JP4921304B2 - プローブカード及びこれを用いた半導体ウエハの検査装置 - Google Patents

プローブカード及びこれを用いた半導体ウエハの検査装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4921304B2
JP4921304B2 JP2007254570A JP2007254570A JP4921304B2 JP 4921304 B2 JP4921304 B2 JP 4921304B2 JP 2007254570 A JP2007254570 A JP 2007254570A JP 2007254570 A JP2007254570 A JP 2007254570A JP 4921304 B2 JP4921304 B2 JP 4921304B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive terminal
semiconductor wafer
circuit
signal
transmission
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007254570A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009085720A (ja
Inventor
貴康 桜井
真 高宮
賢一 稲垣
邦彦 飯塚
守宏 嘉田
宗一 宮田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
University of Tokyo NUC
Original Assignee
Sharp Corp
University of Tokyo NUC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp, University of Tokyo NUC filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2007254570A priority Critical patent/JP4921304B2/ja
Priority to CNA2008101617893A priority patent/CN101398441A/zh
Publication of JP2009085720A publication Critical patent/JP2009085720A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4921304B2 publication Critical patent/JP4921304B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/302Contactless testing
    • G01R31/3025Wireless interface with the DUT

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)

Description

本発明は、半導体ウエハの検査を行うためのプローブカード、及び、このプローブカードを用いた半導体ウエハの検査装置に関するものである。
下記特許文献1及び特許文献2に示されるように、半導体集積回路(LSIあるいはIC)が形成された半導体ウエハを検査するための技術が従来から用いられている。
下記特許文献1記載の技術においては、プローブカードを用いて、半導体ウエハとの間で、非接触で信号の授受を行っている。プローブカードで受信された信号は、配線を介して制御装置に送られる。制御装置では、受信信号を解析することにより、半導体ウエハを検査することができる。
しかしながら、プローブカードと半導体ウエハとの間で、非接触で信号の授受を行う場合、プローブカードで受信できる信号は、一般に非常に微弱である。このため、プローブカードから制御装置(テスタ)に信号を伝送する間に、信号が減衰してしまい、S/N比が劣化して、信号処理の精度が悪くなりやすいという問題がある。
この問題を避けるために、プローブカードと半導体ウエハとにアンテナを設け、適宜な電磁波を搬送波として、両者間での通信を行う技術も考えられるが、これでは、送受信に必要な装置が大型化、高コスト化してしまい、半導体ウエハの検査には適さない。
国際公開WO2002/63675号公報 特開2004−37213号公報
本発明は、前記した事情に鑑みてなされたものである。本発明の目的は、半導体ウエハからの受信信号の処理を確実に行うことが可能なプローブカード、これを用いた検査装置及び半導体ウエハを提供することである。
本発明は、下記のいずれかの項目に記載の構成を備えている。
(項目1)
半導体ウエハとの間で信号を送受信し、かつ、前記半導体ウエハから受信した信号を半導体ウエハ検査用のテスタに送るために用いられるプローブカードであって、
前記プローブカードは、第1導電性端子と送受信回路とを備えており、
前記半導体ウエハは、第2導電性端子を備えており、
前記第1導電性端子は、第2導電性端子と対向し、かつ、離間させられており、
前記第1導電性端子と、前記第2導電性端子とは、容量性結合又は誘導性結合を構成することにより、両者間で信号の授受を行うことができる構成となっており、
前記送受信回路は、前記容量性結合又は誘導性結合を介して前記半導体ウエハから受信した信号を復元又は整形して、前記テスタに送る構成となっている
ことを特徴とするプローブカード。
この発明においては、プローブカードに送受信回路を備えたので、プローブカードで受信した信号の減衰量が小さいうちに、この信号の復元あるいは整形が可能になる。その後、復元あるいは整形された信号を、プローブカードに接続されたテスタに送ることができる。このため、この発明によれば、受信信号によって表されるデータを精度よく判定することができる。
(項目2)
前記第1導電性端子及び前記第2導電性端子が、共に導電層パターンにより構成されており、
前記第1導電性端子と前記第2導電性端子とは、対向することにより、容量性結合を構成している
ことを特徴とする項目1に記載のプローブカード。
この発明においては、容量性結合を介して、プローブカードと半導体ウエハとの間で、信号の授受を行うことができる。
(項目3)
前記第1導電性端子及び前記第2導電性端子が、共にコイルにより構成されており、
前記第1導電性端子と前記第2導電性端子とは、対向することにより、誘導性結合を構成している
ことを特徴とする項目1に記載のプローブカード。
この発明においては、誘導性結合を介して、プローブカードと半導体ウエハとの間で、信号の授受を行うことができる。
(項目4)
さらに、半導体チップとインターポーザとを備えており、
前記送受信回路は、前記半導体チップの中に組み込まれており、
前記半導体チップと前記第1導電性端子とは、いずれも、前記インターポーザの表面にそれぞれ配置されており、
かつ、前記半導体チップと前記第1導電性端子とは、前記インターポーザによって電気的に接続されている
ことを特徴とする項目1〜3のいずれか1項に記載のプローブカード。
この発明においては、半導体チップと第1導電性端子との間を、インターポーザによって配線することができる。検査すべき半導体ウエハの種類に応じて、インターポーザを準備しておくことにより、多様な半導体ウエハへの対応が容易となる。この場合、インターポーザ上に第1導電性端子を予め作り込んでおき、そのインターポーザに、適宜の半導体チップを取り付けることが好ましい。これにより、半導体チップは汎用的なものとすることができ、半導体チップの製造コストを低く抑えることが可能になる。
(項目5)
前記インターポーザは、第1面と、この第1面とは実質的に反対側に形成された第2面とを備えており、
前記第1導電性端子は、前記第1面に配置されており、
前記半導体チップは、前記第2面に配置されている
ことを特徴とする項目4に記載のプローブカード。
(項目6)
前記送受信回路は、データ圧縮部を備えており、
前記データ圧縮部は、前記半導体ウエハから受け取った信号に基づく検査データを圧縮する処理を行うものである
