JP4896585B2 - 接続方法 - Google Patents
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本実施例では、3層構成の異方導電性接着剤フィルムを作成し、その保存性、熱圧着性を評価した。
○:フィルムがMEKによってほぼ溶解する場合
△:溶解は生じないが、フィルムがポロポロくずれる状態になる場合
×:フィルムが溶解せず、フィルム状を維持する場合(ゲル化)
硬化度は、異方導電接着剤フィルムを熱圧着した後、MEKに対する溶解性を調べることで評価した。表中、◎、○、△、×はそれぞれ以下の場合を表す。
◎:フィルムが溶解せず、フィルム状を維持する場合
○:フィルムがほとんど溶解せず、フィルム状をほぼ維持する場合
△:溶解は生じないが、フィルムがポロポロくずれる状態になる場合
×:フィルムが溶解し、MEKが白濁する場合
ピール強度は、引張り試験機(オリエンチック社製,商品名UCT−2.5T)を用い、以下の条件で測定した。
被着体:25μmユーピレックス基材 18μmCu 0.2mmピッチ150本パターン/ITOベタガラス
測定方法:90°
ピール測定条件:25℃
また、表中、◎、○、△、×はそれぞれ以下の場合を表す。
◎:ピール強度が1000g/cm以上である場合
○:ピール強度が500g/cm以上1000g/cm未満である場合
△:ピール強度が200g/cm以上500g/cm未満である場合
×:ピール強度が200g/cm未満である場合
はみ出し性は、圧着部からはみ出したフィルムのはみ出し量xを測定することで評価した。表中、◎、○、△、×はそれぞれ以下の場合を表す。
◎:はみ出し量xがx=0mmである場合
○:はみ出し量xが0mm<x≦1mmである場合
△:はみ出し量xが1mm<x≦3mmである場合
×:はみ出し量xが3mm<xである場合
また、比較として1層中に熱硬化性樹脂、硬化剤、導電性粒子が含有されている、従来のタイプの異方導電性接着剤フィルム〔CP7131(膜厚25μm);比較例フィルム〕についても同様にして、保存性及び熱圧着後の硬化度、ピール強度、はみ出し性を調べた。その結果も表1に併せて示す。なお、比較例フィルムについては、参考のため温度170℃、圧力40kgf/cm2、圧着時間20秒間の条件で熱圧着を行った場合についても評価を行った。
表1からわかるように、単層構成の比較例フィルムは、熱圧着温度が170℃であれば良好な熱圧着が行えるが、熱圧着温度が100℃と低くなると、硬化度、ピール強度が不十分になり良好な圧着が行われない。
一方、3層構成の実施例フィルムは、速硬化性の硬化剤を用いているが十分な保存性が得られており、また熱圧着温度が100℃であっても、十分な硬化度、ピール強度が得られる。
このことから、異方導電性接着剤フィルムを、熱硬化性樹脂よりなる主剤層、隔離層、硬化剤層の3層で構成すると、硬化剤として速硬化性のものを用いることが可能になり、100℃程度の圧着温度であっても十分に圧着が行えるようになることがわかった。
3層構成の異方導電性接着剤フィルムの層厚の検討
主剤層、隔離層、硬化剤層の厚さを表2に示すように変えたこと以外は実施例フィルムと同様にして異方導電性接着剤フィルム(実験例フィルム1〜実験例フィルム5、比較例フィルム1〜4)
以上のようにして作成された異方導電性接着剤フィルムについて、上述と同様にして保存性を調べるとともに、温度100℃、圧力40kgf/cm2の条件で熱圧着を20秒間行い、硬化度、ピール強度及びはみ出し性を調べた。評価結果を表3に示す。
表3からわかるように、まず主剤層や硬化剤層の厚さが比較的薄い比較例フィルム3ではピール強度が不足する。逆にこれらの厚さが比較的厚い比較例フィルム4では、硬化度やピール強度は優れているが圧着部分からフィルムがはみ出してしまう。圧着部分からのフィルムのはみ出しを抑えながら、十分な接続強度を得るには、主剤層や硬化剤層の厚さは0.7〜33μmが適当である。
Claims (1)
- 異方導電性接着剤フィルムを介して配線基板と電子部品とを接続する接続方法において、
上記異方導電性接着剤フィルムを上記配線基板の接続端子と上記電子部品の接続端子との間に介在させ、100℃以下の熱を印加しつつ圧力を掛けて該配線基板の接続端子と該電子部品の接続端子とを一体固定化させ、
上記異方導電性接着剤フィルムは、熱硬化性樹脂を主成分とする主剤層のための主剤塗料を剥離フィルム上に塗布、乾燥して該主剤層を形成し、隔離層のための隔離塗料を該主剤層上に塗布、乾燥して該隔離層を形成し、硬化剤と熱可塑性樹脂を混合してなり該硬化剤を主成分とする硬化剤層のための硬化剤塗料を該隔離層上に塗布、乾燥して該硬化剤層を形成することで、該主剤層と該硬化剤層とが、該隔離層を介して積層されてなり、
上記主剤層には導電性粒子が含有され、
上記主剤層、上記硬化剤層及び上記隔離層の厚みは、それぞれ0.7〜33μmであり、
上記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂であり、
上記硬化剤は、上記熱硬化性樹脂と反応する速硬化性硬化剤として、BF3系硬化剤、ポリアミン系硬化剤、変性アミン系硬化剤及び芳香族チオエーテル系硬化剤のいずれか1つ以上であり、
上記熱可塑性樹脂は、フェノキシ樹脂であり、
上記隔離層は、上記配線基板の接続端子と上記電子部品の接続端子とを一体固定化させる際の上記100℃以下の圧着温度よりもガラス転移点Tgが低いポリエステル樹脂からなることを特徴とする接続方法。
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