KR100765432B1 - 마이크로 옵틱 간섭계형 필터 - Google Patents

Abstract

본 발명은 마이크로 옵틱 간섭계형 광 필터에 관한 것으로, 광섬유로부터 입사되는 빔을 확장 및 시준화하여 출력하는 제1 콜리메이터와; 확장된 빔을 입력받아 집속하여 광섬유로 출사하는 제2 콜리메이터; 및 상기 제1 및 제2 콜리메이터 사이에 위치하며 주기적인 스트라이프 패턴에 따라 굴절률이 높은 부분과 굴절률이 낮은 부분이 일정 비율로 주기적으로 반복되게 형성되어, 정렬 특성이 없는 입출력 광섬유의 위상 차를 반복적으로 유도하여 회절에 의한 효과를 무시하도록 한 평판;을 포함하여 구성함으로써, 정렬에 무관하면서도 일정 소멸비 이상의 입출력 광섬유의 위상 특성을 안정적으로 제공할 수 있다.

광섬유, 광필터, 마이크로 옵틱 필터

Description

마이크로 옵틱 간섭계형 필터{MICRO OPTIC INTERFEROMETRIC FILTER}

도 1은 종래의 마이크로 옵틱 간섭계형 필터의 구조.

도 2는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 마이크로 옵틱 간섭계형 필터의 구조.

도 3은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 평판을 도시한 도면.

도 4 내지 도 6은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 마이크로 옵틱 간섭계형 필터의 특성 측정결과를 도시한 도면.

도 7은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 평판의 구조를 도시한 도면.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

100 : 평판

102 : 제1콜리메이터

104 : 제2콜리메이터

200 : 평판

202 : 제1콜리메이터

204 : 제2콜리메이터

본 발명은 광 필터에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 주기적인 통과대역 또는 저지대역을 가지는 마이크로 옵틱 간섭계형 필터에 관한 것이다.

파장분할 다중방식(WDM : Wavelength Division Multiplexing) 광전송 시스템이 활성화 되면서 다양한 형태의 광 필터들이 시스템에 적용되고 있다. 특히 통과대역 또는 저지대역이 주기적인 파장응답 특성을 가지는 광 필터들은 파장분할 다중방식 광전송 시스템과 같이 일정한 간격의 파장이 다른 광신호들을 다중화하여 전송하는 시스템에서 각 채널의 파장 제어, 다중화된 광신호의 품질 감시, 광증폭기 잡음광 누적 제거, 양방향 광전송 시스템에서 반사로 인한 신호 열화 방지 등을 위해 사용되고 있다. 또, 비교적 반복 주기가 긴 광 필터는 파장 가변 필터나 광증폭기의 이득 평탄화 등을 위해 사용되고 있다.

이러한 필터들은 다양한 방법으로 구현이 가능한데 마하젠더(Mach-Zehnder) 간섭계형 필터, 사그낙(Sagnac) 간섭계형 필터, 마이켈슨(Michelson) 간섭계형 필터, 그리고 페브리-페롯(Fabry-Perot) 간섭계형 필터 등이 있다. 그 중 마하젠더 간섭계형 필터는 선형적인 위상특성과 넓은 대역특성으로 고속 파장분할 다중방식 광전송 시스템에 적합한 필터로 널리 알려져 있다.

마하젠더 간섭계형 필터는 여러 가지 방식으로 구현되는데, 반도체 공정을 응용한 집적광학형, 광섬유의 융착 접속 방식에 기반한 광 섬유형, 광섬유형 콜리메이터(Collimator)를 기반으로 한 마이크로 옵틱형 등이 있다.

상기 집적광학형 광 필터는 평면광회로(Planar Lightwave Circuit) 제작 기술을 통해 대량 생산이 가능하지만, 높은 삽입 손실과 편광 의존성으로 인해 상대적으로 광특성이 떨어진다.

광섬유의 융착 접속 방식에 기반한 광섬유형 필터는 삽입손실이 낮고 저가로 구현 가능하지만 간섭계 구성에서 광 경로차를 유도하기 위해 정밀한 광섬유 길이 조절이 필요하며 원하는 파장전달특성 값을 정확히 적용시키기 위해 부가적인 제어 유니트가 요구된다.

마이크로 옵틱 광 필터의 대표적인 예는 U.S. Pat. No. 5,841,583과 U.S. Pat. No. 5,930,441 에 세부적으로 잘 나타나 있다. 이러한 마이크로 옵틱형 필터는 삽입손실과 편광 의존성이 낮아 광특성이 우수하며, 소형화가 가능하다.

종래의 마이크로 옵틱 마하젠더 간섭계형 필터의 구성 및 동작을 도 1을 참조하여 설명한다.

광섬유를 통해 입력된 광신호는 제1콜리메이터(102)를 통해 확장 및 시준화되어 진행하고, 제2콜리메이터(104)를 통해 확장된 빔이 집속하여 광섬유로 전송하는 역할을 수행한다.

상기 제1 및 제2콜리메이터(102,104) 사이에 삽입된 평판(100)은 X축 방향 삽입깊이에 따라 평판을 통과한 빔과 그렇지 않은 빔 사이에 위상차를 초래하여 제2콜리메이터에서 두 빔이 집속하는 과정에서 마하-젠더 간섭계가 형성되도록 한다.

이러한 마이크로 옵틱형 마하젠더 간섭계형 필터의 구조에서는 평판(100)의 삽입 위치에 따라 특성이 변화하므로, 정밀한 위치조정이 요구되었다.

다시 말해 콜리메이터 기반의 마이크로 옵틱 마하젠더 간섭계형 필터는 우수한 성능과 쉬운 구성으로 다양한 응용이 가능하지만, 부가적인 정렬 조건과 안정도 문제로 널리 상용화되지 않는 문제가 있었다.

이에 따라 종래에는 콜리메이터 기반의 마이크로 옵틱 필터에서 정밀한 위치조정문제를 해소함은 물론이며 안정도를 향상시킬 수 있는 기술의 개발이 절실하게 요망되었다.

본 발명은 상술한 종래의 문제점을 극복하기 위한 것으로서, 콜리메이터를 사용한 마이크로 옵틱 간섭계형 필터에서 위상경로차를 유도하기 위해 주기적인 굴절률 변화 패턴을 가진 평판을 빔 진행 경로의 수직방향으로 삽입함으로써, 정렬에 무관하면서도 일정 소멸비 이상의 특성을 안정적으로 획득할 수 있게 하는 마이크로 옵틱 간섭계형 필터를 제공하는 데 그 목적이 있다.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 마이크로 옵틱 간섭계형 필터는, 광섬유로부터 입사되는 빔을 확장 및 시준화하여 출력하는 제1 콜리메이터와; 확장된 빔을 입력받아 집속하여 광섬유로 출사하는 제2 콜리메이터; 및 상기 제1 및 제2 콜리메이터 사이에 위치하며 주기적인 스트라이프 패턴에 따라 굴절률이 높은 부분과 굴절률이 낮은 부분이 일정 비율로 주기적으로 반복되게 형성되어, 정렬 특성이 없는 입출력 광섬유의 위상 차를 반복적으로 유도하여 회절에 의한 효과를 무시하도록 한 평판;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 굴절률이 높은 부분과 굴절률이 낮은 부분이 일정 비율로 주기적으로 반복 형성된 스트라이프 패턴은, 삼각형, 사각형, 육각형, 마름모꼴 형상 중 어느 하나의 형상으로 형성되어, 상기 평판을 통과하는 빔에 일정한 위상 경로 차를 유도하는 것을 특징으로 한다.
상기 평판에서 상기 굴절률이 상이한 부분간의 비는 필터의 소멸비에 대응됨을 특징으로 한다.
상기 평판은 상기 굴절률이 높은 부분과 굴절률이 낮은 부분의 두께를 각각 다르게 형성한 것을 특징으로 한다.
상기 평판은 상기 스트라이프 패턴을 따라 요철로 제작하여 상대적으로 볼록한 부분과 오목한 부분을 지나는 빔 사이에 위상 차를 유도하도록 패턴을 형성한 것을 특징으로 한다.

이러한 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 마이크로 옵틱형 필터의 구성을 도 2를 참조하여 설명한다.

