが、パターニングされた放射ビームを形成するために前記放射ビームに対してその断面内にパターンを付与することができるパターニングデバイスサポート、または(iii)基板を保持するように構成された基板サポート、または(iv)前記パターニングされた放射ビームを前記基板のターゲット部分の上に投影するように構成された投影システム、または(v)(i)〜(iv)から選択された任意の組合せ、の少なくとも一部分の上に存在するリソグラフィ装置を使用して、前記パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分の上に投影するステップと、
前記投影された基板を現像するステップと、
前記現像された基板からデバイスを製造するステップと、
を含むデバイス製造方法。
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