JP4545784B2 - 反射型マイクロオプティック干渉計型フィルター及びその応用装置 - Google Patents
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Description
上記の目的を達成し、従来技術の問題点を解決するための本発明による反射型マイクロオプティック干渉計型フィルターは、入力光繊維から入射するビームを拡張して、レンズ部を通じて出力し、レンズ部を通じて出力されたビームを視準化して、出力光繊維を通じて出力する二重コリメーターと、上記二重コリメーターから拡張されて出力されたビームを上記出力光繊維に反射させる反射板と、上記二重コリメーターと上記反射板との間に位置し、一定の位相経路差を誘導するため、屈折率あるいは光経路差の分布が繰り返して変化するパターンを有した平板と、を含むことを特徴とする。
上記反射型マイクロオプティック干渉計型フィルターの応用装置は、上記基準物質73と上記反応物質74を具備した上記平板70を二つの相補的な構造で形成することを特徴とする。
11 コリメーターのレンズ部
20 反射板(Optical Mirror)
30 平板(Optical plate)
40、50、60 周期的な屈折率分布を有する平板
70 反復的なパターンを有した前面反射板と全体を反射する後面反射板を両側面に有する平板
73 基準物質
64 反応物質
80 反復的なパターンを有した前面反射板と全体を反射する後面反射板を両側面に有する基準物質と反応物質から構成された平板
81 後面反射板
82 前面反射板
83 基準物質
84 反応物質
Claims (16)
- 入力光繊維から入射するビームを拡張して、レンズ部を通じて出力し、レンズ部を通じて出力されたビームを視準化して、出力光繊維を通じて出力する二重コリメーターと、
上記二重コリメーターから拡張されて出力されたビームを上記出力光繊維に反射させる反射板と、
上記二重コリメーターと上記反射板との間に位置し、一定の位相経路差を誘導するため、屈折率あるいは光経路差の分布が繰り返して変化するパターンを有した平板と、
を含んで構成されていることを特徴とする反射型マイクロオプティック干渉計型フィルター。 - 上記平板は、屈折率の高い部分と屈折率の低い部分が周期的に繰り返すように形成されていることを特徴とする請求項1記載の反射型マイクロオプティック干渉計型フィルター。
- 上記平板は、その一側面に膨らんだ部分と窪んだ部分を周期的に繰り返すように形成していることを特徴とする請求項1記載の反射型マイクロオプティック干渉計型フィルター。
- 上記パターンは、周期的に繰り返されるストライプパターンで構成されたことを特徴とする請求項1, 2 又は3 記載の反射型マイクロオプティック干渉計型フィルター。
- 上記パターンは、多角形パターンであることを特徴とする請求項1, 2 又は3記載の反射型マイクロオプティック干渉計型フィルター。
- 入力光繊維から入射するビームを拡張して、レンズ部を通じて出力し、レンズ部を通じて出力されたビームを視準化して、出力光繊維を通じて出力する二重コリメーターと、
前面の一部領域に周期的なパターンを有した反射板と後面全体に反射板からなり、上記二重コリメーターから拡張されて出力されるビームを上記出力光繊維に反射させ、ビーム反射位置によって位相経路差を誘導する平板と、
を含んで構成されていることを特徴とする反射型マイクロオプティック干渉計型フィルター。 - 上記平板は、反射部分と反射されないように開放された部分を周期的に繰り返すように形成していることを特徴とする請求項6記載の反射型マイクロオプティック干渉計型フィルター。
- 上記パターンは、周期的に繰り返されるストライプパターンで構成されたことを特徴とする請求項6又は7記載の反射型マイクロオプティック干渉計型フィルター。
- 上記パターンは、多角形パターンであることを特徴とする請求項6又は7記載の反射型マイクロオプティック干渉計型フィルター。
- 入力光繊維から入射するビームを拡張して、レンズ部を通じて出力し、レンズ部を通じて出力されたビームを視準化して、出力光繊維を通じて出力する二重コリメーターと、
上記二重コリメーターから拡張されて出力されたビームを上記出力光繊維に反射させる反射板と、
上記二重コリメーターと上記反射板との間に位置し、一定の位相経路差を誘導するため、屈折率あるいは光経路差の分布が繰り返して変化するパターンを有した平板と、を含んで構成され、
上記平板は、周期的な屈折率分布を階段模様の繰り返し形態で具現した基準物質と、上記基準物質の一側面に形成された階段模様の繰り返し形態で結合され、検出対象に対する光学的特性変化を誘導する反応物質と、を含んで構成されることを特徴とする反射型マイクロオプティック干渉計型フィルターの応用装置。 - 上記パターンは、繰り返して変化する反射パターンをなして、所定の位相経路差を誘導することを特徴とする請求項10記載の反射型マイクロオプティック干渉計型フィルターの応用装置。
- 上記繰り返して変化する反射パターンは、
上記二重コリメーターと上記反射板の間を通過するビーム経路上で、上記繰り返して変化する反射パターンによって反射されたビームと上記繰り返して変化する反射パターンによって反射されずに、上記反射板から反射されたビームの間に発生する光経路差を誘導することを特徴とする請求項11記載の反射型マイクロオプティック干渉計型フィルター。 - 上記反応物質は、
外部摂動によって屈折率変化を起こす物質で構成されることを特徴とする請求項10又は11記載の反射型マイクロオプティック干渉計型フィルターの応用装置。 - 上記反射型マイクロオプティック干渉計型フィルターの応用装置は、
上記基準物質の蝕刻された部分と蝕刻されていない部分の割合を調節して、上記基準物質の屈折率と上記反応物質の屈折率による消滅比を調節可能に構成されたことを特徴とする請求項10記載の反射型マイクロオプティック干渉計型フィルターの応用装置。 - 上記反射型マイクロオプティック干渉計型フィルターの応用装置は、
上記二重コリメーターと上記反射板との間に、上記平板をビーム進行経路に対して傾いた方向に配列して光学的位相遅延を起こす経路差が発生されるようにすることを特徴とする請求項10記載の反射型マイクロオプティック干渉計型フィルターの応用装置。 - 上記反射型マイクロオプティック干渉計型フィルターの応用装置は、
上記平板を用いて特定固定された伝達特性を具現し、これを用いて波長分割多重送信システムのチャンネル信号特性変化を検出するに使われることを特徴とする請求項10又は11記載の反射型マイクロオプティック干渉計型フィルターの応用装置。
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