JP4873157B2 - 液体噴射ヘッドの製造方法 - Google Patents
液体噴射ヘッドの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4873157B2 JP4873157B2 JP2007014837A JP2007014837A JP4873157B2 JP 4873157 B2 JP4873157 B2 JP 4873157B2 JP 2007014837 A JP2007014837 A JP 2007014837A JP 2007014837 A JP2007014837 A JP 2007014837A JP 4873157 B2 JP4873157 B2 JP 4873157B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- forming
- nozzle
- substrate
- sacrificial layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Description
基板の上方に弾性板を形成する工程と、
前記弾性板の上方に下部電極を形成する工程と、
前記下部電極の上方に圧電体層を形成する工程と、
前記圧電体層の上方に上部電極を形成する工程と、
前記基板に開口部を形成する工程と、
前記基板を被覆するように該基板の下面側から保護層を形成する工程と、
前記保護層の形成後、前記開口部を埋めるように犠牲層を形成する工程と、
前記犠牲層の下方、および、前記保護層の直接下にノズル形成層を形成する工程と、
前記ノズル形成層をエッチングによりパターニングしてノズル孔を形成し、前記犠牲層を露出させる工程と、
前記犠牲層をエッチングにより除去して、圧力室を形成する工程と、を含む。
前記犠牲層の除去工程では、前記保護層および前記ノズル形成層のエッチング速度は、前記犠牲層のエッチング速度よりも遅いことができる。
前記保護層は、酸化タンタルからなるように形成され、
前記ノズル形成層は、酸化シリコンまたは窒化シリコンからなるように形成され、
前記犠牲層は、シリコンからなるように形成されることができる。
前記保護層は、酸化タンタルからなるように形成され、
前記ノズル形成層は、シリコンからなるように形成され、
前記犠牲層は、酸化シリコンまたは窒化シリコンからなるように形成されることができる。
前記基板の上方にエッチングストッパ層を形成する工程と、
前記エッチングストッパ層の少なくとも一部、前記弾性板の一部、および前記保護層の一部を除去して貫通孔を形成する工程と、
前記ノズル形成層の下面に液体貯留部の蓋部材を貼り付ける工程と、を有し、
前記開口部を形成する工程では、前記基板を前記エッチングストッパ層が露出するまでエッチングして、他の開口部を形成し、
前記犠牲層を形成する工程では、前記他の開口部を埋めるように該犠牲層を形成し、
前記ノズル形成層をパターニングする工程では、前記他の開口部に埋められた前記犠牲層を露出させる孔部を形成し、
前記圧力室を形成する工程では、前記犠牲層を除去して、液体貯留部を形成することができる。
圧力室に通じるノズル孔を有するノズル形成層と、
前記ノズル形成層の上方に設けられた前記圧力室を覆う保護層と、
前記圧力室の側方に前記保護層を介して設けられた基板と、
前記保護層および前記基板の上方に形成された弾性板と、
前記弾性板の上方に形成された下部電極と、
前記下部電極の上方に形成された圧電体層と、
前記圧電体層の上方に形成された上部電極と、を含み、
前記ノズル形成層は、前記保護層に接している。
上述した液体噴射ヘッドを有するヘッドユニットと、
前記ヘッドユニットを往復動させる駆動部と、
前記ヘッドユニットおよび前記駆動部を制御する制御部と、を含むことができる。
Claims (5)
- 基板の上方に弾性板を形成する工程と、
前記弾性板の上方に下部電極を形成する工程と、
前記下部電極の上方に圧電体層を形成する工程と、
前記圧電体層の上方に上部電極を形成する工程と、
前記基板に開口部を形成する工程と、
前記基板を被覆するように該基板の下面側から保護層を形成する工程と、
前記保護層の形成後、前記開口部を埋めるように犠牲層を形成する工程と、
前記犠牲層の下方、および、前記保護層の直接下にノズル形成層を形成する工程と、
前記ノズル形成層をエッチングによりパターニングしてノズル孔を形成し、前記犠牲層を露出させる工程と、
前記犠牲層をエッチングにより除去して、圧力室を形成する工程と、を含む、液体噴射ヘッドの製造方法。 - 請求項1において、
前記犠牲層の除去工程では、前記保護層および前記ノズル形成層のエッチング速度は、前記犠牲層のエッチング速度よりも遅い、液体噴射ヘッドの製造方法。 - 請求項1または2において、
前記保護層は、酸化タンタルからなるように形成され、
前記ノズル形成層は、酸化シリコンまたは窒化シリコンからなるように形成され、
前記犠牲層は、シリコンからなるように形成される、液体噴射ヘッドの製造方法。 - 請求項1または2において、
前記保護層は、酸化タンタルからなるように形成され、
前記ノズル形成層は、シリコンからなるように形成され、
前記犠牲層は、酸化シリコンまたは窒化シリコンからなるように形成される、液体噴射ヘッドの製造方法。 - 請求項1乃至4のいずれかにおいて、
前記基板の上方にエッチングストッパ層を形成する工程と、
前記エッチングストッパ層の少なくとも一部、前記弾性板の一部、および前記保護層の一部を除去して貫通孔を形成する工程と、
前記ノズル形成層の下面に液体貯留部の蓋部材を貼り付ける工程と、を有し、
前記開口部を形成する工程では、前記基板を前記エッチングストッパ層が露出するまでエッチングして、他の開口部を形成し、
前記犠牲層を形成する工程では、前記他の開口部を埋めるように該犠牲層を形成し、
前記ノズル形成層をパターニングする工程では、前記他の開口部に埋められた前記犠牲層を露出させる孔部を形成し、
前記圧力室を形成する工程では、前記犠牲層を除去して、液体貯留部を形成する、液体噴射ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007014837A JP4873157B2 (ja) | 2007-01-25 | 2007-01-25 | 液体噴射ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007014837A JP4873157B2 (ja) | 2007-01-25 | 2007-01-25 | 液体噴射ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008179076A JP2008179076A (ja) | 2008-08-07 |
JP4873157B2 true JP4873157B2 (ja) | 2012-02-08 |
Family
ID=39723344
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007014837A Active JP4873157B2 (ja) | 2007-01-25 | 2007-01-25 | 液体噴射ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4873157B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5692494B2 (ja) | 2010-03-16 | 2015-04-01 | セイコーエプソン株式会社 | インク組成物および記録方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3786178B2 (ja) * | 2001-01-23 | 2006-06-14 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法並びにインクジェット式記録装置 |
JP2006199580A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-08-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | セラミックス体の製造方法、及び、液体吐出ヘッドの製造方法 |
-
2007
- 2007-01-25 JP JP2007014837A patent/JP4873157B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008179076A (ja) | 2008-08-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8459783B2 (en) | Liquid ejecting head and liquid ejecting apparatus | |
JP5376157B2 (ja) | 液滴噴射ヘッド及び液滴噴射装置 | |
JP2011018723A (ja) | 圧電素子およびその製造方法、圧電アクチュエーター、液体噴射ヘッド、並びに、液体噴射装置 | |
JP2010137485A (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及びアクチュエーター装置並びに液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP2012059770A (ja) | 圧電素子、液滴噴射ヘッドおよび液滴噴射装置ならびにそれらの製造方法 | |
JP2006255972A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP5522346B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置 | |
JP5601440B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2011104850A (ja) | 液滴噴射ヘッド及び液滴噴射装置 | |
JP5454795B2 (ja) | 圧電素子の製造方法および液滴噴射ヘッドの製造方法 | |
JP5704303B2 (ja) | 圧電素子、圧電アクチュエーター、液体噴射ヘッド、および液体噴射装置 | |
JP2009051104A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP5212627B2 (ja) | 液体噴射ヘッドおよびプリンタ | |
JP4873157B2 (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP5605553B2 (ja) | 圧電素子、圧電アクチュエーター、液体噴射ヘッド、および液体噴射装置 | |
JP2012240366A (ja) | 圧電素子、液体噴射ヘッド、および液体噴射装置 | |
US9950514B2 (en) | Piezoelectric element, liquid ejecting head, and piezoelectric element device | |
JP5822057B2 (ja) | 圧電素子、圧電アクチュエーター、液体噴射ヘッド、および液体噴射装置 | |
JP2009202566A (ja) | 液体噴射ヘッドおよびその製造方法、並びに、プリンタ | |
JP2019025704A (ja) | Memsデバイスの製造方法、及び、memsデバイス | |
JP2011199106A (ja) | 圧電素子、圧電アクチュエーター、液滴噴射ヘッド及び液滴噴射装置並びに圧電素子の製造方法 | |
JP2009154433A (ja) | 液体噴射ヘッドおよびその製造方法 | |
JP5845617B2 (ja) | 圧電素子、液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置 | |
JP7342497B2 (ja) | 液体吐出ヘッド、液体吐出装置、および液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP2012076449A (ja) | 液滴吐出ヘッド、インクカートリッジ、画像形成装置、及び液滴吐出ヘッドの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080702 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091015 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110725 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110803 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111003 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111026 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111108 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141202 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4873157 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |