JP5216835B2 - リソグラフィ装置、ギャップ封止部材キット及びギャップ封止方法 - Google Patents
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Description
塑性材料又はポリマー製の封止部と、
封止部を液浸リソグラフィ装置の表面に取り付ける接着剤と、
を含み、
塑性材料又はポリマー製の封止部の剛性は、接着剤の剛性の100%を超えない封止部材キットが提供される。
− 放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
1.ステップモードにおいては、支持構造MT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームBに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.スキャンモードにおいては、支持構造MT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームBに与えられるパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一動的露光)。支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分Cの(非スキャン方向における)幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分Cの(スキャン方向における)高さが決まる。
3.別のモードでは、支持構造MTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームBに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
[00174](特徴1)液浸リソグラフィ装置の少なくとも2つの表面の間に形成されたギャップを液浸液の侵入から封止する封止部材キットであって、前記封止部材キットが、封止部材を形成するのに供され、前記封止部材キットが、塑性材料又はポリマー製の封止部と、前記封止部を液浸リソグラフィ装置の表面に取り付ける接着剤とを含み、前記塑性材料又はポリマー製の封止部の剛性が、前記接着剤の剛性の100%を超えない封止部材キット。
[00175](特徴2)前記塑性材料又はポリマー製の封止部のヤング率が、前記接着剤のヤング率の5×105倍以下である、特徴1に記載の封止部材キット。
[00176](特徴3)前記接着剤の粘性減衰係数が、2×106Ns/m以下である、特徴1又は特徴2に記載の封止部材キット。
[00177](特徴4)前記接着剤のヤング率が、2MPa以上である、前記特徴のいずれかに記載の封止部材キット。
[00178](特徴5)液浸リソグラフィ装置の少なくとも2つの表面の間に形成されたギャップを液浸液の侵入から封止する封止部材キットであって、前記封止部材キットが、塑性材料又はポリマー製の封止部と、前記封止部を液浸リソグラフィ装置の表面に取り付ける接着剤とを含み、前記接着剤のヤング率が、2MPa以上である封止部材キット。
[00179](特徴6)前記接着剤の粘性減衰係数が、2×106Ns/m以下である、特徴5に記載の封止部材キット。
[00180](特徴7)液浸リソグラフィ装置の2つの表面の間に形成されたギャップを液浸液の侵入から封止する封止部材キットであって、前記封止部材キットが、塑性材料又はポリマー製の封止部と、前記封止部を液浸リソグラフィ装置の表面に取り付ける接着剤とを含み、前記接着剤の減衰定数が2×106Ns/m以下である封止部材キット。
[00181](特徴8)前記接着剤のヤング率が、2MPa以上である、特徴7に記載の封止部材キット。
[00182](特徴9)前記塑性材料又はポリマー製の封止部の剛性が、前記接着層の剛性の100%を超えない、特徴5から8のいずれかに記載の封止部材キット。
[00183](特徴10)前記塑性材料又はポリマー製の封止部のヤング率が、前記接着層のヤング率の5×105倍以下である、特徴5から9のいずれかに記載の封止部材キット。
[00184](特徴11)前記塑性材料又はポリマー製の封止部のヤング率が、5GPa以下である、前記特徴のいずれかに記載の封止部材キット。
[00185](特徴12)前記塑性材料又はポリマー製の封止部が、ポリイミド、PET、PTFE、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリールエーテルエーテルケトン、又はポリシロキサンを含む、前記特徴のいずれかに記載の封止部材キット。
[00186](特徴13)前記接着剤層が、シリコン接着剤又はアクリル接着剤を含む、前記特徴のいずれかに記載の封止部材キット。
[00187](特徴14)前記塑性材料又はポリマー製の封止部が、DUV放射に対して不透過である、前記特徴のいずれかに記載の封止部材キット。
[00188](特徴15)前記塑性材料又はポリマー製の封止部の上面が、疎液性である、前記特徴のいずれかに記載の封止部材キット。
[00189](特徴16)前記塑性材料又はポリマー製の封止部が、第1の表面と第2の表面とを有し、前記接着剤が付着する塑性材料又はポリマーの層と、前記塑性材料又はポリマーの層に隣接し、前記塑性材料又はポリマーの層と前記封止部の前記第1の表面との間にある不透過層とを含み、前記不透過層が、DUV放射に対して不透過である、前記特徴のいずれかに記載の封止部材キット。
[00190](特徴17)前記不透過層に隣接する疎液層をさらに含み、前記疎液層が、前記封止部の前記第1の表面を形成する、特徴16に記載の封止部材キット。
[00191](特徴18)前記塑性材料又はポリマー製の封止部が、第1の表面と第2の表面とを有し、前記接着剤が付着する不透過層であって、DUV放射に対して不透過である不透過層と、前記不透過層に隣接する塑性材料又はポリマーの疎液層とを含み、前記塑性材料又はポリマーの疎液層が、前記封止部の前記第1の表面を形成する、特徴1から15のいずれかに記載の封止部材キット。
[00192](特徴19)前記塑性材料又はポリマー製の封止部が、第1の表面と第2の表面とを有し、前記接着剤が付着する塑性材料又はポリマーの疎液層を含み、前記塑性材料又はポリマーの疎液層が、DUV放射に対して不透過である、特徴1から15のいずれかに記載の封止部材キット。
[00193](特徴20)前記封止部が、液体不透過性である、前記特徴のいずれかに記載の封止部材キット。
[00194](特徴21)液浸リソグラフィ装置の基板テーブルと前記基板テーブル上に配置されたセンサとの間の前記ギャップを封止するように構成された、前記特徴のいずれかに記載の封止部材キット。
[00195](特徴22)液浸リソグラフィ装置の基板テーブルと基板を支持するように構成された前記液浸リソグラフィ装置の基板支持体との間に形成された前記ギャップを封止するように構成される、前記特徴のいずれかに記載の封止部材キット。
[00196](特徴23)前記塑性材料又はポリマー製の封止部が、液浸リソグラフィ装置内の損傷した表面を修理するパッチの形態である、前記特徴のいずれかに記載の封止部材キット。
[00197](特徴24)前記パッチが、基板テーブルの損傷した表面を修理するのに使用されるように配置される、特徴23に記載の封止部材キット。
[00198](特徴25)前記特徴のいずれかに記載の前記封止部材キットの前記封止部と接着剤とを含む封止部材。
[00199](特徴26)前記接着剤が、層の形態である、特徴25に記載の封止部材。
[00200](特徴27)前記封止部材が、使い捨てである、特徴25又は特徴26に記載の封止部材。
[00201](特徴28)特徴25から27のいずれかに記載の封止部材を含む液浸リソグラフィ装置。
[00202](特徴29)基板を保持するように構築された基板テーブルと、前記基板テーブル上に配置されたセンサとを備え、前記封止部材が、使用時に前記センサと前記基板テーブルとの間に配置され、一端が前記センサに付着し、他端が前記基板テーブルに付着する、特徴28に記載の液浸リソグラフィ装置。
[00203](特徴30)液浸リソグラフィ装置の第1の表面と第2の表面との間のギャップを封止する方法であって、特徴25から27のいずれかに記載の封止部材を前記第1の表面及び前記第2の表面に付着させ、それにより前記液浸リソグラフィ装置の前記第1及び第2の表面の間の前記ギャップをブリッジするステップを含む方法。
[00204](特徴31)前記封止部材が、前記ギャップ、前記第1の表面の少なくとも一部及び前記第2の表面の少なくとも一部を覆い、前記封止部材が、前記第1の表面の前記少なくとも一部と重なる第1の重なり部分と、前記第2の表面の前記少なくとも一部と重なる第2の重なり部分とを有し、前記封止部材の前記第1の表面及び前記第2の表面への前記付着ステップが、前記第1の重なり部分と前記第2の重なり部分とを前記第1の表面と前記第2の表面の各々の少なくとも一部にそれぞれ付着させるステップを含む、特徴30に記載の方法。
Claims (15)
- 液浸リソグラフィ装置の少なくとも2つの表面の間に形成されたギャップを液浸液の侵入から封止する封止部材キットであって、
塑性材料又はポリマー製の封止部と、
前記封止部を液浸リソグラフィ装置の表面に取り付ける接着剤と、
を備え、
前記塑性材料又はポリマー製の封止部が、
DUV放射に対して不透過である、前記接着剤が付着する不透過層と、
前記不透過層に隣接する塑性材料又はポリマーの疎液層と、
を含む、封止部材キット。 - 液浸リソグラフィ装置の少なくとも2つの表面の間に形成されたギャップを液浸液の侵入から封止する封止部材キットであって、
塑性材料又はポリマー製の封止部と、
前記封止部を液浸リソグラフィ装置の表面に取り付ける接着剤と、
を備え、
前記塑性材料又はポリマー製の封止部が、DUV放射に対して不透過である、前記接着剤が付着する塑性材料又はポリマーの疎液層を含む、封止部材キット。 - 前記塑性材料又はポリマー製の封止部の剛性が、前記接着剤の剛性の100%を超えない、請求項1又は2に記載の封止部材キット。
- 前記塑性材料又はポリマー製の封止部のヤング率が、前記接着剤のヤング率の5×105倍以下である、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の封止部材キット。
- 前記接着剤の粘性減衰係数が、2×106Ns/m以下である、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の封止部材キット。
- 前記接着剤のヤング率が、2MPa以上である、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の封止部材キット。
- 前記塑性材料又はポリマー製の封止部のヤング率が、5GPa以下である、請求項1乃至6のいずれか一項に記載の封止部材キット。
- 前記塑性材料又はポリマー製の封止部が、ポリイミド、PET、PTFE、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリールエーテルエーテルケトン、又はポリシロキサンを含む、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の封止部材キット。
- 前記接着剤が、シリコン接着剤又はアクリル接着剤を含む、請求項1乃至8のいずれかに記載の封止部材キット。
- 液浸リソグラフィ装置の基板テーブルと該基板テーブル上に配置されたセンサとの間のギャップを封止する、請求項1乃至9のいずれか一項に記載の封止部材キット。
- 液浸リソグラフィ装置の基板テーブルと基板を支持する該液浸リソグラフィ装置の基板支持体との間に形成されたギャップを封止する、請求項1乃至10のいずれか一項に記載の封止部材キット。
- 前記塑性材料又はポリマー製の封止部が、液浸リソグラフィ装置内の損傷した表面を修理するパッチの形態である、請求項1乃至11のいずれか一項に記載の封止部材キット。
- 請求項1乃至12のいずれか一項に記載の前記封止部材キットの前記封止部と接着剤とを含む封止部材。
- 請求項13に記載の封止部材を含む液浸リソグラフィ装置。
- 液浸リソグラフィ装置の第1の表面と第2の表面との間のギャップを封止する方法であって、請求項13に記載の封止部材を前記第1の表面及び前記第2の表面に付着させ、それにより前記液浸リソグラフィ装置の前記第1及び第2の表面の間の前記ギャップをブリッジするステップを含む方法。
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