JP4871261B2 - ジフルオロメタン、1,1,1−トリフルオロエタンおよび1,1−ジフルオロエタンの製造方法 - Google Patents
ジフルオロメタン、1,1,1−トリフルオロエタンおよび1,1−ジフルオロエタンの製造方法 Download PDFInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims abstract description 20
- NPNPZTNLOVBDOC-UHFFFAOYSA-N 1,1-difluoroethane Chemical compound CC(F)F NPNPZTNLOVBDOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 15
- RWRIWBAIICGTTQ-UHFFFAOYSA-N difluoromethane Chemical compound FCF RWRIWBAIICGTTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 46
- UJPMYEOUBPIPHQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoroethane Chemical compound CC(F)(F)F UJPMYEOUBPIPHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 58
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 49
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 claims abstract description 20
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 17
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims abstract description 11
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- XWCDCDSDNJVCLO-UHFFFAOYSA-N Chlorofluoromethane Chemical compound FCCl XWCDCDSDNJVCLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloroethene Chemical group ClC(Cl)=C LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- UKDOTCFNLHHKOF-FGRDZWBJSA-N (z)-1-chloroprop-1-ene;(z)-1,2-dichloroethene Chemical group C\C=C/Cl.Cl\C=C/Cl UKDOTCFNLHHKOF-FGRDZWBJSA-N 0.000 claims description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 abstract description 25
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 11
- -1 1,1-dichloroethylene, 1,2-dichloroethylene, 1,2-dichloroethane Chemical class 0.000 abstract description 9
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 abstract description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 9
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 6
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000792 Monel Inorganic materials 0.000 description 3
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 3
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005826 halohydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000020004 porter Nutrition 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1-fluoroethane Chemical compound CC(F)(Cl)Cl FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHNZEZWIUMJCGF-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1,1-difluoroethane Chemical compound CC(F)(F)Cl BHNZEZWIUMJCGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004604 Blowing Agent Substances 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDIBGQFKXXXXPN-UHFFFAOYSA-N bismuth(3+) Chemical class [Bi+3] JDIBGQFKXXXXPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910021563 chromium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002984 plastic foam Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H sodium hexametaphosphate Chemical compound [Na]OP1(=O)OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])O1 GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- SYRHIZPPCHMRIT-UHFFFAOYSA-N tin(4+) Chemical class [Sn+4] SYRHIZPPCHMRIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUOWTJMRMWQJDA-UHFFFAOYSA-J tin(iv) fluoride Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[Sn+4] YUOWTJMRMWQJDA-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- FTBATIJJKIIOTP-UHFFFAOYSA-K trifluorochromium Chemical compound F[Cr](F)F FTBATIJJKIIOTP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000003681 vanadium Chemical class 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/06—Halogens; Compounds thereof
- B01J27/125—Halogens; Compounds thereof with scandium, yttrium, aluminium, gallium, indium or thallium
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/16—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
- B01J23/20—Vanadium, niobium or tantalum
- B01J23/22—Vanadium
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/06—Halogens; Compounds thereof
- B01J27/08—Halides
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/06—Halogens; Compounds thereof
- B01J27/135—Halogens; Compounds thereof with titanium, zirconium, hafnium, germanium, tin or lead
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/22—Halogenating
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- C07C17/208—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction the other compound being MX
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- C07C17/21—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms with simultaneous increase of the number of halogen atoms
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- C07C19/00—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms
- C07C19/08—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms containing fluorine
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
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Description
本発明は、ジフルオロメタン(HFC-32)、1,1,1-トリフルオロエタン(HFC-143a)および1,1-ジフルオロエタン(HFC-152a)を製造するための改良された方法であって、現在ある製造方法よりも経済的で腐食性の低い方法に関する。さらに本発明は、所望の生成物について現行の製造方法よりも選択性が高いと考えられる低温気相方法によって冷媒を製造するものである。
機械的な冷却装置(refrigeration systems)、および熱ポンプや空調装置など冷却性液体を用いる関連する熱伝達装置は、工業上や商業上の用途および家庭用の用途について当分野において周知である。クロロフルオロカーボン類(CFCs)は、そのような装置のための冷媒として1930年代に開発された。しかし、1980年代以来、成層圏のオゾン層に及ぼすCFCsの影響について大きな関心が向けられるようになった。1987年に多くの政府は、CFC製品を段階的に廃止するための計画を表明した地球環境を保護するためのモントリオール協定に調印した。この協定に対するその後の修正は、これらCFCsの段階的廃止を加速させ、またHCFCsの段階的廃止も予定することとした。従って、これらCFCsとHCFCsに代わる不燃性で非毒性の代替物に対する要求が存在する。そのような要求に答えて、工業界はゼロオゾン破壊可能性を有する多くのヒドロフルオロカーボン類(HFCs)を開発した。
本発明は、ジフルオロメタン(HFC-32)、1,1,1-トリフルオロエタン(HFC-143a)および1,1-ジフルオロエタン(HFC-152a)から選択される少なくとも一つのヒドロフルオロカーボンを製造するための方法を含み、この方法は以下の工程を含む気相プロセスである:
(a) 反応容器を用意し、
(b) 反応容器の中に強いルイス酸フッ素化触媒を含ませた活性炭を供給し、このとき強いルイス酸触媒はAs、Sb、Al、Tl、In、V、Nb、Ta、Ti、ZrおよびHfのハロゲン化物から選択され、
(c) 強いルイス酸フッ素化触媒を含ませた活性炭に無水フッ化水素ガスと塩素ガスを通すことによって触媒を活性化させ、