ことを特徴とする項目1〜5のいずれか1項に記載のプローブカード。
この発明においては、プローブカードからテスタまで伝送されるべき信号の伝送量を削減することができる。これにより、プローブカードからテスタまでの間におけるデータ通信速度が遅い場合でも、検査に必要な通信が可能になる。
(項目7)
前記半導体チップは、複数の送受信回路を備えており、
さらに、各送受信回路は、不良検出用回路ブロックと、置き換え機能回路ブロックとを備えており、
前記不良検出用回路ブロックは、初期不良あるいは経年変化による、前記送受信回路の不良を検出する構成となっており、
前記置き換え機能回路ブロックは、不良が検出された送受信回路を、他の送受信回路により置き換える構成となっている
ことを特徴とする項目1〜6のいずれか1項に記載のプローブカード。
一般に、半導体チップ中に形成された送受信回路には、初期不良や経年変化による不良が、ある程度の確率で発生する。このような不良が発生した場合、プローブカード全体を交換することも考えられるが、これでは、製品の製造コストや廃棄コストが上昇してしまう。
この発明においては、不良の送受信回路を他の送受信回路に切り替えて使用することができるので、プローブカードの歩留まり及び信頼性を向上させることができる。
(項目8)
項目1〜7のいずれか1項に記載のプローブカードにより検査される半導体ウエハであって、
さらにオープンドレイン出力バッファ又はオープンコレクタ出力バッファを有しており、
前記オープンドレイン出力バッファ又はオープンコレクタ出力バッファの出力側は、終端抵抗を介して電源線に接続されている
ことを特徴とする半導体ウエハ。
プローブカードと半導体ウエハとを非接触とした場合、プローブカードと半導体ウエハとの間で直流電力を供給することが難しい。このため、この場合は、半導体ウエハ中にオープンドレイン又はオープンコレクタが存在する場合、そこにおける出力電圧を検出することができない。
本発明においては、少なくとも必要な期間だけは、オープンドレイン出力バッファの出力側は、終端抵抗を介して電源線に接続することにより、オープンドレイン出力バッファにおける出力を検出することができる。この場合、出力検出のために、何らかの手段で、半導体ウエハにプローブを接触させることが好ましい。なお、オープンドレイン出力バッファの出力側と電源線との間に、スイッチを、終端抵抗と直列で設けることにより、必要な期間以外における電源線への接続を遮断することができる。このことは、半導体ウエハにおいて、オープンコレクタ出力バッファに代えてオープンコレクタ出力バッファが用いられている場合も同様である。
(項目9)
項目1〜7のいずれか1項に記載のプローブカードにより検査される半導体ウエハであって、
さらに入力バッファを備えており、
前記入力バッファは、プリチャージ回路と、モニタ回路と、送信回路と、入力バッファ本体とを備えており、
前記プリチャージ回路は、前記入力バッファ本体に入力電圧をプリチャージする構成となっており、
前記モニタ回路は、プリチャージされた前記入力電圧の変化をモニタする構成となっており、
前記送信回路は、前記モニタ回路によるモニタの結果を前記プローブカードに送信する構成となっている
ことを特徴とする半導体ウエハ。
第1導電性端子と第2導電性端子との間を非接触とした場合は、両者間で直流電圧を送ることが難しいので、プローブカードから入力バッファへのプリチャージが難しい。このため、入力バッファにおけるリーク電流のチェックを行うことも難しい。これに対して、この発明においては、半導体ウエハにプリチャージ回路を設けることにより、入力バッファにおけるリーク電流のチェックを行うことが可能になる。
(項目10)
項目1〜7のいずれか1項に記載のプローブカードを用いて前記半導体ウエハを検査する装置であって、
前記第1導電性端子と前記第2導電性端子とは、容量性結合を構成しており、
前記第1導電性端子及び前記第2導電性端子の一方から他方へ送信される信号の電圧振幅は、前記他方における受信回路の耐圧よりも大きいものに設定されている
ことを特徴とする検査装置。
この発明においては、受信回路において受け取る信号の振幅を大きくすることができ、したがって、信号のS/N比を向上させることができる。受信回路における耐圧よりも大きな振幅の信号を送った場合であっても、容量性結合によって振幅が減衰するので、その減衰量を考慮して信号を送信すれば、受信回路において過大な電圧振幅(電界強度)を受ける心配を回避できる。
(項目11)
項目1〜7のいずれか1項に記載のプローブカードを用いて前記半導体ウエハを検査する装置であって、
前記第1導電性端子と前記第2導電性端子とは、容量性結合を構成しており、
対向する前記第1導電性端子と前記第2導電性端子との間における、柱状の空間には、物質が配置されており、
前記物質の比誘電率は、前記柱状の空間に隣接する空間における比誘電率よりも高いものとなっている
ことを特徴とする検査装置。
この発明においては、対向する第1及び第2導電性端子どうしの組(容量性結合の組)で伝送される信号が、他の組において受信される可能性を減らすことができる。つまり、信号間における混信(クロストーク)を減らすことができ、信号のS/N比を向上させることができる。
(項目12)
項目1〜7のいずれか1項に記載のプローブカードにより検査される半導体ウエハであって、
前記第1導電性端子と前記第2導電性端子とは、容量性結合を構成しており、
さらに、前記半導体ウエハは、制御回路を備えており、
前記制御回路は、抵抗素子と、制御用スイッチと、信号受信検出回路とを備えており、
前記抵抗素子は、前記第2導電性端子と基準電圧との間に接続されており、
前記スイッチは、前記抵抗素子と並列に、前記第2導電性端子と前記基準電圧との間に接続されており、
前記信号受信検出回路は、前記第2導電性端子が信号を受信したことを検出して、前記スイッチを一時的にオンにする構成となっている
ことを特徴とする半導体ウエハ。
第1導電性端子と第2導電性端子との間が容量性結合である場合、半導体ウエハで受信した信号は、ウエハ内の回路における時定数に従って減衰する。このため、信号の立下がりがなだらかになり、データ伝送速度を上げることが難しいという問題がある。この発明においては、制御用スイッチをオンにすることにより、第2導電性端子の電位を、基準電圧まで速やかに復帰させることができる。これにより、半導体ウエハが受信する信号についてのデータ伝送速度を向上させることが可能になる。
(項目13)
項目1〜7のいずれか1項に記載のプローブカードであって、
前記第1導電性端子と前記第2導電性端子とは、容量性結合を構成しており、
さらに、前記プローブカードにおける前記送受信回路は、制御回路を備えており、
前記制御回路は、抵抗素子と、制御用スイッチと、信号受信検出回路とを備えており、
前記抵抗素子は、前記第1導電性端子と基準電圧との間に接続されており、
前記スイッチは、前記抵抗素子と並列に、前記第1導電性端子と前記基準電圧との間に接続されており、
前記信号受信検出回路は、前記第1導電性端子が信号を受信したことを検出して、前記スイッチを一時的にオンにする構成となっている
ことを特徴とする半導体ウエハ。
この発明においては、プローブカードで受信する信号に関して、項目12の発明と同様の利点を得ることができる。
(項目14)
項目1〜7のいずれか1項に記載のプローブカードを用いて前記半導体ウエハを検査する装置であって、
前記第1導電性端子と前記第2導電性端子とは、誘導性結合を構成しており、
対向する前記第1導電性端子と前記第2導電性端子との間における、柱状の空間には、物質が配置されており、
前記物質の比透磁率は、前記柱状の空間に隣接する空間における比透磁率よりも高いものとなっている
ことを特徴とする検査装置。
この発明においては、対向する第1及び第2導電性端子どうしの組(誘導性結合の組)で伝送される信号が、他の組において受信される可能性を減らすことができる。つまり、信号間における混信(クロストーク)を減らすことができ、信号のS/N比を向上させることができる。
(項目15)
項目1に記載のプローブカードであって、
前記第1導電性端子は、コイルにより構成されており、
前記第2導電性端子は、コイル又は導電性パターンにより構成されており、
前記第1導電性端子と前記第2導電性端子とは、対向することにより、誘導性結合又は容量性結合を構成しており、
前記送受信回路は、さらに、誘導性結合受信回路ブロックと、容量性結合受信回路ブロックと、切り替えスイッチとを備えており、
前記誘導性結合受信回路ブロックは、前記第1導電性端子と前記第2導電性端子との間における誘導性結合により伝送された信号の受信を行う構成となっており、
前記容量性結合受信回路ブロックは、前記第1導電性端子と前記第2導電性端子との間における容量性結合により伝送された信号の受信を行う構成となっており、
前記切り替えスイッチは、前記第1導電性端子により受信された信号を受信するブロックを、前記誘導性結合受信回路ブロックと、前記容量性結合受信回路ブロックとの間で切り替える構成となっている
ことを特徴とするプローブカード。
この発明においては、第1導電性端子と第2導電性端子との間が容量性結合である場合も、誘導性結合である場合も、切り替えスイッチを用いて、信号を受信できる。したがって、第2導電性端子がコイルの場合であっても、導電性パターンの場合であっても、同じプローブカードによって信号の授受が可能になる。
本発明によれば、半導体ウエハからの受信信号の処理を確実に行うことが可能なプローブカード、これを用いた検査装置及び半導体ウエハを提供することが可能となる。
以下、本発明の第1実施形態に係るプローブカード及びこれを用いた検査装置を、添付の図面に基づいて説明する。
(第1実施形態の構成)
本実施形態に係る検査装置1は、半導体ウエハ2を検査するために用いられる装置である。この検査装置1は、プローブカード11とテスタ12とを備えている。
本実施形態に係るプローブカード11は、半導体ウエハ2との間で信号を送受信できるものである。さらに、プローブカード11は、半導体ウエハ2から受信した信号を、半導体ウエハ検査用のテスタ12に送るために用いられるものである。また、プローブカード11は、テスタ12からの信号を半導体ウエハ2に送るためにも用いられる。
プローブカード11は、半導体チップ13と、複数の第1導電性端子14と、インターポーザ15とを備えている。
半導体チップ13は、送受信回路16を備えている。すなわち、本実施形態における受信回路16は、半導体チップ13の中に組み込まれている。半導体チップ13は、一般に複数であることができる。送受信回路16は、信号送信部161と信号受信部162とを備えている。
信号送信部161は、テスタ12からの指令に従って、検査用の信号を半導体ウエハ2に送る機能を備えた回路ブロックである。また、信号受信部(受信回路)162は、半導体ウエハ2から送られてきた信号を復元又は整形して、テスタ12に伝送するための回路ブロックである。
第1導電性端子14は、後述する第2導電性端子21との間で容量結合を形成するための導電層パターンにより構成されている。このような導電層パターンは、例えばエッチングにより、必要な位置に形成することができる。
本実施形態におけるインターポーザ15は、誘電体基板と、必要な配線あるいはビア(図示せず)を有する、略板状のものである。インターポーザ15は、上面(第1面)151と、これと反対側の位置に配置された下面(第2面)152とを備えている。半導体チップ13は、インターポーザ15における第1面151に配置されている。また、第1導電性端子14は、インターポーザの第2面152に配置されている。
さらに、本実施形態では、半導体チップ13と第1導電性端子14とが、インターポーザ15における配線あるいはビア(図示せず)によって、電気的に接続されている。半導体チップ13と第1導電性端子14との対応関係は、1対1、N対1及び1対Nが可能である。ここでNは適宜な自然数である。また、ここで例えば1対Nとは、一つの半導体チップ当たりに複数の第1導電性端子14が電気的に接続されているという意味である。
本実施形態における半導体ウエハ2は、第2導電性端子21を備えている。この第2導電性端子21は、第1導電性端子14と同様に、導電層パターンにより構成されている。
第1導電性端子14は、第2導電性端子21と対向し、かつ、離間させられている。第1導電性端子14と、第2導電性端子21とは、容量性結合を構成することにより、両者間で信号の授受を行うことができる構成となっている。
したがって、送受信回路16は、第1導電性端子14と第2導電性端子21とで構成された容量性結合を介して、半導体ウエハ2から信号を受信できるようになっている。また、送受信回路16は、前記した容量性結合を介して受信した信号を復元又は整形して、テスタ12に送ることができるようになっている。また、送受信回路16は、テスタ12からの信号を半導体ウエハ2に送ることもできるものである。
(第1実施形態の動作)
つぎに、第1実施形態に係る検査装置の動作を説明する。
この実施形態の検査装置1においては、半導体ウエハ2と対向して、プローブカード11を配置する。このとき、第1導電性端子14と第2導電性端子21とを、それぞれ、1対1で対向させる。これにより、第1導電性端子14と第2導電性端子21とによって、容量性の結合を構成することができる。
ここで、本実施形態では、第1導電性端子14と第2導電性端子21との離間間隔は、予め設定された距離とする。これにより、第1導電性端子14と第2導電性端子21とで構成される容量性結合における静電容量を既定の値とすることができる。
この状態で、送受信回路16からの信号を、容量性結合を介して、半導体ウエハ2に送ることができる。この場合、信号は、対向する第1導電性端子14と第2導電性端子21との間で伝送される。同様に、本実施形態では、半導体ウエハ2からの信号を、容量性結合を介して、半導体チップ13の送受信回路16に送ることができる。
このように、この実施形態によれば、容量性結合を介して、プローブカード11と半導体ウエハ2との間で、信号の授受を行うことができる。
また、この実施形態では、半導体ウエハ2に近接して設置されるプローブカード11に送受信回路16を備えている。このため、この実施形態によれば、プローブカード11で受信した信号の減衰量が小さいうちに、この信号の復元あるいは整形が可能になる。さらに、その後、復元あるいは整形された信号を、プローブカード11に接続されたテスタ12に送ることができる。このため、この実施形態の検査装置によれば、受信信号によって表されるデータを精度よく判定することができる。なお、半導体ウエハとプローブカードの間で送受信される信号は、一般に、ディジタル信号である。
さらに、この実施形態においては、半導体チップ13と第1導電性端子14との間を、インターポーザ15によって配線している。本実施形態では、検査すべき半導体ウエハ2の種類(例えば第2導電性端子の位置)に応じて、インターポーザ15を準備しておくことにより、多様な半導体ウエハ2への対応が容易となる。
なお、本実施形態では、半導体ウエハ2の種類に応じてインターポーザ15の表面上に第1導電性端子14を予め作り込んでおき、そのインターポーザ15に、適宜の半導体チップ13を取り付けることが好ましい。これにより、半導体チップ13自体は汎用的なものとすることができ、半導体チップ13の製造コストを低く抑えることが可能になる。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態にかかる検査装置を、図3を参照しながら説明する。なお、この実施形態の説明においては、前記した第1実施形態と基本的に共通する構成要素については、同一符号を付することにより、説明を省略する。
前記した第1実施形態では、第1導電性端子14及び第2導電性端子21が、共に導電層パターンにより構成されていた。これに対して、第2実施形態では、第1導電性端子14及び第2導電性端子21とが、共に、コイルにより構成されている。
第1導電性端子14と第2導電性端子21とは、対向することにより、誘導性結合を構成している。