제1콜리메이터(202)는 광섬유를 통해 입력된 광신호를 확장 및 시준화하여 출력하며, 제2콜리메이터(204)는 확장된 빔을 입력받아 집속하여 광섬유로 전송한다.

상기 제1 및 제2콜리메이터(202,204)의 사이에는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 평판(200)이 삽입된다.

평판(200)은 주기적인 스트라이프 패턴에 따라 굴절률이 높은 부분과 굴절률이 낮은 부분이 주기적으로 반복되게 형성된다. 이러한 굴절률의 변화로 인해 굴절률이 높은 부분을 지나는 빔과 굴절률이 낮은 부분을 지나는 빔 사이에 발생하는 상대적인 위상 차이가 발생하며, 이는 제2콜리메이터(204)를 통해 광섬유로 집속되는 빔에 간섭 현상을 야기한다. 여기서, 상기 위상 차이는 평판에 유도된 굴절률 변화에 의해 결정된다.

좀더 설명하면, 스트라이프의 무늬를 따라 형성된 굴절률이 높은 부 부분을 지나는 빔과 굴절률이 낮은 부분을 지나는 빔 사이의 위상차가 2π의 정수배이면 제2 콜리메이터에 집속되어 광섬유에 출력되고, 각 경로를 지나는 빔 사이의 위상차가 π의 홀수 배이면 상대적 위상이 반전되어 집속된 빔이 발산하여 광섬유와 결합되지 않는다.

또한 스트라이프의 무늬를 따라 형성된 굴절률이 높은 부분을 지나는 빔과 굴절률이 낮은 부분을 지나는 빔의 에너지 비에 의해 출력빔이 완전히 소멸간섭을 일으키거나 혹은 일부분만 소멸간섭을 일으키게 되며, 이는 최종 출력에서의 간섭 정도를 결정한다. 즉 스트라이프의 무늬를 따라 형성된 굴절률이 높은 부분을 지나는 빔과 굴절률이 낮은 부분을 지나는 빔의 에너지 비에 의해 출력 빔의 일부가 고차모드로 변환하고 그렇지 않은 부분은 기본 모드로 남아 있게 된다.

그리고 마이크로 옵틱형 필터의 소멸비는 입출력의 최대 전달률과 최소 전달률 상의 비로 결정되는데, 만약 상기 평판(200)의 스트라이프 패턴의 폭이 빔 크기에 비해 매우 작고 스트라이프의 무늬를 따라 형성된 굴절률이 높은 부분의 폭과 굴절률이 낮은 부분의 폭 사이의 비가 50:50이라면 평판(200)의 수직 위치에 상관없이 상기 마이크로 옵틱형 필터는 최대의 소멸비를 가진다.

또한 상기 평판(200)의 상기 스트라이프의 무늬를 따라 형성된 굴절률이 높은 부분과 굴절률이 낮은 부분의 폭 사이의 비는 원하는 소멸비에 대응되게 조정될 수 있으며, 상기 조정에 의해 상기 평판(200)을 통과하는 빔의 소멸비는 조정자가 원하는 값을 가지게 된다.

좀더 설명하면, 상기 평판(200)의 제조자는 원하는 소멸비에 따라 60:40 혹은 70:30 등으로 스트라이프의 무늬를 따라 형성된 굴절률이 높은 부분과 굴절률이 낮은 부분의 폭 사이의 비를 조정할 수 있으며, 이 경우 상기 평판(200)을 통과하는 빔의 소멸비는 상기 평판(200)의 정렬에 무관하게 상기 스트라이프 무늬를 따라 형성된 굴절률이 높은 부분과 굴절률이 낮은 부분의 폭 사이의 비에 따라 안정적으로 유지된다.

상기한 바와 같이 상대적인 위상차를 발생시키기 위해 평판에 형성되는 패턴은 여러 가지 형태로 구성될 수 있다.

도 3은 상기한 평판(200)의 일 실시예로 주기적인 스트라이프(stripe) 패턴을 따라 요철을 제작하여 상대적으로 볼록한 부분과 오목한 부분을 지나는 빔 사이에 위상차를 유도할 수 있다. 상기 평판(200)은 동일한 굴절률 값을 가지지만 볼록한 부분과 오목한 부분의 단차로 인해 상대적인 위상차가 발생하게 되고, 상기 위상차의 정도는 이 단차의 정도에 의해 결정된다.

즉, 상기 스트라이프 무늬를 따라 형성된 요철이 빔 진행 수직방향에 위치하여, 입출력 광섬유를 통해 진행하는 빔의 일부에 위상차를 유도할 수 있다.

이러한 요철 모양 구조의 평판 제작 방식은 식각, 양자교환, 몰딩(molding) 등 반도체 공정에서부터 기계적인 방식까지 다양한 제조방식을 이용할 수 있다.

예를 들어, 도 3에 나타낸 마이크로 옵틱형 필터의 평판(200)은 스트라이프 패턴의 주기가 60㎛이고 폭이 30㎛인 반복률이 50:50 혹은 특정 소멸비를 유도하는 다른 비율인 소자를 네거티브 포토 레지스터(Nega PR)인 SU-8을 이용하여 제작될 수 있다. 여기서 SU-8은 MEMS용 애플리케이션 요소기술로 개발된 물질로 높은 열적, 화학적, 기계적 안정도를 가지며, 400nm이상의 파장대에서의 투명성, 높은 수직 종횡비(aspect ratio) 등 원하는 형상의 구조물 정밀하게 제작할 수 있으며, 폴리머 물질과 마찬가지로 스핀코터(spin coater)의 회전속도를 조정하여 원하는 두께의 박막을 얻을 수 있으므로 여러 분야에서 널리 사용되고 있다.

상기한 스트라이프 패턴이 식각된 평판(202)의 제작 공정을 설명하면 다음과 같다.

두께 500㎛인 Pyrex 유리기판위에 SU-8을 골고루 떨어뜨린 후, 스핀 코터(spin coater)의 회전속도 5000rpm으로 코팅하여 약 15㎛ 두께의 박막을 형성한다.

상기 코팅된 SU-8을 65℃에서 5분씩, 10℃씩 5분 간격으로 증가시키면서 20분 동안 소프트 베이킹(soft baking)시킨 후 온도를 서서히 낮추어 매질의 광학적 특성이 양호하도록 한다.

상기 스트라이프 패턴을 얼라이너(Aligner)를 이용 코팅된 박막에 최대한 근접시킨 다음 UV 램프를 이용 45초 노광한다. 여기서, 본 발명은 일반 Nega PR과는 다르게, 노광 후 베이킹(Post Expose Baking)을 수행하며, 상기 소프트 베이킹과 마찬가지로 65℃에서 5분씩 단계적으로 95℃까지 온도를 올리면서 베이킹한 후 서서히 온도를 낮추어 준다.

이후 SU-8 현상액(Developer)에서 2-3분간 현상한 후 이소프로필 알코올(IPA)을 이용하여 세척한 후 DI water로 세정함으로써, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 평판의 제작이 완료된다.

상기한 포토 폴리머를 이용한 기능성 재료를 이용하여 평판(200)을 제작하는 방법과 달리, 일반 폴리머를 스핀 코팅후 RIE(Reactive Ion Etching:반응이온식각법)를 이용하여 식각하거나, 크리스탈(crystal), 유리 기판 혹은 실리콘(Si), 갈륨비소(GaAs) 등 다른 종류의 다양한 반도체 기판들을 사용하여 제작하는 것도 가능하다.

상기한 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 마이크로 옵틱형 필터의 특성 측정결과를 통해 상기 마이크로 옵틱형 필터의 성능을 설명한다.

먼저, 상기한 공정에 따라 제작된 스트라이프 패턴이 식각된 평판(200)을 빔 직경이 500um인 C-lens형이며 최소 손실이 되게 정렬되며 동작거리는 약 12mm인 제1 및 제2콜리메이터(202,204)사이에 빔 진행 방향의 수직으로 삽입함으로써, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 마이크로 옵틱형 필터를 구성한다.

본 발명의 바람직한 실시예에 따른 평판(200)을 삽입한 마이크로 옵틱컬 필터의 전달특성을 백색광원(White Light Source: Anritsu, MZ922A)과 광 스펙트럼 분석기(Optical Spectrum Analyser: Ando, AQ)를 이용하여 측정한 전달특성 결과와 이론적인 전산모의 결과를 함께 나타낸 그래프이다.

주기적으로 식각된 스트라이프 패턴의 평판 삽입에 따른 초과 손실은 측정 범위는 1000nm에서 1600nm사이의 대역에서 2dB 미만의 값을 가진다.

전달특성의 최대와 최대 사이의 간격 혹은 최소와 최소사이의 간격을 나타내는 FSR(Free Spectral Range) 값은 동작파장변화에 따라 달라지는데 SU-8의 분산특성에 기인한 것이다. 측정 대역은 1000nm에서 1600nm대역에서 광스펙트럼 분석기의 해상도를 10nm로 측정을 하였으며 최대 소멸비는 측정 한계치인 25dB까지 측정되었다. 광 스펙터럼 분석기의 해상도는 10nm로 측정하였으며 이때의 동적 범위(dynamic range)는 약 20dB의 값을 가진다.

도 4는 파장가변광원(Tunable Laser Source: Agilent 8164A)을 이용하여 1510nm에서 1640nm 대역에서 0.5nm의 resolution으로 측정한 파장 전달 특성이다. 측정된 최대 소멸비는 약 35dB이상의 값을 가지며 삽입된 주기적으로 식각된 stripe 패턴 평판을 빔 수직 방향으로 이동시켰을 때도 2dB미만의 소멸비 변화를 나타내었다. 투과 특성의 리플은 공기와 샘플의 경계면에서 발생하는 페브리-페롯(Fabry-Perot) 간섭현상에 기인한다.

파장가변광원(Tunable Laser Source: Ando AQ 4321A)과 PDL 미터(Polarization Dependent Loss meter: JDS Uniphase, PS3550)를 이용하여 제작된 소자의 편광의존 특성을 측정하고, 상기 측정된 편광의존손실과 투과스펙트럼을 동시에 나타낸 도 6을 참조하면 편광의존손실과 투과스펙트럼은 통과대역에서 0.1dB 미만의 값을 가지며, 정지대역에서 최대 1.4dB미만을 값을 가진다.

상기한 바와 같이 본 발명은 스트라이프 패턴에 따라 주기적으로 식각된 평판을 빔 경로에 삽입함으로써 기존의 마이크로 옵틱형 필터와 달리 정렬에 무관하게 일정 소멸비 이상의 특성을 안정적으로 구현 가능하게 한다.

특히 상기 본 발명에 따르는 마이크로 옵틱형 필터의 삽입손실 2dB 미만이며, 35dB이상의 소멸비값을 얻을 수 있으며, 상기 평판의 이동에 따른 소멸비의 변화는 2dB 미만의 값으로 특정 소멸비 이상의 값을 정렬에 무관하게 구현할 수 있었다. 또한 편광의존 손실은 통과대역에서 0.15dB미만의 값을 가진다.

또한 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 마이크로 옵틱형 필터는 콜리메이터형 구현되므로 쉽고 안정적으로 제작할 수 있어 향후 다양한 광 응용 소자에 적용 가능하다.

상기한 본 발명은 빔 직경에 비해 작은 크기의 패턴이 반복되는 구조를 이용하여, 위치에 상관없이 빔에 일정한 위상경로차를 유도하는 것이다.

이에 상기한 실시 예에서는 상기 평판의 패턴을 스트라이프 패턴으로 예시하였으나, 빔 직경에 비해 작은 크기의 다각형이 반복되는 구조로 제작될 수도 있다. 여기서, 상기 다각형은 교호적으로 굴절률이 높거나 혹은 굴절률이 낮은 부분으로 제작된다. 또한 상기 굴절률이 높은 다각형과 굴절률이 낮은 않은 다각형의 비는 원하는 소멸비에 따라 조정될 수 있음은 본 발명에 의해 자명하다.

상기 다각형의 패턴이 형성된 다른 평판의 구조를 도 8을 참조하여 설명한다.

상기 도 8의 (a)는 교호적으로 굴절률 값이 낮은 사각형과 굴절률 값이 높은 사각형이 반복되는 패턴이 평판에 존재하는 예를 도시한 것으로, 상기 패턴은 평판을 통과하는 빔에 일정한 위상경로차가 유도되도록 한다.

도 8의 (b)는 교호적으로 굴절률 값이 낮은 마름모꼴과 굴절률 값이 높은 마름모꼴이 반복되는 패턴이 평판에 존재하는 예를 도시한 것으로, 상기 패턴은 평판을 통과하는 빔에 일정한 위상경로차가 유도되도록 한다.

도 8의 (c)는 교호적으로 굴절률 값이 낮은 육각형과 굴절률 값이 높은 육각형이 반복되는 패턴이 평판에 존재하는 예를 도시한 것으로, 상기 패턴은 평판을 통과하는 빔에 일정한 위상경로차가 유도되도록 한다.

도 8의 (d)는 교호적으로 굴절률 값이 높은 삼각형과 굴절률 값이 낮은 삼각형이 반복되는 패턴이 평판에 존재하는 예를 도시한 것으로, 상기 패턴은 평판을 통과하는 빔에 일정한 위상경로차가 유도되도록 한다.

상기한 바와 같이 본 발명은 일정한 위상경로차를 유도하는 패턴, 즉 스트라이프의 무늬를 따라 형성된 굴절률 분포가 높은 부분과 굴절률 분포가 낮은 부분이 반복적으로 나타나는 평판을 빔 경로에 삽입함으로써, 정렬에 무관하면서도 일정 소멸비 이상 또는 특정 소멸비의 값의 특성을 안정적으로 획득할 수 있게 하는 효과가 있다.

또 반도체 공정 기술 기반으로 평판을 제작할 수 있으므로, 다양한 물질을 기반으로 여러 가지 제작방식을 적용할 수 있으며, 다양한 구조의 평판을 대량으로 생산이 가능하게 하는 효과가 있다.

이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 이는 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.

따라서, 본 발명 사상은 아래에 기재된 특허청구범위에 의해서만 파악되어야 하고, 이의 균등 또는 등가적 변형 모두는 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.

Claims (7)

1. 삭제
2. 삭제
3. 마이크로 옵틱 간섭계형 필터에 있어서,

   광섬유로부터 입사되는 빔을 확장 및 시준화하여 출력하는 제1 콜리메이터와;

   확장된 빔을 입력받아 집속하여 광섬유로 출사하는 제2 콜리메이터; 및

   상기 제1 및 제2 콜리메이터 사이에 위치하며 주기적인 스트라이프 패턴에 따라 굴절률이 높은 부분과 굴절률이 낮은 부분이 일정 비율로 주기적으로 반복되게 형성되어, 정렬 특성이 없는 입출력 광섬유의 위상 차를 반복적으로 유도하여 회절에 의한 효과를 무시하도록 한 평판;을 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 옵틱 간섭계형 필터.
4. 제 3 항에 있어서,

   상기 굴절률이 높은 부분과 굴절률이 낮은 부분이 일정 비율로 주기적으로 반복 형성된 스트라이프 패턴은:

   삼각형, 사각형, 육각형, 마름모꼴 형상 중 어느 하나의 형상으로 형성되어, 상기 평판을 통과하는 빔에 일정한 위상 경로 차를 유도하는 것을 특징으로 하는 마이크로 옵틱 간섭계형 필터.
5. 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,

   상기 평판에서 상기 굴절률이 상이한 부분간의 비는 필터의 소멸비에 대응됨을 특징으로 하는 마이크로 옵틱 간섭계형 필터.
6. 제 3 항에 있어서, 상기 평판은:

   상기 굴절률이 높은 부분과 굴절률이 낮은 부분의 두께를 각각 다르게 형성한 것을 특징으로 하는 마이크로 옵틱 간섭계형 필터.
7. 제 3 항에 있어서, 상기 평판은,

   상기 스트라이프 패턴을 따라 요철로 제작하여 상대적으로 볼록한 부분과 오목한 부분을 지나는 빔 사이에 위상 차를 유도하도록 패턴을 형성한 것을 특징으로 하는 마이크로 옵틱 간섭계형 필터.

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