(d) 活性化した触媒を収容している反応容器の中で、気体状態において、フッ化水素と、クロロフルオロメタン、ジクロロメタン、1,1,1-トリクロロエタン、塩化ビニル、1,1-ジクロロエチレン、1,2-ジクロロエチレン、1,2-ジクロロエタン、および1,1-ジクロロエタンからなる群から選択される1以上のハロゲン化炭化水素とを、これら塩素化炭化水素反応物質に対応するヒドロフルオロカーボン生成物、塩化水素、未反応の塩素化炭化水素反応物質、および未反応のフッ化水素からなる生成物流れが生成する時間と温度において接触させ、そして
(e) 生成物流れからヒドロフルオロカーボン生成物を分離する。
概して言えば、本発明の方法は、強いルイス酸フッ素化触媒を活性炭に含ませることによって気相フッ素化触媒を供給することを含む。次いで、用意された担持されたフッ素化触媒は、あらゆる適当な反応容器(例えば金属チューブ反応器または金属パイプ反応器)の中に装填され、それによって触媒床が作られる。反応容器は好ましくは、ニッケルやハステロイ(登録商標)、インコネル(登録商標)およびモネル(登録商標)などのニッケル含有合金のような、フッ化水素の腐食効果に対して耐性のある材料から構成される。あるいは、フルオロポリマーで裏打ちされた反応容器も適当であろう。次いで、この触媒を添加した活性炭の床は活性化される。活性化工程は、床にCl2ガスと無水フッ化水素(AHF)ガスを約20℃〜約400℃の中程度の温度で、より好ましくは約40℃〜約300℃の温度で、そして最も好ましくは約50℃〜約200℃の温度で通すものである。フッ素化触媒を有効に活性化するのに十分なあらゆる適当な量の塩素ガスと無水フッ化水素を、この目的のために用いてもよい。一般に、フッ素化触媒の1モル当り最低で約1モルの塩素ガスが、触媒の活性化のために用いられる。通常、この目的のために用いられる塩素ガスの量は、触媒の1モル当り塩素ガスが約1モル〜約10モル、好ましくは約2モル〜約8モル、そして特に約3モル〜約5モルである。一般に、フッ素化触媒の1モル当り最低で約3モルの無水フッ化水素ガスが、触媒の活性化のために用いられる。通常、この目的のために用いられる無水フッ化水素ガスの量は、触媒の1モル当り無水フッ化水素ガスが約3モル〜約10モル、好ましくは約3モル〜約8モル、そして特に約3モル〜約5モルである。
気相フッ素化反応が、直径2.54cm×長さ81cmのモネル(登録商標)反応器の中で行なわれた。反応器は電気炉を用いて加熱された。反応器の前に気化器が設けられ、これも電気的に加熱されたが、この気化器は反応器への供給物の全てが反応領域に入る前に確実に気体状態になるようにするものである。以下の方法によって調製されそして活性化された242mlのSbCl5担持触媒が、反応器に装填された。このSbCl5触媒は、Calgon PCB(4×10メッシュ)活性炭(340ml)にSbCl5(169g)を含浸させることによって調製された。これが反応器に装填され、そして使用する前に反応器の中で活性化された。活性化の手順は次の通りであった。最初に、20ml/分の窒素が触媒に流された。この窒素雰囲気の中で反応器は100℃まで加熱された。次いで、無水HFと塩素が、それぞれ0.25g/分および0.3g/分で反応器を通して1時間流された。その時間が経過した後、塩素の流れは停止され、一方、HFとN2は続けて触媒床に流通された。塩素の流量はHastingsの質量流量計と制御器を用いて測定された。HFの流量は、Honeywell PlantScape DCS(Distributive Control System:分配制御装置)につながったPorter Liquiflow質量流量計によって制御されて測定され、そしてソースシリンダー(source cylinder)における重量変化によって確認された。
触媒が、実施例1で説明したのと同じ調製と活性化の手順に供された。次いで、反応器は大気圧において180℃まで加熱され、そしてHF とHCC-30の供給が実施例1におけるのと同じ流量で再開された。新しい接触時間は約7.25秒だった。これらの条件において反応は約9時間続けられ、その間に反応器からの流出物は再び直接採取されてインラインGCに供された。モル基準でのHCC-30の転化率は96.74%であった。モル%基準でのHFC-32の選択率は96.93%で、中間物質であるHCFC-31は2.16%の選択率を有していた。GC/MSによって認められた主な不純物はHCC-40であり、その選択率は0.88モル%であった。
実施例1および2におけるのと同様に、気相フッ素化反応が、同じく直径2.54cm×長さ81cmのモネル(登録商標)反応器の中で行なわれ、反応器の前に気化器が設けられた。反応器は電気炉を用いて加熱された。実施例1で説明したのと同じ手順によって調製されそして活性化された100mlのSbCl5担持触媒が、反応器に装填された。反応器は100℃および大気圧に維持された。HFの流量は0.35g/分に調整され、そして1,1-ジクロロエチレン(VDC)の流入が0.28g/分で開始された。これは、およそ8:1のHF 対VDCのモル比を与えた。接触時間は約10秒だった。これらの条件において、安定した反応条件に達するまで反応が続けられた。実施例1および2で説明したのと同様にして、反応器からの流出試料を直接採取してインラインGCに供することによって、反応が監視された。モル基準でのVDCの転化率は95%以上であった。所望のHFC-143a生成物はこれらの条件において良好な収率(モル基準で80%以上)で生成され、他の生成物の大部分は中間物質であるHCFC-141bおよびHCFC-142bであった。
先の実施例で説明したのと同様の手順において、ハロゲン化炭化水素反応物質として塩化ビニルを用いたとき、触媒を用いた本発明の気相反応において1,1-ジフルオロエタン(HFC-152a)が生成された。
Claims (5)
- ジフルオロメタン(HFC-32)、1,1,1-トリフルオロエタン(HFC-143a)および1,1-ジフルオロエタン(HFC-152a)からなる群から選択される少なくとも一つのヒドロフルオロカーボンを製造するための方法であって、
(a) 反応容器を用意し、
(b) 反応容器の中に強いルイス酸フッ素化触媒を含ませた活性炭を供給し、このとき強いルイス酸触媒はAs、Sb、Al、Tl、In、V、Nb、Ta、Ti、ZrおよびHfのハロゲン化物からなる群から選択され、
(c) 強いルイス酸フッ素化触媒を含ませた活性炭に無水フッ化水素ガスと塩素ガスを通すことによって触媒を活性化させ、
(d) 活性化した触媒を収容している反応容器の中で、気体状態において、フッ化水素と、クロロフルオロメタン、ジクロロメタン、1,1,1-トリクロロエタン、塩化ビニル、1,1-ジクロロエチレン、1,2-ジクロロエチレン、1,2-ジクロロエタン、および1,1-ジクロロエタンからなる群から選択される1以上のハロゲン化炭化水素とを、これらハロゲン化炭化水素に対応するヒドロフルオロカーボン生成物と、塩化水素、未反応のハロゲン化炭化水素、不十分にフッ素化された中間物質、および未反応のフッ化水素のうちの1以上とを含む生成物流れが生成する1〜120秒、40〜400℃の温度において接触させ、そして
(e) 生成物流れからヒドロフルオロカーボン生成物を分離する、
以上の工程を含む方法。 - 工程(d)におけるフッ化水素とハロゲン化炭化水素は、反応容器の中に導入される前に気体状の段階まで予熱される、請求項1に記載の方法。
- 工程(d)におけるフッ化水素とハロゲン化炭化水素は、反応容器の中に導入される前に、40〜400℃の加熱された気体状の段階まで予熱される、請求項2に記載の方法。
- 工程(d)におけるハロゲン化炭化水素はジクロロメタンを含み、そしてヒドロフルオロカーボン生成物はジフルオロメタンを含む、請求項1に記載の方法。
- 工程(d)における反応は連続式の反応として行なわれ、そしてヒドロフルオロカーボン生成物が分離された生成物流れの中の不十分にフッ素化された中間物質は反応容器へ再循環して戻される、請求項1に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/816,447 | 2004-04-01 | ||
US10/816,447 US7112708B2 (en) | 2004-04-01 | 2004-04-01 | Method of making difluoromethane, 1,1,1-trifluoroethane and 1,1-difluoroethane |
PCT/US2005/011125 WO2005097716A1 (en) | 2004-04-01 | 2005-03-31 | Method of making difluoromethane, 1,1,1-trifluoroethane and 1,2-difluoroethane |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007531732A JP2007531732A (ja) | 2007-11-08 |
JP2007531732A5 JP2007531732A5 (ja) | 2008-04-24 |
JP4871261B2 true JP4871261B2 (ja) | 2012-02-08 |
Family
ID=34964830
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007506320A Expired - Fee Related JP4871261B2 (ja) | 2004-04-01 | 2005-03-31 | ジフルオロメタン、1,1,1−トリフルオロエタンおよび1,1−ジフルオロエタンの製造方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7112708B2 (ja) |
EP (2) | EP2336101B1 (ja) |
JP (1) | JP4871261B2 (ja) |
KR (1) | KR101163528B1 (ja) |
CN (1) | CN100526271C (ja) |
AT (1) | ATE556043T1 (ja) |
ES (2) | ES2386898T3 (ja) |
WO (1) | WO2005097716A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7608574B2 (en) * | 2006-08-17 | 2009-10-27 | Honeywell International Inc. | Azeotropic or azeotropic-like compositions of 1,1,1-trifuoroethane and 1-chloro-2,2,2-trifluoroethane |
KR101270583B1 (ko) * | 2011-08-25 | 2013-06-03 | 한국과학기술연구원 | 초임계유체공정에 의한 클로로디플루오로메탄으로부터 디플루오로메탄을 제조하는 방법 |
JP5807690B2 (ja) * | 2013-04-25 | 2015-11-10 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素オレフィンの製造方法 |
CN104140353A (zh) * | 2014-07-18 | 2014-11-12 | 江西格美氟化工有限公司 | 偏氯乙烯液相一步氟化制1,1,1-三氟乙烷的方法 |
CN104785306B (zh) * | 2015-03-18 | 2017-12-22 | 巨化集团技术中心 | 一种气相裂解三氯乙烷制备顺式二氯乙烯的镁基催化剂的原位活化和评价方法 |
CN109734550B (zh) * | 2019-02-25 | 2023-06-30 | 内蒙古永和氟化工有限公司 | 一种1,1-二氟乙烷的制备方法 |
CN112608216B (zh) * | 2020-11-23 | 2022-01-21 | 浙江衢化氟化学有限公司 | 一种联产1,1-二氟乙烷和氯乙烯的方法 |
GB202100874D0 (en) | 2021-01-22 | 2021-03-10 | Mexichem Fluor Sa De Cv | Process |
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Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2749375A (en) | 1956-06-05 | Fluorination | ||
US2749374A (en) | 1950-02-24 | 1956-06-05 | Dow Chemical Co | Production of methylene fluoride |
