JP2008179076A - 液体噴射ヘッドおよびその製造方法、並びに、プリンタ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係る液体噴射ヘッド100は,基板10の上方に弾性板12を形成する工程と、弾性板の上方に下部電極22を形成する工程と、下部電極の上方に圧電体層24を形成する工程と、圧電体層の上方に上部電極26を形成する工程と、基板に開口部を形成する工程と、基板を被覆するように基板の下面側から保護層16を形成する工程と、保護層の形成後、開口部を埋めるように犠牲層を形成する工程と、犠牲層の下方、および、保護層の直接下にノズル形成層18を形成する工程と、ノズル形成層をエッチングによりパターニングしてノズル孔60を形成し、犠牲層を露出させる工程と、犠牲層をエッチングにより除去して、圧力室64を形成する工程と,を含む。
【選択図】図1
Description
基板の上方に弾性板を形成する工程と、
前記弾性板の上方に下部電極を形成する工程と、
前記下部電極の上方に圧電体層を形成する工程と、
前記圧電体層の上方に上部電極を形成する工程と、
前記基板に開口部を形成する工程と、
前記基板を被覆するように該基板の下面側から保護層を形成する工程と、
前記保護層の形成後、前記開口部を埋めるように犠牲層を形成する工程と、
前記犠牲層の下方、および、前記保護層の直接下にノズル形成層を形成する工程と、
前記ノズル形成層をエッチングによりパターニングしてノズル孔を形成し、前記犠牲層を露出させる工程と、
前記犠牲層をエッチングにより除去して、圧力室を形成する工程と、を含む。
前記犠牲層の除去工程では、前記保護層および前記ノズル形成層のエッチング速度は、前記犠牲層のエッチング速度よりも遅いことができる。
前記保護層は、酸化タンタルからなるように形成され、
前記ノズル形成層は、酸化シリコンまたは窒化シリコンからなるように形成され、
前記犠牲層は、シリコンからなるように形成されることができる。
前記保護層は、酸化タンタルからなるように形成され、
前記ノズル形成層は、シリコンからなるように形成され、
前記犠牲層は、酸化シリコンまたは窒化シリコンからなるように形成されることができる。
前記基板の上方にエッチングストッパ層を形成する工程と、
前記エッチングストッパ層の少なくとも一部、前記弾性板の一部、および前記保護層の一部を除去して貫通孔を形成する工程と、
前記ノズル形成層の下面に液体貯留部の蓋部材を貼り付ける工程と、を有し、
前記開口部を形成する工程では、前記基板を前記エッチングストッパ層が露出するまでエッチングして、他の開口部を形成し、
前記犠牲層を形成する工程では、前記他の開口部を埋めるように該犠牲層を形成し、
前記ノズル形成層をパターニングする工程では、前記他の開口部に埋められた前記犠牲層を露出させる孔部を形成し、
前記圧力室を形成する工程では、前記犠牲層を除去して、液体貯留部を形成することができる。
圧力室に通じるノズル孔を有するノズル形成層と、
前記ノズル形成層の上方に設けられた前記圧力室を覆う保護層と、
前記圧力室の側方に前記保護層を介して設けられた基板と、
前記保護層および前記基板の上方に形成された弾性板と、
前記弾性板の上方に形成された下部電極と、
前記下部電極の上方に形成された圧電体層と、
前記圧電体層の上方に形成された上部電極と、を含み、
前記ノズル形成層は、前記保護層に接している。
上述した液体噴射ヘッドを有するヘッドユニットと、
前記ヘッドユニットを往復動させる駆動部と、
前記ヘッドユニットおよび前記駆動部を制御する制御部と、を含むことができる。
Claims (7)
- 基板の上方に弾性板を形成する工程と、
前記弾性板の上方に下部電極を形成する工程と、
前記下部電極の上方に圧電体層を形成する工程と、
前記圧電体層の上方に上部電極を形成する工程と、
前記基板に開口部を形成する工程と、
前記基板を被覆するように該基板の下面側から保護層を形成する工程と、
前記保護層の形成後、前記開口部を埋めるように犠牲層を形成する工程と、
前記犠牲層の下方、および、前記保護層の直接下にノズル形成層を形成する工程と、
前記ノズル形成層をエッチングによりパターニングしてノズル孔を形成し、前記犠牲層を露出させる工程と、
前記犠牲層をエッチングにより除去して、圧力室を形成する工程と、を含む、液体噴射ヘッドの製造方法。 - 請求項1において、
前記犠牲層の除去工程では、前記保護層および前記ノズル形成層のエッチング速度は、前記犠牲層のエッチング速度よりも遅い、液体噴射ヘッドの製造方法。 - 請求項1または2において、
前記保護層は、酸化タンタルからなるように形成され、
前記ノズル形成層は、酸化シリコンまたは窒化シリコンからなるように形成され、
前記犠牲層は、シリコンからなるように形成される、液体噴射ヘッドの製造方法。 - 請求項1または2において、
前記保護層は、酸化タンタルからなるように形成され、
前記ノズル形成層は、シリコンからなるように形成され、
前記犠牲層は、酸化シリコンまたは窒化シリコンからなるように形成される、液体噴射ヘッドの製造方法。 - 請求項1乃至4のいずれかにおいて、
前記基板の上方にエッチングストッパ層を形成する工程と、
前記エッチングストッパ層の少なくとも一部、前記弾性板の一部、および前記保護層の一部を除去して貫通孔を形成する工程と、
前記ノズル形成層の下面に液体貯留部の蓋部材を貼り付ける工程と、を有し、
前記開口部を形成する工程では、前記基板を前記エッチングストッパ層が露出するまでエッチングして、他の開口部を形成し、
前記犠牲層を形成する工程では、前記他の開口部を埋めるように該犠牲層を形成し、
前記ノズル形成層をパターニングする工程では、前記他の開口部に埋められた前記犠牲層を露出させる孔部を形成し、
前記圧力室を形成する工程では、前記犠牲層を除去して、液体貯留部を形成する、液体噴射ヘッドの製造方法。 - 圧力室に通じるノズル孔を有するノズル形成層と、
前記ノズル形成層の上方に設けられた前記圧力室を覆う保護層と、
前記圧力室の側方に前記保護層を介して設けられた基板と、
前記保護層および前記基板の上方に形成された弾性板と、
前記弾性板の上方に形成された下部電極と、
前記下部電極の上方に形成された圧電体層と、
前記圧電体層の上方に形成された上部電極と、を含み、
前記ノズル形成層は、前記保護層に接している、液体噴射ヘッド。 - 請求項6に記載の液体噴射ヘッドを有する、プリンタ。
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JP2002210988A (ja) * | 2001-01-23 | 2002-07-31 | Seiko Epson Corp | インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法並びにインクジェット式記録装置 |
JP2006199580A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-08-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | セラミックス体の製造方法、及び、液体吐出ヘッドの製造方法 |
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2007
- 2007-01-25 JP JP2007014837A patent/JP4873157B2/ja active Active
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