第1導電性端子14及び第2導電性端子21をコイルにより構成する手段としては、種々のものが考えられる。例えば、インターポーザ15の表面あるいは半導体ウエハ2の表面において導電層を渦巻き状に形成することにより、コイルを形成することが可能である。この方法においては、エッチングによりコイルを形成できるので、形成が容易であり、かつ、高精度の形状を得ることができるという利点がある。
この第2実施形態においては、誘導性結合を介して、プローブカード11と半導体ウエハ2との間で、信号の授受を行うことができる。また、誘導性結合を用いた場合は、交流電力の授受が可能になる。
第2実施形態における他の利点は前記した第1実施形態と基本的に同様なので、これ以上の説明は省略する。
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態にかかる検査装置を、図4を参照しながら説明する。なお、この実施形態の説明においては、前記した第1実施形態と基本的に共通する構成要素については、同一符号を付することにより、説明を省略する。
この第3実施形態における検査装置1の送受信回路16は、さらに、データ圧縮部163を備えている。
このデータ圧縮部163は、送受信回路16によって半導体ウエハ2から受け取った信号に基づく検査データを圧縮する処理を行うものである。圧縮された信号は、送受信回路16の信号受信部162により、テスタ12に送信される。
この第3実施形態によれば、プローブカード11からテスタ12まで伝送されるべき信号の伝送量を削減することができる。これにより、プローブカードからテスタまでの間におけるデータ通信速度が遅い場合でも、検査に必要なデータを短時間で伝送することが可能になる。
(第4実施形態)
次に、本発明の第4実施形態にかかる検査装置を、図5及び図6を参照しながら説明する。なお、この実施形態の説明においては、前記した第1実施形態と基本的に共通する構成要素については、同一符号を付することにより、説明を省略する。
本実施形態における半導体チップ13は、複数の送受信回路16を備えている。いずれの送受信回路も同じ構成なので、これらについては同じ符号を用いる。
各送受信回路16は、不良検出用回路ブロック164と、置き換え機能回路ブロック165とをさらに備えている。
不良検出用回路ブロック164は、初期不良あるいは経年変化による、送受信回路16の不良を検出する構成となっている。
置き換え機能回路ブロック165は、故障中の送受信回路16を、他の送受信回路16により置き換える構成となっている。
このような不良回路検出用回路ブロック164や置き換え機能回路ブロック165は、従来から用いられている技術により実現できるので、詳細についての説明は省略する。
一般に、半導体チップ中に形成された送受信回路には、初期不良や経年変化による不良が、ある程度の確率で発生する。このような不良が発生した場合、プローブカード全体を交換することも考えられるが、これでは、製品の製造コストや廃棄コストが上昇してしまう。第4実施形態によれば、不良である送受信回路6を他の送受信回路6に切り替えて使用することができるので、プローブカード11の歩留まり及び信頼性を向上させることができる。
(第5実施形態)
次に、本発明の第5実施形態にかかる検査装置を、図7を参照しながら説明する。なお、この実施形態の説明においては、前記した第1実施形態と基本的に共通する構成要素については、同一符号を付することにより、説明を省略する。
この第5実施形態における半導体ウエハ2は、オープンドレイン出力バッファ22を有している。このオープンドレイン出力バッファ22の出力側は、終端抵抗23を介して電源線24に接続されている。また、この実施形態では、オープンドレイン出力バッファ22の出力側と電源線24との間、より詳しくは、オープンドレイン出力バッファ22の出力側と終端抵抗23との間に、出力バッファ用スイッチ22aを、終端抵抗23と直列で設けている。
電源線24からは、電源電圧が提供できるようになっている。電源電圧を電源線に提供するためには、適宜な方法により、半導体ウエハ2に電源を供給すればよい。例えば、プローブ(図示せず)を半導体ウエハ2に接触させることにより、このプローブを介して電源を提供することができる。
第5実施形態の半導体ウエハを検査する手順としては、まず、検査に必要な期間に渡って、スイッチ22aをオンにする。これによりオープンドレイン出力バッファ22がオンのときにおいて出力電圧を発生させることができる。発生した出力電圧(図7の例では、振幅が1.8〜2.5V)は、第1導電性端子14と第2導電性端子21で構成された容量性結合によって、プローブカード11に伝送される。プローブカード11で受信された信号は、そこで復元又は整形されてから、テスタ12に送られる。
プローブカード11と半導体ウエハ2とを非接触とした場合、プローブカード11と半導体ウエハ2との間で直流電力を伝達することが難しい。元来、オープンドレインは、半導体ウエハ外部の電源に対して抵抗を介して接続することにより、電圧波形を出力するというものである。したがって、プローブカード11と半導体ウエハ2とを非接触にすると、電圧変化が全く生じない(すなわち出力がモニタできない)ことになってしまう。このため、半導体ウエハ2においてオープンドレインがあった場合は、そこにおける出力電圧を検出することが難しくなるという問題が生じる。
これに対して、本実施形態においては、少なくとも必要な期間だけは、オープンドレイン出力バッファ22の出力側は、終端抵抗23を介して電源線24に接続することにより、オープンドレイン出力バッファ22における出力を検出することができる。
また、本実施形態では、スイッチ22aを操作することにより、必要な期間以外においては、オープンドレイン出力バッファ22と電源線24との接続を遮断し、不要な信号の発生を防止することができる。
なお、前記の第5実施形態では、オープンドレイン出力バッファを用いた例を説明したが、オーブンドレイン出力バッファに代えて、オープンコレクタ出力バッファを用いることもできる。オープンコレクタ出力バッファを用いた場合の構成及び利点は、前記と同様である。
(第6実施形態)
次に、本発明の第6実施形態にかかる検査装置を、図8を参照しながら説明する。なお、この実施形態の説明においては、前記した第1実施形態と基本的に共通する構成要素については、同一符号を付することにより、説明を省略する。
第6実施形態に係る半導体ウエハ2は、入力バッファ25を備えている。入力バッファ25は、プリチャージ回路251と、モニタ回路252と、送信回路253と、入力バッファ本体254とを備えている。
プリチャージ回路251は、電源用端子2511と、プリチャージ用スイッチ2512と、プリチャージ信号入力部2513とを備えている。電源用端子2511は、入力電圧側に接続されている。プリチャージ用スイッチ2512は、プリチャージ信号入力部2513に入力された信号(この場合はゲート電圧)に応じて、オン/オフを切り替えることができるようになっている。これにより、この実施形態のプリチャージ回路251では、スイッチ2512がオン状態のときに、入力端子IN(図8参照)を、入力バッファ本体254に対して、電源用端子2511の電圧までプリチャージできる構成となっている。
モニタ回路252は、基準電圧用端子2521と、スイッチ操作信号入力部2522と、第1スイッチ2523と、第2スイッチ2524と、比較器2525とを備えている。
基準電圧用端子2521には、基準電圧が提供されている。基準電圧としては、入力電圧(VDD)よりも小さく、かつ0でない適宜な値の電圧が用いられている。基準電圧は、入力電圧から作り出されてもよいし、あるいは、半導体ウエハ2に別途供給されてもよい。
スイッチ操作信号入力部2522は、第1スイッチ2523及び第2スイッチ2524のオン/オフを切り替えることができるようになっている。
第1スイッチ2523は、入力バッファ本体254の入出力端と比較器2525との間に接続されている。
第2スイッチ2524は、基準電圧用端子2521と比較器2525との間に接続されている。
これらのスイッチ2523及び2524は、例えば半導体スイッチにより構成することができる。
比較器2525は、上記の構成により、入力バッファ本体254からの電圧と、基準電圧とを比較できるようになっている。
したがって、本実施形態の半導体ウエハでは、モニタ回路252によって、プリチャージされた入力電圧の変化をモニタできる構成となっている。
送信回路253は、モニタ回路252によるモニタの結果を比較器2525から受け取る。さらに送信回路253は、第2導電性端子21を介して、モニタの結果を、プローブカード11に送信するように構成されている。
(第6実施形態の動作)
第6実施形態におけるリーク電流のチェック方法を以下に説明する。まず、初期状態では、プリチャージ用スイッチ2512、第1スイッチ2523及び第2スイッチ2524がいずれもオフ状態であるとする。
ついで、プリチャージ信号入力部2513に信号を入力することにより、プリチャージ用スイッチ2512をオンにする。すると、電源電圧用端子2511と入力バッファ本体254とが接続され、入力バッファ本体254に対するチャージが行われる。
ついで、所定時間経過後、プリチャージ用スイッチ2512をオフにする。この状態において、もし入力バッファ本体254のリーク電流がなければ、入力バッファ本体254の入出力端における電位は、電源電圧に等しいはずである。一方、入力バッファ本体254のリーク電流があれば、この電位は、時間と共に下がるはずである。
ついで、スイッチ操作信号入力部2522に信号を入力することにより、第1スイッチ2523と第2スイッチ2524とを共にオンにする。これにより、入力バッファ本体254の入出力端における電圧(プリチャージ電圧)と、基準電圧とを比較器2525により比較することができる。この状態を、既定の時間だけ継続する。
既定時間が経過するまで、プリチャージ電圧が基準電圧より高ければ、入力バッファ本体254における電流漏れは基準以下であると判定することができる。逆に、プリチャージ電圧が基準電圧より低ければ、入力バッファ本体254における電流漏れは基準以上であると判定でき、この場合は、入力バッファ本体254に何らかの問題があると推定できる。本実施形態では、前者の場合に比較器2525からH信号が出力され、後者の場合にL信号が出力されるように設定されている。ただし、基準となる入力を逆にとれば、これとは逆の出力が得られる。
本実施形態においては、比較器2525からの出力(すなわち判定結果)を、送信回路253により、第1導電性端子14及び第2導電性端子21を介して、プローブカード11に送ることができる。プローブカード11は、さらに、受け取った判定結果をテスタ12に送ることができる。
第1導電性端子14と第2導電性端子21との間を非接触とした場合は、両者間で直流電圧を送ることが難しい。このため、半導体ウエハ2に備えられた入力バッファ25におけるリーク電流のチェックを行うことが難しい。これに対して、この実施形態の半導体ウエハ2では、前記したように、入力バッファ25におけるリーク電流のチェックを行うことが可能になる。
(第7実施形態)
次に、本発明の第7実施形態にかかる検査装置を、図9を参照しながら説明する。なお、この実施形態の説明においては、前記した第1実施形態と基本的に共通する構成要素については、同一符号を付することにより、説明を省略する。
本実施形態の検査装置1では、第1導電性端子14及び第2導電性端子21の一方から他方へ送信される信号の電圧振幅は、他方における受信回路の耐圧よりも大きいものに設定されている。具体的には、この実施形態では、半導体ウエハ2の第2導電性端子21から、プローブカード11の第1導電性端子14に送られる信号の電圧振幅が、プローブカード11における送受信回路16の耐圧より大きいものとされている。図9の例では、送信信号の電圧振幅は1.8〜2.5V程度に設定されている。
第7実施形態においては、受信回路において受け取る信号の振幅を大きくすることができ、したがって、信号のS/N比を向上させることができる。受信回路における耐圧よりも大きな振幅の信号を送った場合であっても、容量性結合によって振幅が減衰するので、その減衰量を考慮して信号を送信すれば、受信回路において過大な電圧振幅(電界強度)を受ける心配を回避できる。例えば、図9の例では、送受信回路16で受け取った信号の振幅が0.1〜1.0Vとなっている。送受信回路16における耐圧を1.5Vとすれば、送受信回路16で受け取った信号は、耐圧以下の振幅となっている。
(第8実施形態)
次に、本発明の第8実施形態にかかる検査装置を、図10を参照しながら説明する。なお、この実施形態の説明においては、前記した第1実施形態と基本的に共通する構成要素については、同一符号を付することにより、説明を省略する。
本実施形態では、インターポーザ15と半導体ウエハ2との間に、充填部材26が配置されている。この充填部材26は、高誘電率物質261と、低誘電率物質262とを備えている。高誘電物質261は、対向する第1導電性端子14と第2導電性端子21との間における、柱状の空間に充填されている。また、低誘電物質262は、この柱状の空間に隣接する空間を埋めるように配置されている。
高誘電物質261の比誘電率は、低誘電物質262よりも高いものとなっている。具体的には、この実施形態では、高誘電物質261の比誘電率が2以上となっており、低誘電物質262の比誘電率が約1となっている。これにより本実施形態では、対向する第1導電性端子14と第2導電性端子21の間における柱状の空間(すなわち高誘電物質261)の比誘電率が、それに隣接する空間(すなわち低誘電物質262)における比誘電率よりも高いものとなっている。つまり、この発明における「柱状の空間」及び「隣接する空間」とは、空間中に物質が充填されている状態を含む。ただし、柱状の空間に隣接する空間は、物質が存在しない状態(つまり大気や真空)であってもよい。
充填部材26を形成する方法としては、例えば、第1導電性端子14と第2導電性端子21の一方または両方の表面に高誘電率物質261を堆積後、選択的にエッチングして、高誘電率物質261を所定形状に形成し、その間に、必要に応じて低誘電率物質262を充填する方法が考えられる。その他、樹脂をモールドする方法、適宜な形状に形成された物質どうしを接着する方法など、適宜な方法により、充填部材26を形成することができる。
この第8実施形態においては、対向する第1及び第2導電性端子14及び21どうしの組(容量性結合の組)で伝送される信号が、他の組において受信される可能性を減らすことができる。つまり、信号間における混信(クロストーク)を減らすことができ、信号のS/N比を向上させることができる。
(第9実施形態)
次に、本発明の第9実施形態にかかる検査装置を、図11を参照しながら説明する。なお、この実施形態の説明においては、前記した第1実施形態と基本的に共通する構成要素については、同一符号を付することにより、説明を省略する。
この第9実施形態における半導体ウエハ2は、制御回路27とアンプ28とを備えている。
制御回路27は、抵抗素子271と、制御用スイッチ272と、信号受信検出回路273とを備えている。
抵抗素子271は、第2導電性端子21と基準電圧との間に接続されている。
制御用スイッチ272は、抵抗素子271と並列に、第2導電性端子21と基準電圧との間に接続されている。この制御用スイッチ272も、例えば半導体スイッチにより構成することができる。
信号受信検出回路273は、第2導電性端子21が信号を受信したことを検出して、スイッチ272を一時的にオンにする構成となっている。
アンプ28は、第2導電性端子21で受信した信号を増幅して、出力端子及び信号受信検出回路273に送るようになっている。
半導体ウエハ2においては、第1導電性端子14と第2導電性端子21との間における容量と、半導体ウエハ2内の抵抗成分、容量成分、誘導成分などの影響により、半導体ウエハ2で受信した信号が、基準電圧に向かって、時定数に従って緩やかに収束する。このため、このままの回路では、受信信号の変化がなだらかになり、データ伝送速度を上げることが難しいという問題がある。
これに対して、第9実施形態によれば、受信信号を信号受信検出回路273で受信した後、スイッチ272をオンにすることができる。これにより、第2導電性端子21の電位を、基準電圧まで速やかに復帰させることができる。これにより、データ伝送速度(すなわちbps)を向上させることが可能になる。