US2744148A (en) | 1952-02-04 | 1956-05-01 | Dow Chemical Co | Process for fluorination of haloalkanes using a hydrogen fluoride activated catalyst containing alumina, a metal fluoride and basic aluminum fluoride |
US2749274A (en) | 1952-05-06 | 1956-06-05 | Bristol Lab Inc | Stable aqueous procaine penicillin suspension |
US2745886A (en) | 1955-01-31 | 1956-05-15 | Dow Chemical Co | Process for fluorinating aliphatic halohydrocarbons with a chromium fluoride catalyst and process for preparing the catalyst |
BE766395A (fr) | 1971-04-28 | 1971-10-28 | Solvay | Procede de fabrication du 1,1-difluorethane, |
US4147733A (en) | 1978-05-22 | 1979-04-03 | The Dow Chemical Company | Fluorination of chlorinated hydrocarbons |
US5208395A (en) | 1992-04-06 | 1993-05-04 | Elf Atochem North America, Inc. | Manufacture of hydrofluorocarbons |
GB9404703D0 (en) | 1993-03-24 | 1994-04-27 | Ici Plc | Production of difluoromethane |
EP0712826A1 (en) | 1994-11-17 | 1996-05-22 | Elf Atochem North America, Inc. | 1,1,1-Trifluoroethane synthesis using a supported lewis acid |
US6080899A (en) | 1999-01-25 | 2000-06-27 | Alliedsignal Inc. | Method of producing fluorinated organic compounds |
-
2004
- 2004-04-01 US US10/816,447 patent/US7112708B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-03-31 AT AT05779894T patent/ATE556043T1/de active
- 2005-03-31 EP EP11000069.2A patent/EP2336101B1/en active Active
- 2005-03-31 ES ES05779894T patent/ES2386898T3/es active Active
- 2005-03-31 EP EP05779894A patent/EP1735258B1/en active Active
- 2005-03-31 KR KR1020067022958A patent/KR101163528B1/ko active IP Right Grant
- 2005-03-31 ES ES11000069.2T patent/ES2547073T3/es active Active
- 2005-03-31 JP JP2007506320A patent/JP4871261B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-03-31 WO PCT/US2005/011125 patent/WO2005097716A1/en active Application Filing
- 2005-03-31 CN CNB2005800163262A patent/CN100526271C/zh active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49134612A (ja) * | 1973-05-08 | 1974-12-25 | ||
JPH0920696A (ja) * | 1995-06-29 | 1997-01-21 | Elf Atochem Sa | ジフルオロメタンの製造法 |
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JPH10287609A (ja) * | 1997-04-15 | 1998-10-27 | Central Glass Co Ltd | 3,3−ジクロロ−1,1,1−トリフルオロアセトンの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2336101B1 (en) | 2015-07-01 |
US20050222472A1 (en) | 2005-10-06 |
EP2336101A1 (en) | 2011-06-22 |
EP1735258B1 (en) | 2012-05-02 |
ATE556043T1 (de) | 2012-05-15 |
WO2005097716A1 (en) | 2005-10-20 |
JP2007531732A (ja) | 2007-11-08 |
CN1956940A (zh) | 2007-05-02 |
EP1735258A1 (en) | 2006-12-27 |
KR20070002080A (ko) | 2007-01-04 |
KR101163528B1 (ko) | 2012-07-10 |
ES2386898T3 (es) | 2012-09-05 |
CN100526271C (zh) | 2009-08-12 |
ES2547073T3 (es) | 2015-10-01 |
US7112708B2 (en) | 2006-09-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
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|
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