JP4872735B2 - マレイミド基含有ポリノルボルネンを用いた新規光導波路 - Google Patents
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例えば、光学物性・耐吸水性等に優れるポリノルボルネン(PNB)を用いた光導波路が研究されている(特許文献1、特許文献2)。また、光学材料として、耐熱性、エッチング耐性、接着性等に優れるマレイミドとノルボルネンの共重合体が研究されている(特許文献3、特許文献4、特許文献5)。しかしながら、ポリマー材料の透明性が不十分で吸収損失が高くなる場合や、形成されるコア形状の均一性に問題があって散乱損失が高くなる場合があるなど、要求特性を十分に満たすポリマー材料の開発は、いまだ達成されていない。
また、本発明によれば、コア部の形成において、ラジカル発生剤等の光開始剤を添加しなくても十分に架橋反応が促進されるので、コア部に着色が生じることなく、光伝播損失の増大を防ぐことができる。
特に限定されないが、下部クラッド1の厚み(縦方向)は、約5〜約50μmであるのが好ましく、上部クラッド3の厚み(縦方向)はコア部2よりも約5〜約50μm厚いことが好ましい。
特に限定されないが、そのようなラジカル発生剤としては、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイドなどが挙げられる。
また、特に限定されないが、そのような光酸発生剤としては、化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物が用いられ、例えば、トリフェノルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモン等が挙げられる。
特に限定されないが、光ラジカル発生剤の例としては2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイドなどが挙げられる。
特に限定されないが光増感剤の例としては2−クロルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロプロポキシチオキサントンなどのチオキサントン類や2,3−ジクロロ−5,6ジシアノベンゾキノン、アントラキノンなどのキノン類などが挙げられる。
上記ポリマーが、上記第一及び第二の反復単位から構成されるコポリマーである場合、特に限定されないが、第二の反復単位は、上記ポリマーの反復単位を形成するモノマーの総モルパーセントに対して、5〜95モルパーセント、好ましくは20〜95モルパーセント、更に好ましくは40〜80モルパーセントの割合で配合することができる。さらに、上記ポリマーが、第一、第二及び第三の反復単位から構成されるターポリマーである場合、特に限定されないが、第二及び第三の反復単位の合計は、上記ポリマーの反復単位を形成するモノマーの総モルパーセントに対して、5〜95モルパーセント、好ましくは20〜95モルパーセント、更に好ましくは40〜80モルパーセントの割合で配合することができる。上記範囲外でも使用できるが、これより少ないと屈折率の調整効果が不十分となることがあり、これより多いとマレイミド基による光架橋反応が不十分になることがある。特に限定されないが、これらの基を有するモノマーの例としてフェネチルノルボルネン、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランなどが挙げられる。
上記ポリマーが、第一及び第二の反復単位から構成されるコポリマーである場合、特に限定されないが、第二の反復単位は、上記ポリマーの反復単位を形成するモノマーの総モルパーセントに対して、5〜95モルパーセント、好ましくは20〜95モルパーセント、更に好ましくは40〜80モルパーセントの割合で配合することができる。さらに、上記ポリマーが第一、第二及び第三の反復単位から構成されるターポリマーである場合、特に限定されないが、第二及び第三の反復単位の合計は、上記ポリマーの反復単位を形成するモノマーの総モルパーセントに対して、5〜95モルパーセント、好ましくは20〜95モルパーセント、更に好ましくは40〜80モルパーセントの割合で配合することができる。上記範囲外でも使用できるが、これより少ないと柔軟性の向上効果が不十分となることがあり、これより多いとマレイミド基による光架橋反応が不十分になることがある。特に限定されないが、これらの基を有するモノマーの例としてデシルノルボルネン、ヘキシルノルボルネン、ブチルノルボルネンなどが挙げられる。