なお、プローブカード11上の送受信回路16に、前記と同様の制御回路を設けることにより、同様の利点を得ることができる。この場合は、前記の説明における第2導電性素子21を第1導電性端子14と読み替えればよいので、詳しい説明は省略する。
(第10実施形態)
次に、本発明の第10実施形態にかかる検査装置を、図12を参照しながら説明する。なお、この実施形態の説明においては、前記した第1実施形態及び第8実施形態と基本的に共通する構成要素については、同一符号を付することにより、説明を省略する。
この第10実施形態における第1導電性端子14及び第2導電性端子21は、いずれもコイルとなっている。すなわち、この実施形態においては、対向する第1導電性端子14と第2導電性端子21とは、誘導性結合を構成している。
本実施形態では、インターポーザ15と半導体ウエハ2との間に、充填部材26が配置されている。この充填部材26は、高透磁率物質263と、低透磁率物質264とを備えている。高透磁物質263は、対向する第1導電性端子14と第2導電性端子21との間における、柱状の空間に充填されている。また、低透磁物質264は、この柱状の空間に隣接する空間を埋めるように配置されている。
高透磁物質263の比透磁率は、低透磁物質264よりも高いものとなっている。具体的には、この実施形態では、高透磁物質263の比透磁率が2以上となっており、低透磁物質264の比透磁率が約1となっている。これにより本実施形態では、対向する第1導電性端子14と第2導電性端子21の間における柱状の空間(すなわち高透磁物質263)の比透磁率は、それに隣接する空間(すなわち低透磁物質264)における比透磁率よりも高いものとなっている。つまり、この発明における「柱状の空間」及び「隣接する空間」とは、空間中に物質が充填されている状態を含む。ただし、柱状の空間に隣接する空間は、物質が存在しない状態(つまり大気)であってもよい。
充填部材26を形成する方法としては、第1導電性端子14と第2導電性端子21の一方または両方の表面に高透磁率物質263を堆積後、選択的にエッチングして、高透磁率物質263を所定形状に形成し、その間に、必要に応じて低透磁率物質264を充填する方法が考えられる。その他、樹脂をモールドする方法、適宜な形状に形成された物質どうしを接着する方法など、適宜な方法により、充填部材26を形成することができる。
この第10実施形態においては、対向する第1及び第2導電性端子14及び21どうしの組(誘導性結合の組)で伝送される信号が、他の組において受信される可能性を減らすことができる。つまり、信号間における混信(クロストーク)を減らすことができ、信号のS/N比を向上させることができる。
(第11実施形態)
次に、本発明の第11実施形態にかかる検査装置を、図13及び図14を参照しながら説明する。なお、この実施形態の説明においては、前記した第1実施形態と基本的に共通する構成要素については、同一符号を付することにより、説明を省略する。
本実施形態では、第1導電性端子14としてコイルが用いられている。また、第2導電性端子21としてコイルと、容量性結合用の導電性パターンとの両者が混合して用いられている(図13参照)。なお、図13では、第2導電性素子21がコイルである場合に符号21aを付し、導電性パターンである場合に符号21bを付した。この状態では、対向する第1導電性端子14と第2導電性端子21aとが、誘導性結合を構成している。また、同時に、第1導電性端子14と第2導電性端子21bとは、容量性結合を構成している。つまり、第1導電性端子14と第2導電性端子21とは、対向することにより、誘導性結合又は容量性結合を構成している。
また、本実施形態における送受信回路16は、さらに、誘導性結合受信回路ブロック166と、容量性結合受信回路ブロック167と、切り替えスイッチ168とを備えている。
誘導性結合受信回路ブロック166は、第1導電性端子14と第2導電性端子21との間における誘導性結合により伝送された信号の受信を行う構成となっている。
容量性結合受信回路ブロック167は、第1導電性端子14と第2導電性端子21との間における容量性結合により伝送された信号の受信を行う構成となっている。
切り替えスイッチ168は、第1導電性端子14により受信された信号を受信するブロックを、誘導性結合受信回路ブロック166と、容量性結合受信回路ブロック167との間で切り替える構成となっている。
この発明においては、第1導電性端子14と第2導電性端子21との間が容量性結合である場合も、誘導性結合である場合も、切り替えスイッチ168を用いて、信号を受信できるという利点がある。また、第2導電性素子21が全てコイルであっても、全て導電性パターンであってもよい。したがって、この発明によれば、容量性結合を用いているウエハ2でも、誘導性結合を用いているウエハ2でも、同じプローブカード11で検査することができるので、プローブカード11の汎用性が高まり、低コスト化に寄与する。
なお、前記実施形態及び実施例の記載は単なる一例に過ぎず、本発明に必須の構成を示したものではない。各部の構成は、本発明の趣旨を達成できるものであれば、上記に限らない。
本発明の第1実施形態に係る検査装置の概略的な構造を示すための説明図であって、ここでは、インターポーザ及び半導体ウエハの横断面が示されている。 第1実施形態における半導体チップを説明するための概略的なブロック図である。 本発明の第2実施形態に係る検査装置の概略的な構造を示すための説明図であって、ここでは、インターポーザ及び半導体ウエハの横断面が示されている。 本発明の第3実施形態における半導体チップを説明するための概略的なブロック図である。 本発明の第4実施形態における半導体チップを説明するための概略的なブロック図である。 第4実施形態における送受信回路を説明するための概略的なブロック図である。 本発明の第5実施形態に係る検査装置の概略的な構造を示すための説明図である。 本発明の第6実施形態に係る検査装置の概略的な構造を示すための説明図であって、ここでは、半導体ウエハにおけるリークテスト回路が示されている。 本発明の第7実施形態に係る検査装置の概略的な構造を示すための説明図である。 本発明の第8実施形態に係る検査装置の概略的な構造を示すための説明図であって、ここでは、インターポーザ、半導体ウエハ及び充填部材の横断面が示されている。 本発明の第9実施形態に係る検査装置の概略的な構造を示すための説明図であって、ここでは、ポストプリチャージ回路についての概略的な回路図が示されている。 本発明の第10実施形態に係る検査装置の概略的な構造を示すための説明図であって、ここでは、インターポーザ、半導体ウエハ及び充填部材の横断面が示されている。 本発明の第11実施形態に係る検査装置の概略的な構造を示すための説明図であって、ここでは、インターポーザ及び半導体ウエハの横断面が示されている。 本発明の第11実施形態に係る検査装置の概略的な構造を示すための説明図であって、ここでは、送受信回路の概略的なブロック図が示されている。
符号の説明
1 検査装置
11 プローブカード
12 テスタ
13 半導体チップ
14 第1導電性端子
15 インターポーザ
16 送受信回路
161 信号送信部
162 信号受信部
163 データ圧縮部
164 不良検出回路ブロック
165 置き換え機能回路ブロック
166 誘導性結合受信回路ブロック
167 容量性結合受信回路ブロック
168 切り替えスイッチ
2 半導体ウエハ
21・21a・21b 第2導電性端子
22 オープンドレイン出力バッファ
22a スイッチ
23 終端抵抗
24 電源線
25 入力バッファ
251 プリチャージ回路
2511 電源用端子
2512 プリチャージ用スイッチ
2513 プリチャージ信号入力部
252 モニタ回路
2521 基準電圧用端子
2522 スイッチ操作信号入力部
2523 第1スイッチ
2524 第2スイッチ
2525 比較器
253 送信回路
254 入力バッファ本体
26 充填部材
261 高誘電率物質
262 低誘電率物質
263 高透磁率物質
264 低透磁率物質
27 制御回路
271 抵抗素子
272 制御用スイッチ
273 信号受信検出回路
28 アンプ

Claims (9)

  1. 半導体ウエハとの間で信号を送受信し、かつ、前記半導体ウエハから受信した信号を半導体ウエハ検査用のテスタに送るためプローブカードを用いて前記半導体ウエハを検査する装置であって、
    前記プローブカードは、第1導電性端子と送受信回路と半導体チップとインターポーザとを備えており、
    前記半導体ウエハは、第2導電性端子を備えており、
    前記第1導電性端子は、第2導電性端子と対向し、かつ、離間させられており、
    前記第1導電性端子と、前記第2導電性端子とは、容量性結合を構成することにより、両者間で信号の授受を行うことができる構成となっており、
    前記送受信回路は、前記容量性結合を介して前記半導体ウエハから受信した信号を復元又は整形して、前記テスタに送る構成となっており、
    前記第1導電性端子及び前記第2導電性端子が、共に導電層パターンにより構成されており、
    前記送受信回路は、前記半導体チップの中に組み込まれており、
    前記半導体チップと前記第1導電性端子とは、いずれも、前記インターポーザの表面にそれぞれ配置されており、
    かつ、前記半導体チップと前記第1導電性端子とは、前記インターポーザによって電気的に接続されており、
    前記第1導電性端子及び前記第2導電性端子の一方から他方へ送信される信号の電圧振幅は、前記他方における受信回路の耐圧よりも大きいものに設定されている
    ことを特徴とする検査装置
  2. 前記インターポーザは、第1面と、この第1面とは実質的に反対側に形成された第2面とを備えており、
    前記第1導電性端子は、前記第1面に配置されており、
    前記半導体チップは、前記第2面に配置されている
    ことを特徴とする請求項に記載の検査装置
  3. 前記送受信回路は、データ圧縮部を備えており、
    前記データ圧縮部は、前記半導体ウエハから受け取った信号に基づく検査データを圧縮する処理を行うものである
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載の検査装置
  4. 前記半導体チップは、複数の送受信回路を備えており、
    前記複数の送受信回路は、それぞれ、不良検出用回路ブロックと、置き換え機能回路ブロックとを備えており、
    前記不良検出用回路ブロックは、初期不良あるいは経年変化による、前記送受信回路の不良を検出する構成となっており、
    前記置き換え機能回路ブロックは、不良が検出された送受信回路を、他の送受信回路により置き換える構成となっている
    ことを特徴とする請求項1〜のいずれか1項に記載の検査装置
  5. 請求項1〜のいずれか1項に記載の検査装置により検査される半導体ウエハであって、
    さらにオープンドレイン出力バッファ又はオープンコレクタ出力バッファを有しており、
    前記オープンドレイン出力バッファ又は前記オープンコレクタ出力バッファの出力側は、終端抵抗を介して電源線に接続されている
    ことを特徴とする半導体ウエハ。
  6. 請求項1〜のいずれか1項に記載の検査装置により検査される半導体ウエハであって、
    さらに入力バッファを備えており、
    前記入力バッファは、プリチャージ回路と、モニタ回路と、送信回路と、入力バッファ本体とを備えており、
    前記プリチャージ回路は、前記入力バッファ本体に入力電圧をプリチャージする構成となっており、
    前記モニタ回路は、プリチャージされた前記入力電圧の変化をモニタする構成となっており、
    前記送信回路は、前記モニタ回路によるモニタの結果を前記プローブカードに送信する構成となっている
    ことを特徴とする半導体ウエハ。
  7. 請求項1〜のいずれか1項に記載のプローブカードを用いて前記半導体ウエハを検査する装置であって
    対向する前記第1導電性端子と前記第2導電性端子との間における、柱状の空間には、物質が配置されており、
    前記物質の比誘電率は、前記柱状の空間に隣接する空間における比誘電率よりも高いものとなっている
    ことを特徴とする検査装置。
  8. 請求項1〜のいずれか1項に記載の検査装置により検査される半導体ウエハであって
    さらに、前記半導体ウエハは、制御回路を備えており、
    前記制御回路は、抵抗素子と、制御用スイッチと、信号受信検出回路とを備えており、
    前記抵抗素子は、前記第2導電性端子と基準電圧との間に接続されており、
    前記スイッチは、前記抵抗素子と並列に、前記第2導電性端子と前記基準電圧との間に接続されており、
    前記信号受信検出回路は、前記第2導電性端子が信号を受信したことを検出して、前記スイッチを一時的にオンにする構成となっている
    ことを特徴とする半導体ウエハ。
  9. 請求項1〜のいずれか1項に記載の検査装置を用いて検査される半導体ウエハであって
    さらに、前記プローブカードにおける前記送受信回路は、制御回路を備えており、
    前記制御回路は、抵抗素子と、制御用スイッチと、信号受信検出回路とを備えており、
    前記抵抗素子は、前記第1導電性端子と基準電圧との間に接続されており、
    前記スイッチは、前記抵抗素子と並列に、前記第1導電性端子と前記基準電圧との間に接続されており、
    前記信号受信検出回路は、前記第1導電性端子が信号を受信したことを検出して、前記スイッチを一時的にオンにする構成となっている
    ことを特徴とする半導体ウエハ。
JP2007254570A 2007-09-28 2007-09-28 プローブカード及びこれを用いた半導体ウエハの検査装置 Expired - Fee Related JP4921304B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007254570A JP4921304B2 (ja) 2007-09-28 2007-09-28 プローブカード及びこれを用いた半導体ウエハの検査装置
CNA2008101617893A CN101398441A (zh) 2007-09-28 2008-09-26 探针板以及使用它的半导体晶片的检查装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007254570A JP4921304B2 (ja) 2007-09-28 2007-09-28 プローブカード及びこれを用いた半導体ウエハの検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009085720A JP2009085720A (ja) 2009-04-23
JP4921304B2 true JP4921304B2 (ja) 2012-04-25

Family

ID=40517140

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007254570A Expired - Fee Related JP4921304B2 (ja) 2007-09-28 2007-09-28 プローブカード及びこれを用いた半導体ウエハの検査装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP4921304B2 (ja)
CN (1) CN101398441A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105372574A (zh) * 2015-10-14 2016-03-02 华东光电集成器件研究所 一种半导体芯片晶圆毫伏级信号测试系统

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7935549B2 (en) * 2008-12-09 2011-05-03 Renesas Electronics Corporation Seminconductor device
CN101995534B (zh) * 2009-08-10 2013-08-28 宏正自动科技股份有限公司 漏电检测装置及方法
TWI384227B (zh) 2009-09-01 2013-02-01 Advanced Semiconductor Eng 主動式非接觸之探針卡
KR101138297B1 (ko) 2009-09-25 2012-04-25 가부시키가이샤 어드밴티스트 프로브 장치 및 시험 장치
JP5448675B2 (ja) 2009-09-25 2014-03-19 パナソニック株式会社 プローブカード及びそれを用いた半導体ウェーハの検査方法
CN105589231B (zh) * 2016-03-09 2019-04-30 京东方科技集团股份有限公司 非接触式探针信号加载装置
TWI634339B (zh) * 2017-11-21 2018-09-01 興城科技股份有限公司 檢測薄膜電晶體基板之方法及裝置
CN116953297B (zh) * 2023-07-26 2024-02-20 中国计量科学研究院 毫米波片上天线背馈测量装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09101330A (ja) * 1995-10-06 1997-04-15 Nippon Avionics Co Ltd プルアップ抵抗及びプルダウン抵抗の自動試験器
US5708389A (en) * 1996-03-15 1998-01-13 Lucent Technologies Inc. Integrated circuit employing quantized feedback
JPH1082834A (ja) * 1996-09-05 1998-03-31 Fujitsu Ltd 半導体集積回路
JP3135888B2 (ja) * 1997-10-20 2001-02-19 松下電器産業株式会社 バーンイン検査方法
JPH11341085A (ja) * 1998-05-27 1999-12-10 Sharp Corp 波形整形回路及びそれを備えた受信システム
JP2002133897A (ja) * 2000-10-30 2002-05-10 Mitsubishi Electric Corp 半導体測定装置、半導体測定用治具、及び半導体測定方法
WO2002063675A1 (fr) * 2001-02-02 2002-08-15 Hitachi, Ltd. Circuit integre, procede de test et de fabrication d'un circuit integre
JP2005183863A (ja) * 2003-12-24 2005-07-07 Renesas Technology Corp 半導体集積回路装置の製造方法
WO2007029422A1 (ja) * 2005-09-07 2007-03-15 Nec Corporation 半導体装置の検査装置及び電源供給ユニット
JP2007172766A (ja) * 2005-12-22 2007-07-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体リーク電流検出器とリーク電流測定方法および電圧トリミング機能付半導体リーク電流検出器とリファレンス電圧トリミング方法およびこれらの半導体集積回路
KR101387085B1 (ko) * 2006-03-07 2014-04-18 스캐니메트릭스 인크. 전자 구성요소에 문의하기 위한 방법 및 장치
US7952375B2 (en) * 2006-06-06 2011-05-31 Formfactor, Inc. AC coupled parameteric test probe

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105372574A (zh) * 2015-10-14 2016-03-02 华东光电集成器件研究所 一种半导体芯片晶圆毫伏级信号测试系统

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009085720A (ja) 2009-04-23
CN101398441A (zh) 2009-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4921304B2 (ja) プローブカード及びこれを用いた半導体ウエハの検査装置
CN105509932B (zh) 压力传感器与测试器件以及相关方法
US10295567B2 (en) Probe module supporting loopback test
KR101822980B1 (ko) 웨이퍼 레벨 컨택터
KR101384714B1 (ko) 반도체 검사장치
US20130027071A1 (en) Active probe card for electrical wafer sort of integrated circuits
CN104297536B (zh) 具回馈测试功能的探针模块
CN101887098A (zh) 触控面板检查装置
JP2005345470A (ja) 電子デバイスの検査装置
JP5588347B2 (ja) プローブ装置および試験装置
KR101421051B1 (ko) 반도체 검사장치
US20070170939A1 (en) Apparatus for testing semiconductor test system and method thereof
JP2018096972A (ja) プローブカード、及びそれを含むテスト装置
CN103777131A (zh) 集成电路测试系统及测试方法
US9442134B2 (en) Signal path switch and probe card having the signal path switch
US20150212112A1 (en) Active Probe Card
KR101727378B1 (ko) 기판 검사 장치
JP2018194356A (ja) デバイスの検査方法
JP2009270835A (ja) 半導体部品の検査方法及び装置
US9335343B1 (en) Contactor for reducing ESD in integrated circuit testing
KR101706465B1 (ko) 프린트 기판 검사 장치 및 검사 방법
US8952713B1 (en) Method and apparatus for die testing
CN102116818A (zh) 电性连接瑕疵侦测系统及方法
Basith et al. Contactless test access mechanism for TSV-based 3-D ICs utilizing capacitive coupling
KR20090075515A (ko) 프로브 카드 및 이를 포함하는 테스트 장비

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100616

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20100616

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111116

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111122

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120111

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120131

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120202

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150210

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees