JP5800937B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
δc=(2πm/ω)1/2c[(e2ne)/(ε0me)]-1/2 ・・(1)
δp=c[(e2ne)/(ε0me)]-1/2 ・・(2)
ここで、πmは電子−中性子慣性変換衝突周波数、ωはプラズマ生成用高周波の角周波数、cは光の速度、eは電子質量、neは電子密度、ε0は自由空間の誘電率、meは電子質量である。
12 サセプタ
52 誘電体窓
54 RFアンテナ
54(1),54(2),54(3),54(n) コイル
58,60 高周波給電ライン
62 高周波電源
80 切れ目
82 コイル導体
84 切れ目
86,88 コイル導体
Claims (6)
- 少なくとも一部が誘電体窓からなる真空排気可能な処理容器と、
前記処理容器内で被処理基板を保持する基板保持部と、
前記被処理基板に所望のプラズマ処理を施すために、前記処理容器内に所望の処理ガスを供給する処理ガス供給部と、
前記処理容器内で誘導結合により処理ガスのプラズマを生成するために、前記誘電体窓の外に設けられるRFアンテナと、
前記処理ガスの高周波放電に適した周波数の高周波電力を前記RFアンテナに供給する高周波給電部と
を具備し、
前記RFアンテナが、
互いに近接して平行に延び、コイル周回方向の同じ場所に切れ目がある第1および第2のコイル導体と、
前記第1および第2のコイル導体の前記切れ目と隣接するそれぞれの一方のコイル端部を共通接続する第1の接続導体と、
前記第1および第2のコイル導体の前記切れ目と隣接するそれぞれの他方のコイル端部を共通接続する第2の接続導体と、
前記第1の接続導体から前記切れ目のギャップ内に延びて、前記高周波給電部からの第1の高周波給電ラインと接続する第3の接続導体と、
前記第2の接続導体から前記切れ目のギャップ内に延びて、前記高周波給電部からの第2の高周波給電ラインと接続する第4の接続導体と
を有し、
前記第3の接続導体に前記第1の高周波給電ラインが接続される位置と前記第4の接続導体に前記第2の高周波給電ラインが接続される位置と前記RFアンテナの中心とがコイル半径方向で同一直線上に並んでいる、
プラズマ処理装置。 - 前記第1および第2のコイル導体は、互いに同心状に配置され、径方向で隣接している、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 少なくとも一部が誘電体窓からなる真空排気可能な処理容器と、
前記処理容器内で被処理基板を保持する基板保持部と、
前記被処理基板に所望のプラズマ処理を施すために、前記処理容器内に所望の処理ガスを供給する処理ガス供給部と、
前記処理容器内で誘導結合により処理ガスのプラズマを生成するために、前記誘電体窓の外に設けられるRFアンテナと、
前記処理ガスの高周波放電に適した周波数の高周波電力を前記RFアンテナに供給する高周波給電部と
を具備し、
前記RFアンテナが、コイル周回方向に等間隔で複数の切れ目がある単巻または複巻のコイル導体を有し、
前記複数の切れ目の1つを介して相対向する一対のコイル端部に前記高周波給電部からの一対の高周波給電ラインがそれぞれ接続され、
前記複数の切れ目の残りの各々には、当該切れ目を介して相対向する一対のコイル端部の間に跨る架橋接続導体が設けられ、
前記コイル導体は縦方向にも延びる縦型であり、前記架橋接続導体は前記コイル導体の上端部により形成されている、
プラズマ処理装置。 - 少なくとも一部が誘電体窓からなる真空排気可能な処理容器と、
前記処理容器内で被処理基板を保持する基板保持部と、
前記被処理基板に所望のプラズマ処理を施すために、前記処理容器内に所望の処理ガスを供給する処理ガス供給部と、
前記処理容器内で誘導結合により処理ガスのプラズマを生成するために、前記誘電体窓の外に設けられるRFアンテナと、
前記処理ガスの高周波放電に適した周波数の高周波電力を前記RFアンテナに供給する高周波給電部と
を具備し、
前記RFアンテナが、コイル周回方向で切れ目がある単巻または複巻のコイル導体と、前記コイル導体の前記切れ目を介して相対向する一対のコイル端部から前記誘電体窓と遠くなる方向にコイル周回方向に対して一定の角度で斜めにかつ平行に延びる一対の接続導体とを有し、
前記切れ目のギャップ幅が10mm以下であり、
前記一対の接続導体に前記高周波給電部からの一対の高周波給電ラインがそれぞれ接続されている、
プラズマ処理装置。 - 天井に誘電体窓を有する真空排気可能な処理容器と、
前記処理容器内で被処理基板を保持する基板保持部と、
前記被処理基板に所望のプラズマ処理を施すために、前記処理容器内に所望の処理ガスを供給する処理ガス供給部と、
前記処理容器内で誘導結合により処理ガスのプラズマを生成するために、前記誘電体窓の上に設けられるRFアンテナと、
前記処理ガスの高周波放電に適した周波数の高周波電力を前記RFアンテナに供給する高周波給電部と
を具備し、
前記RFアンテナが、一定の平面上で渦巻き状に延びる主コイル導体と、前記主コイル導体の周辺側のコイル端部より前記平面に対して一定の傾斜角で上昇しながら少なくとも半周に亘って渦巻き状に延びる補助コイル導体とを有し、
前記主コイル導体の中心側のコイル端部に前記高周波給電部からの一対の高周波給電ラインが接続され、
前記補助コイル導体の上端側のコイル端部に前記高周波給電部からの他方の高周波給電ラインが接続されている、
プラズマ処理装置。 - 前記RFアンテナが、前記平面上で互いに180度の位相をずらして渦巻き状に延びる第1および第2の主コイル導体と、前記第1および第2の主コイル導体のそれぞれの周辺側のコイル端部より前記平面に対して互いに180度の位相をずらして前記一定の傾斜角で上昇しながら少なくとも半周に亘って渦巻き状に延びる第1および第2の補助コイル導体とを有し、
前記第1および第2の主コイル導体のそれぞれの中心側のコイル端部に前記高周波給電部からの一方の高周波給電ラインが共通接続され、
前記第1および第2の補助コイル導体のそれぞれの上端側のコイル端部に前記高周波給電部からの他方の高周波給電ラインが共通接続されている、
請求項5に記載のプラズマ処理装置。
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