上記一実施形態において、上記ポリマーが、第一及び第二の反復単位から構成されるコポリマーである場合、上記ポリマーの反復単位の総モルパーセントに対して、第一の反復単位の量は5〜95モルパーセント、好ましくは20〜60モルパーセントであり、第二の反復単位の量は5〜95モルパーセント、好ましくは40〜80モルパーセントの範囲である。
上記一実施形態において、上記ポリマーが、第一、第二及び第三の反復単位から構成されるターポリマーである場合、上記ポリマーの反復単位の総モルパーセントに対して、第一の反復単位の量は5〜95モルパーセント、好ましくは20〜60モルパーセントであり、第二及び第三の反復単位の量の合計は5〜95モルパーセント、好ましくは40〜80モルパーセントの範囲である。
また、本発明の一実施形態において、上記コア部から構成される上記光導波路の光伝播損失は、0.1dB/cm(850nm)以下であり、更に好ましくは、0.05dB/cm以下である。
1.コア用ワニスの調製
(1)コア用ベースポリマー
表1に示す(共)重合比のホモポリマー、コポリマー及びターポリマーを使用してコア用ワニス溶液を調製した。
調製に当たっては、先ず、表2に示す組成の割合(重量比)で、各コア用ベースポリマーをメシチレン中で攪拌、混合した。次いで、シランカップリング剤(エポキシシラン:γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランあるいはメタクリルシラン:γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン)を添加、攪拌し、溶解した。得られた溶液を0.2μmの細孔のフィルターでろ過し異物を取り除いた。
調製に当たっては、先ず、液状脂環式エポキシ化合物(ダイセル化学工業株式会社製CEL−2021P)/液状オキセタン化合物(東亜合成株式会社製OX−SQ)/酸発生剤(株式会社アデカ製SP−170)(80wt/20wt/3wt)を攪拌して混合した。得られた液を0.2μmの細孔のフィルターでろ過し異物を取り除いた。クラッド材は実施例1〜22において全て同一のものを使用した。
(1)下部クラッド形成
基板(Siウェハ)上に、クラッド用ワニス溶液を、塗布(スピンコータで1000rpm/30sec)し、露光機で全面に紫外線を照射(700mJ/cm2)して硬化させた。さらに、ホットプレート(150℃/10分)に置いて加熱した。
(2)コア形成
上記コア用ワニス溶液を、それぞれ上記クラッド上に塗布(アプリケータで乾燥後に35μm厚となるように)し、その後ホットプレート(50℃/10分)に置いて溶剤を乾燥させた。
導波路パターンのフォトマスク(明部/暗部=35μm/90μmのライン/スペース)越しに紫外線を照射して、パターニングを行なった。パターニング時の紫外線露光量を以下の表3に示す。
パターニング処理後のサンプルを、ホットプレート(45℃/20分)に置いて加熱した。
(5)現像
加熱処理後のサンプルを、下記表4に示す組成の現像液に2分間浸漬し、未露光部分を溶解させた。
得られた光導波路サンプルの伝搬損失を「カットバック法」を使用して測定した。レーザーダイオードから発生させた光(850nm)を、光ファイバーを通して、各ワニス溶液から形成した導波路のコアの第一の端部に入力した。導波路はある長さを有している。反対側の第二の端部からの出力を測定した。導波路は少なくとも2つの長さに短く「カットバック」され、各長さの導波路に対して第二の端部での光出力を測定した。
各測定での総光損失は下記である。
総光損失(dB) = -10log(Pn/Po)
ここで、「Pn」はP1、P2、…Pnの各長さの導波路の第二の端部での測定された出力であり、「Po」は、光ファイバーを導波路のコアの第一の端部に結合する前の光ファイバーの端部における光源の測定出力である。次に、総光損失は、図2のグラフのようにプロットされる。このデータの最も真っ直ぐな線が下記式によって表わされる。
y=mx+b
ここで、「m」は伝搬損失であり、「b」は結合損失(coupling loss)である。
Decyl/DMMI(70/30)コポリマー及びPhenetyl/Decyl/DMMI(40/30/30)ターポリマーについて、紫外線照射による屈折率の変化及びガラス転移点(Tg)の変化を測定した。
