JP4875062B2 - 調整可能な干渉フィルタ - Google Patents
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Description
1)帯域通過フィルタが使われる場合と比較して、所定の気体濃度が、測定された信号における大きな相対的変化を与える。
2)同じ波長範囲内で吸収する領域に他のガスが存在するならば、それらは、同じ範囲であるが異なるラインのガスに対する感度を減らすので、測定に最小の影響を持つことになる。
3)ソース(源)の温度変化および他の擾乱が、同程度の測定の両方に影響を与えることにもなる。
このような干渉フィルタによって一酸化炭素を測定する原理は、1974年の特許文献1に記載されている。これも熱的に変調された透明な光学材料内のフィルタを作る可能性に言及しているが、シリコンまたは類似のものについては言及していない。
2 反射面
3 反射防止層
4 表面
5 電極
6 シリコンディスク
7 基板
8 ゾーンプレート
10 光
11 圧電アクチュエータ
21 赤外線源
22 集光ミラー
23 ガスセル
24 フィルタ
25 固定帯域通過フィルタ
26 集光ミラー
27 検出器
Claims (10)
- 選ばれた波長の範囲内の赤外線によるガス検出での使用のための調整可能な干渉フィルタであって、定義された光路と、該光路に位置して、光が間で振動しうる反射面によって区切られ共振器を定義する選ばれた距離によって分離された少なくとも2つの本質的に平行な反射面と、を有し、前記表面の少なくとも1つが共振器への、または共振器からの光の伝播に対して半透明であるような、干渉フィルタであり、該フィルタは、
選ばれた厚さを備え、前記光路内の前記反射面間に置かれ、シリコンに匹敵するかまたはそれより大きな選ばれた屈折率を持つ第1の透明な材料と、
第1の透明な材料と反射面の少なくとも1つとの間に空洞を定義するための分離手段、および、前記反射面間の距離を調整するための、従って共振器光路長を調整するための調整手段デバイスと、
前記透明な材料と前記光路における前記空洞との間の境界表面であって、波長の前記範囲における前記境界表面の反射率を減らすための反射低減手段を備えた境界表面と、
を有することを特徴とするフィルタ。 - 第1の反射面は前記透明な材料の1つの側を構成し、前記境界表面はこれの反対側上に置かれた低減された反射率を持ち、第2の反射面は前記空洞の反対側上のキャリア材料上に置かれることを特徴とする請求項1に記載のフィルタ。
- 第1の反射面がディスクの上側にあり、反射低減層がディスクの下側に置かれるように、前記第1の透明な材料が前記第2の反射面の上に置かれたディスクによって構成されることを特徴とする請求項2に記載のフィルタ。
- 電圧源と2つの反射面のそれぞれに対する電気的導体とに連結するための、従ってそれらの間の距離の静電的調整を提供するための手段を有することを特徴とする請求項3に記載のフィルタ。
- 前記反射面の少なくとも1つは3次元パターンを有し、前記パターンは、例えば異なった方向における異なった波長を持った光の透過または反射のための、回折フィルタを有することを特徴とする請求項1に記載のフィルタ。
- 前記パターンは、異なった位置に向かって異なった波長を持つ光を合焦点するよう適合させられた、少なくとも1つの回折レンズを有することを特徴とする請求項5に記載のフィルタ。
- 前記空洞は、柔軟な材料、例えば選ばれた屈折率を持ったジェルで充填されることを特徴とする請求項1に記載のフィルタ。
- 低減された反射率を持つ前記境界は、空洞および透明な材料の屈折率と異なった屈折率を持つ材料であって、波長の選ばれた範囲内の前記境界における反射を、既知の方法それ自体で減らすような厚さを備えた材料の、少なくとも1つの層を有することを特徴とする請求項1に記載のフィルタ。
- 前記第1の透明な材料は1つの側に反射面を、他の側に反射低減手段を備え、前記フィルタは、1つの側に反射面を、他の側に反射低減手段を持った第2の透明な材料をも有し、さらに、前記2つの透明な材料は、反射低減手段を備える表面が互いに直面するように向けられ、前記分離手段によって分離され、それらの間の距離が前記調整手段によって調整され、それによって共振器が2つの透明材料を含むことを特徴とする請求項1に記載のフィルタ。
- 前記反射面間の距離が、検出されるガスを特徴付ける選ばれた吸収波長範囲に対応する波長範囲内での干渉を提供するように選ばれることを特徴とする請求項1に記載のフィルタ。
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CN106990063B (zh) * | 2017-04-12 | 2019-12-20 | 中国石油大学(华东) | 红外光谱分析仪 |
JP2018205035A (ja) * | 2017-05-31 | 2018-12-27 | セイコーエプソン株式会社 | 分光システム、受光装置、生体情報測定装置および分光方法 |
US11828210B2 (en) | 2020-08-20 | 2023-11-28 | Denso International America, Inc. | Diagnostic systems and methods of vehicles using olfaction |
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US11881093B2 (en) | 2020-08-20 | 2024-01-23 | Denso International America, Inc. | Systems and methods for identifying smoking in vehicles |
US11760169B2 (en) | 2020-08-20 | 2023-09-19 | Denso International America, Inc. | Particulate control systems and methods for olfaction sensors |
US11760170B2 (en) | 2020-08-20 | 2023-09-19 | Denso International America, Inc. | Olfaction sensor preservation systems and methods |
US11636870B2 (en) | 2020-08-20 | 2023-04-25 | Denso International America, Inc. | Smoking cessation systems and methods |
US11813926B2 (en) | 2020-08-20 | 2023-11-14 | Denso International America, Inc. | Binding agent and olfaction sensor |
CN112880569B (zh) * | 2021-01-25 | 2022-11-08 | 上海大学 | 一种基于腔长校正的多表面测量方法 |
KR102373321B1 (ko) * | 2021-05-17 | 2022-03-11 | (주)세성 | 멀티가스 누출경보기용 감지기 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001228022A (ja) * | 2000-02-18 | 2001-08-24 | Yokogawa Electric Corp | 波長選択型赤外線検出素子及び赤外線ガス分析計 |
JP2004530146A (ja) * | 2001-02-05 | 2004-09-30 | セントル ナショナル ドゥ ラ ルシェルシュ シアンティフィック | 空洞部の結合による波長フィルタリングを備えた光電子デバイス |
JP2005031326A (ja) * | 2003-07-11 | 2005-02-03 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光フィルター |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3930718A (en) * | 1974-04-12 | 1976-01-06 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Electro-optic modulator |
