JP4932857B2 - 誘導コイル、プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 - Google Patents
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Description
また他にも、平面状の渦巻き型の誘導コイルをチャンバ上方に備える態様のプラズマ発生装置が知られている(特許文献1参照)。
また図6は、従来用いられてきたプラズマ発生装置の一例を縦断面図により示している。同図では、内部にてプラズマを発生させる円筒形のチャンバ1と、チャンバ1の外周において螺旋状に巻かれた誘導コイル2とを示している。ただし、誘導コイル2についてはその断面位置のみを示し図示を簡略化している。また、チャンバ1の下方にはプラズマ処理用の空間3および空間3内に置かれた基板支持台4を示している。基板支持台4は、プラズマプロセスの対象となる基板5を支持している。同図において、誘導コイル2の両端のうち一端2aを高周波電源6に接続し、他端2bをアースに接続した場合には、これら両端間には電位差が生じ、かつ両端の位置関係に起因して、プラズマ発生用空間としてのチャンバ1内部にある容量性電流が発生する。同図では、チャンバ1内にて生じる全体的な容量性電流(誘導コイル2の各位置から発せられる容量性電流が合わさったもの)をDとして模式的に表している。
上記のようにして生じる容量性電流は、チャンバ内における電界に不均一性を与え、その結果、チャンバ内にて生成されるプラズマに不均一性(non-uniformity)を与えることとなっていた。
つまり、当該誘導コイルは、両側の端子の位置・高さも含めた全体の形状が上記基準面の両側において対称となっている。
上記基準面は、上記2つの端子から等距離の点を含み、かつ上記誘導コイルの縦軸に平行な面であると定義することも可能である。
このような誘導コイルの具体的形状は種々考えられるが、一例として、上記誘導コイルは、少なくとも1箇所以上の上記縦軸方向に交差される交差部分を有して、当該縦軸と垂直な面上で環状に形成される巻き線部分と、当該巻き線部分の接近する両端部から当該縦軸方向にそれぞれ延伸された線部分であって、延伸端部に上記端子がそれぞれ連結される端子連結線部分とからなる構成としてもよい。
すなわち、上記コイルと上記基準面との交差部にて、上記巻線部位は少なくとも一つの交差を有する。また、その場合、上記巻線部位は、N巻き捲回され、上記交差は(N−1)の数に等しくなる。
上記のように形状に特徴を有する誘導コイルを搭載したプラズマ発生装置というものも、当然に考えることができる。
そこで、上記誘導コイルと、上記誘導コイルが所定位置に配置される処理容器(プロセスチャンバ)とを備え、上記誘導コイルに高周波電力が供給されて上記処理容器内にプラズマを発生させる構成としても良い。
この場合においても、上記基準面は上記二つの端子間とコイルの長手方向の軸芯とを通過する面である。また、言い換えれば、上記基準面は、上記2つの端子から等距離の点を含み、かつ上記誘導コイルの縦軸に平行な面とすることができる。
つまり、誘導コイルを使用して所定の空間中にプラズマを発生させるプラズマ発生方法であって、上記所定の空間にプラズマ発生用のガスを供給し、上記誘導コイルに高周波電力を供給することにより上記所定の空間にプラズマを発生させる方法発明を把握することも可能である。
また、仮想円柱表面を捲回するように形成される誘導コイルを用いた誘導型のプラズマ発生方法であって、上記誘導コイルは、それぞれ巻き初めと巻き終わりとなる第一端子と第二端子と、これらの第一端子と第二端子とを接続してコイル部分を形成する電線とからなり、第一端子側から捲回される電線と、第二端子側から捲回される電線は、上記仮想円柱表面に沿って対称な位置となるように捲回され、互いに半周した位置で絶縁状態で交差し、再度、上記仮想円柱表面に沿って対称な位置となるように捲回され、これを繰り返した後に接続するように形成されている、としてもよい。
かかる構成を採用した状態で、第一端子には高周波電源を接続して高周波電力を供給するとともに、第二端子には可変コンデンサを接続し、同可変コンデンサの働きによって誘導コイルの両端を同電位としつつ、上記電線の中間点の電位が略0となるようにすることにより、容量性電流によるプラズマの電位を対称とさせつつ、当該誘導コイルに供給した電力により、同誘導コイルの内側に磁場を生成させ、同磁場の作用によりプラズマを生成させる。
10a,20a…電線
11a,21a…第一端子
11b,21b…第二端子
30…プラズマ発生装置
31…上壁
32…上面
32a…環状溝
32b…ガス供給孔
33…下面
33a…環状溝(プラズマ発生用空間)
37…電源
38…可変コンデンサ
(1)誘導コイルの形状
(2)プラズマ発生装置の例
(3)実例
図1は、本実施形態にかかる誘導コイルの形状例であって、二巻タイプの誘導コイル10を示している。
同図に示すように、誘導コイル10は、電線10aの両端に第一端子11aおよび第二端子11bを設けている。誘導コイル10は、第一端子11aおよび第二端子11bから等距離の中間点M1および交差点C1を含む面であって軸Z(縦軸)に平行な面で左右対称な形状である。上記面が本発明の基準面に相当する。
図2では、誘導コイル10の上面図を示している。誘導コイル10の巻き線部分は円環状であり、軸Zは誘導コイル10の円環の中心位置、つまり円環状に形成された電線10a上の各位置から等距離の位置を通過する。図2においては、電線10a上の各位置から軸Zまでの距離S1,S2,S3,S4が全て等しいことを示している。軸Zは図2の紙面に垂直な方向を向いている。本実施形態では、第一端子11aと第二端子11bは、一方を電源から高周波電力の供給を受けるための端子とし、他方を可変コンデンサ(variable capacitor)と接続するための端子としている。第一端子11aと第二端子11bは互いに接近し、かつ同じ高さに設けられている。第一端子11aから延伸する電線10aと第二端子11bから延伸する電線10aは、それぞれ略平行な状態で誘導コイル10の軸Z方向に同じ距離進んだ位置(P1,P2)で、軸Zに対して垂直な方向かつ互いに反対方向を向き、そこから高さを変えずに、軸Zと垂直な面上に環状のカーブを描きながら延伸する。このとき、共通の環を反対方向に向かって描く。なお特に断らない限り、本実施形態において高さの変化と言った場合には、軸Z方向における変化を言うものとする。
基準面の定義に関しては、これに限定されるものではなく、例えば、上記二つの端子間とコイルの長手方向の軸芯とを通過する面を基準面とし、この基準面に対して上記誘導コイル10が対称な形状であるともいえる。
この場合、上記誘導コイル10は、巻線部位としての電線10aと上記基準面との交差部にて、交差点(C1)を有するといえる。
また、上記巻線部位としての電線10aが、N巻き捲回されれば、上記交差は(N−1)の数に等しくなる。
このような、略全ての部位が上記基準面を挟んで左右対称の形状をしたコイルの例は、図1に示した形状に限られない。
すなわち誘導コイル20も、第一端子21aおよび第二端子21bから等距離の中間点M2および交差点C1、C2を含む軸Zに平行な面(基準面)で左右対称の形状となっている。なお、誘導コイル20の軸Zも誘導コイル10の軸Zと同様に、環状に形成された電線20a上の各位置から等距離の位置を通過する。誘導コイル20は、誘導コイル10と同様に電線20aの両端に第一端子21aおよび第二端子21bを設けている。第一端子21aと第二端子21bは、一方が電源から高周波電力の供給を受けるための端子であり、他方が可変コンデンサと接続するための端子である。誘導コイル20の電線20aは、上記誘導コイル10の中間点M1に相当する箇所においては、繋がることなくさらに高さを下げながら交差し(図の交差点C2を参照)、当該交差の後は、第一端子21aから延伸する電線20aと第二端子21bから延伸する電線20aは高さを変えずに環状のカーブを描きながら延伸し、次に基準面と出会う箇所(交差点C1の下方位置)で繋がる。この繋がる箇所が誘導コイル20の中間点M2となる。
また、別の表現で説明するとすれば、上記誘導コイル10(20)は、それぞれ巻き初めと巻き終わりとなる第一端子11a(21a)と第二端子11b(21b)と、これらの第一端子11a(21a)と第二端子11b(21b)とを接続してコイル部分を形成する電線10a(20a)とからなり、
第一端子11a(21a)側から捲回される電線10(20)と、第二端子11b(21b)側から捲回される電線は、上記(仮想)円柱表面に沿って対称な位置となるように捲回され、互いに半周した位置で絶縁状態で交差(交差点C1,C2)し、再度、上記(仮想)円柱表面に沿って対称な位置となるように捲回され、これを繰り返した後に接続するように形成されているといえる。
なお、誘導コイル10,20の素材としては、銅を始めとして加工に適した各種金属部材が考えられる。また誘導コイル10,20は、その断面が電線によって埋められていてもよいし、全長に渡って内部に中空を形成するものであってもよい。
次に、誘導コイル10を用いたプラズマ発生装置について説明する。
図4は、プラズマ発生装置30の主要部を一部縦断面図により示している。
プラズマ発生装置30は、処理容器である真空チャンバの上壁31を備える。上壁31は、例えば、シリコン、セラミック、サファイア、クオーツ、その他の誘電体によって形成された周囲が略円筒形の平板状部材である。上壁31の上面32には、少なくとも一つ以上(同図においては三つ)の環状溝32aが同心円状に形成されている。また、上壁31の下面33には、上面32の各環状溝32aよりも平板上部材の中心側の各位置に環状溝33aが環状溝32aと同心円状に形成されている。つまり上壁31においては、円盤の外側から中心に向かって、環状溝32aと環状溝33aとが交互に形成されている。下面33に形成した各環状溝33aはプラズマ発生用空間に該当する。
各環状溝33aの底に対応する上面32の各位置には、上面32から環状溝33aまでを貫通するガス供給孔32bが複数形成されている。つまり、図示しないガス供給系をガス供給孔32bに接続することにより、ガス供給孔32bを介して各環状溝33a(プラズマ発生用空間)にプラズマ発生用のガスを供給する仕組みとなっている。
すなわち、真空チャンバの上壁に収容されて、その両端の電位が調整される誘導コイルとして、上述したような対称形状の誘導コイル10または誘導コイル20を用いることにより、極めて均一性の高いプラズマを発生させることができる。
図5(a)は、プラズマ発生装置30によって発生させたプラズマを作業媒体として実施したプラズマプロセスの結果の一例をグラフにより示している。
同グラフにおいては、プラズマ発生装置30によって発生させたプラズマによるスパッタリング量の変化率を縦軸に示している。一方、同グラフの横軸には、基板W上における位置を示している。
具体的には、図5(b)に示すように、基板W上に上壁31と同軸の円Cを想定し、この円上のある位置を基準位置P0(0度)とし、基準位置P0から円C上を一定方向に回ったときの角度Φ(0〜360度)によって基板W上の各位置を定義している。
Claims (5)
- 所定の空間中にプラズマを発生させるプラズマ発生装置に用いられる誘導コイルであって、
上記誘導コイルは、
両端に第一端子と第二端子とを有する一続きの一本の電線からなり、
第一端子と第二端子とは同じ高さに設けられ、
第一端子と第二端子との各々から延伸する当該電線は、当該誘導コイルの軸と平行に所定長さ延伸し、当該所定長さ延伸した各位置から円周方向において互いに逆向きに当該軸に垂直な面に環状のカーブを形成し、それぞれ環を略半周し、それぞれ当該軸方向における位置を同じだけ変化させながら、電線上における第一端子と第二端子との中間点および当該軸を含む基準面を通過する箇所において交差し、交差後に再び当該軸に垂直な面に環状のカーブをそれぞれ形成し、
基準面を通過する箇所における電線の交差部を一つ以上有する、形状であることを特徴とする誘導コイル。 - 誘導コイルであって、
両端に第一端子と第二端子とを有する一続きの一本の電線からなり、
第一端子と第二端子とは同じ高さに設けられ、
第一端子と第二端子との各々から延伸する当該電線は、当該誘導コイルの軸と平行に所定長さ延伸し、当該所定長さ延伸した各位置から円周方向において互いに逆向きに当該軸に垂直な面に環状のカーブを形成し、それぞれ環を略半周し、それぞれ当該軸方向における位置を同じだけ変化させながら、電線上における第一端子と第二端子との中間点および当該軸を含む基準面を通過する箇所において交差し、交差後に再び当該軸に垂直な面に環状のカーブをそれぞれ形成し、
基準面を通過する箇所における電線の交差部を一つ以上有する、形状である誘導コイルと、
上記誘導コイルが所定位置に配置される処理容器と、を備え、
上記誘導コイルに電力が供給されて上記処理容器内にプラズマを発生させることを特徴とするプラズマ発生装置。 - 上記処理容器は、一方の面に少なくとも一つのプラズマ発生用空間としての環状溝が形成され、他方の面に少なくとも一つの環状溝が上記一方の面に形成された環状溝と同心状に形成された壁部材を備え、
上記他方の面に形成された環状溝に上記誘導コイルを収容することを特徴とする請求項2に記載のプラズマ発生装置。 - 誘導コイルを使用して所定の空間中にプラズマを発生させるプラズマ発生方法であって、
上記誘導コイルは、
両端に第一端子と第二端子とを有する一続きの一本の電線からなり、
第一端子と第二端子とは同じ高さに設けられ、
第一端子と第二端子との各々から延伸する当該電線は、当該誘導コイルの軸と平行に所定長さ延伸し、当該所定長さ延伸した各位置から互いに円周方向において逆向きに当該軸に垂直な面に環状のカーブを形成し、それぞれ環を略半周し、それぞれ当該軸方向における位置を同じだけ変化させながら、電線上における第一端子と第二端子との中間点および当該軸を含む基準面を通過する箇所において交差し、交差後に再び当該軸に垂直な面に環状のカーブをそれぞれ形成し、
基準面を通過する箇所における電線の交差部を一つ以上有する、形状であり、
上記所定の空間にプラズマ発生用のガスを供給し、上記誘導コイルに電力を供給することにより上記所定の空間にプラズマを発生させることを特徴とするプラズマ発生方法。 - 上記第一端子には電源を接続して高周波電力を供給するとともに、第二端子には可変コンデンサを接続し、同可変コンデンサの働きによって第一端子および第二端子を同電位としつつ、上記電線の中間点の電位が略0となるようにすることにより、容量性電流によるプラズマの電位を対称とさせつつ、当該誘導コイルに供給した高周波電力により、同誘導コイルの内側に磁場を生成させ、同磁場の作用によりプラズマを生成させることを特徴とする請求項4に記載のプラズマ発生方法。
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