各ポリマーを、ガラスプレート上に均一な厚みとなるようにドクターブレードを用いて塗布した。次いで、紫外線を照射し、150℃で30分間加熱した。屈折率計(Metricon社製)を用いて、紫外線照射線量を変化させた場合の屈折率を測定した。測定結果を以下の表6に示す。
各フィルムサンプルについて、紫外線照射線量を変化させた場合のTg及び線膨張係数を、熱機械測定装置(引っ張り法:荷重30mN、昇温速度5℃/分、空気中)を用いて測定した。測定結果を以下の表7に示す。
2 コア部
3 上部クラッド
Claims (17)
- 光を伝搬するためのコア部と、前記コア部と接し、前記コア部より屈折率の小さいクラッド部を備えた光導波路であって、前記コア部が、式(I)で示される第一の反復単位:
- R5および/またはR6がメチル基であることを特徴とする請求項1に記載の光導波路。
- 前記第二の反復単位が、X’が-CH2-であり;m’が0であり;及びR1’、R2’、R3’及びR4’の少なくとも一つが、直鎖状のC1-C25ヒドロカルビル、ハロヒロドカルビル又はパーハロカルビル、アリール又はアラルキルペンダント基であって、一又は複数のO、N、S及びSiから選択されるヘテロ原子を含むもの、又は直鎖状のC1-C25ヒドロカルビル、ハロヒロドカルビル又はパーハロカルビル、アリール又はアラルキルペンダント基から選択されるものであり、R1’、R2’、R3’及びR4’の残りがHであることを特徴とする請求項3に記載の光導波路。
- 前記ポリマーが、上記式(IV):
- 前記第三の反復単位が、X”が-CH2-であり;m”が0であり;及びR1”、R2”、R3”及びR4”の少なくとも一つが、直鎖状のC1-C25ヒドロカルビル、ハロヒロドカルビル又はパーハロカルビル、アリール又はアラルキルペンダント基であって、一又は複数のO、N、S及びSiから選択されるヘテロ原子を含むもの、又は直鎖状のC1-C25ヒドロカルビル、ハロヒロドカルビル又はパーハロカルビル、アリール又はアラルキルペンダント基であり、R1”、R2”、R3”及びR4”の残りがHであることを特徴とする請求項5に記載の光導波路。
- 前記第二の反復単位が、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランである請求項3ないし6のいずれか1項に記載の光導波路。
- 前記第三の反復単位が、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシランである請求項5又は6に記載の光導波路。
- 前記ポリマーを構成する反復単位の総モルパーセントに対して、前記第一の反復単位の量が5〜100モルパーセントの範囲であることを特徴とする請求項1又は2に記載の光導波路。
- 前記ポリマーが、第一及び第二の反復単位から構成されるコポリマーであり、ポリマーを構成する反復単位の総モルパーセントに対して、前記第一の反復単位の量が5〜95モルパーセントの範囲であり、前記第二の反復単位の量が5〜95モルパーセントの範囲であることを特徴とする請求項3又は4に記載の光導波路。
- 前記ポリマーが、第一及、第二及び第三の反復単位から構成されるターポリマーであり、ポリマーを構成する反復単位の総モルパーセントに対して、前記第一の反復単位の量が5〜95モルパーセントの範囲であり、前記第二及び第三の反復単位の量の合計が5〜95モルパーセントの範囲であることを特徴とする請求項5又は6に記載の光導波路。
- 前記ポリマーの重量平均分子量(Mw)が、10000〜500000の範囲であることを特徴とする請求項1ないし11のいずれか1項に記載の光導波路。
- 前記ポリマーマトリックスが、光開始剤を含有しないことを特徴とする請求項1ないし12のいずれか1項に記載の光導波路。
- 前記ポリマーマトリックスが、密着助剤を更に含有することを特徴とする請求項1ないし13のいずれか1項に記載の光導波路。
- 前記コア部のガラス転移点が250℃以上であることを特徴とする請求項1ないし14のいずれか1項に記載の光導波路。
- 光を伝搬するためのコア部と、前記コア部と接し、前記コア部より屈折率の小さいクラッド部を備えた光導波路の製造方法であって、式(I)で示される第一の反復単位:
- 光照射により架橋された部分以外のポリマーマトリックスを現像液に溶解除去することによりコア部の形状を形成することを特徴とする請求項16に記載の光導波路の製造方法。
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