US4035643A (en) * | 1974-06-11 | 1977-07-12 | Allied Chemical Corporation | Infrared gas analysis |
US3939348A (en) * | 1974-06-11 | 1976-02-17 | Allied Chemical Corporation | Infrared gas analysis |
DE3925692C1 (ja) * | 1989-08-03 | 1990-08-23 | Hartmann & Braun Ag, 6000 Frankfurt, De | |
GB2256500A (en) * | 1991-05-03 | 1992-12-09 | Minnesota Mining & Mfg | Diffractive mirror having diffractive zones seperated by optical steps |
US5151585A (en) * | 1991-08-12 | 1992-09-29 | Hughes Danbury Optical Systems, Inc. | Coherent radiation detector |
US5289314A (en) * | 1992-03-25 | 1994-02-22 | Hughes Aircraft Company | Coatings for laser detector etalons |
FI96450C (fi) * | 1993-01-13 | 1996-06-25 | Vaisala Oy | Yksikanavainen kaasun pitoisuuden mittausmenetelmä ja -laitteisto |
DE4431412C1 (de) * | 1994-08-24 | 1996-03-14 | William Newton | Vorrichtung zur Durchführung spektroskopischer Messungen |
US5550373A (en) * | 1994-12-30 | 1996-08-27 | Honeywell Inc. | Fabry-Perot micro filter-detector |
US5920391A (en) * | 1995-10-27 | 1999-07-06 | Schlumberger Industries, S.A. | Tunable Fabry-Perot filter for determining gas concentration |
GB2314617B (en) * | 1996-06-24 | 2000-08-23 | Graviner Ltd Kidde | High sensitivity gas detection |
US6500521B2 (en) * | 1999-05-14 | 2002-12-31 | Agere Systems Inc. | Stepped etalon |
US6853654B2 (en) * | 1999-07-27 | 2005-02-08 | Intel Corporation | Tunable external cavity laser |
US6246480B1 (en) * | 1999-09-01 | 2001-06-12 | Lucent Technologies Inc. | Stepped etalon |
US6590710B2 (en) * | 2000-02-18 | 2003-07-08 | Yokogawa Electric Corporation | Fabry-Perot filter, wavelength-selective infrared detector and infrared gas analyzer using the filter and detector |
IL136849A (en) * | 2000-06-18 | 2004-09-27 | Beamus Ltd | Optical dynamic devices particularly for beam steering and optical communication |
US6804429B2 (en) * | 2001-02-09 | 2004-10-12 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Reconfigurable wavelength multiplexers and filters employing micromirror array in a gires-tournois interferometer |
EP1213571B1 (en) * | 2001-08-17 | 2004-05-26 | Agilent Technologies, Inc. (a Delaware corporation) | Interference of light |
US20040001258A1 (en) * | 2002-06-28 | 2004-01-01 | Mandeep Singh | Solid state etalons with low thermally-induced optical path length change |
US7142573B2 (en) * | 2003-10-17 | 2006-11-28 | Coronado Technology Group, Llc | Etalon cavity with filler layer for thermal tuning |
NO20051850A (no) * | 2005-04-15 | 2006-09-25 | Sinvent As | Infrarød deteksjon av gass - diffraktiv. |
-
2005
- 2005-04-15 NO NO20051851A patent/NO20051851A/no not_active IP Right Cessation
-
2006
- 2006-04-03 WO PCT/NO2006/000124 patent/WO2006110042A1/en active Application Filing
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2010
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001228022A (ja) * | 2000-02-18 | 2001-08-24 | Yokogawa Electric Corp | 波長選択型赤外線検出素子及び赤外線ガス分析計 |
JP2004530146A (ja) * | 2001-02-05 | 2004-09-30 | セントル ナショナル ドゥ ラ ルシェルシュ シアンティフィック | 空洞部の結合による波長フィルタリングを備えた光電子デバイス |
JP2005031326A (ja) * | 2003-07-11 | 2005-02-03 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光フィルター |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATE485503T1 (de) | 2010-11-15 |
US20110013189A1 (en) | 2011-01-20 |
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US20080186566A1 (en) | 2008-08-07 |
NO322438B1 (no) | 2006-10-02 |
EP1875206B1 (en) | 2010-10-20 |
DE602006017681D1 (de) | 2010-12-02 |
WO2006110042A1 (en) | 2006-10-19 |
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