JP4860981B2 - 誘導加熱コイルおよびその製造方法、並びに高周波加熱装置 - Google Patents

誘導加熱コイルおよびその製造方法、並びに高周波加熱装置 Download PDF

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Description

本発明は、誘導加熱コイルおよびその製造方法、並びに高周波加熱装置に関し、特に、磁歪式トルクセンサの製造方法での磁気異方性付加工程で使用される高周波加熱装置の誘導加熱コイルで回転軸の磁歪材めっき部での反磁界を抑制するのに好適な誘導加熱コイルおよびその製造方法、並びに高周波加熱装置に関する。
例えば自動車の操舵系として装備される電動パワーステアリング装置では、一般的に、運転者の操舵操作によってステアリングホイールからステアリング軸に加えられる操舵トルクを操舵トルク検出部によって検出する。操舵トルク検出部は、通常、トーションバー式トルクセンサで構成され、最近では磁歪式トルクセンサも提案されている。上記のステアリング軸は、操舵操作による回転力を受けて回転する回転軸として機能し、操舵トルク検出部でその回転軸となっている。電動パワーステアリング装置は、当該操舵トルク検出部から検出されたトルク信号に応じて、操舵力補助用のモータを駆動制御し、運転者の操舵力を軽減して快適な操舵フィーリングを与える。
上記電動パワーステアリング装置に用いられる操舵トルク検出部として、上記のごとく磁歪式トルクセンサが知られている。この磁歪式トルクセンサは、ステアリング軸の表面の所定の2箇所に、互いに逆向きの磁気異方性を持つ磁歪膜を備えている。磁歪式トルクセンサは、ステアリング軸にステアリングホイールからトルクが作用したときに、ステアリング軸に生じる捩れに応じた磁歪膜の磁歪特性の変化を非接触で検出するセンサ構成を有している。
上記のごとき磁歪式トルクセンサを製造するプロセスでは、上記ステアリング軸の一部の所定表面、すなわち回転軸における所定の軸方向幅の円周表面に磁歪膜を形成し、この磁歪膜に磁気異方性を付加する工程が必要である。磁歪式トルクセンサの製造において磁歪膜に磁気異方性を付加する従来の方法は、例えばめっき処理により磁歪材めっき部(磁歪膜)を形成した回転軸に対して捩りトルクを作用させ、回転軸の円周表面に応力を付与し、この応力付与状態にて当該回転軸を高周波による誘導加熱により所定時間の間加熱処理するという方法であった(例えば特許文献1参照)。
また関連する従来の加熱コイルとして特許文献2に記載された一巻線誘導加熱コイルが存在する。
特開2004−340744号公報 特表2001−509633号公報
従来の磁歪式トルクセンサの製造方法によれば、回転軸の磁歪膜に磁気異方性を付加する工程では、磁歪材めっき部を加熱する加熱手段として、誘導加熱コイルと誘導加熱電源を使用している。従来の高周波加熱装置では、誘導加熱コイルは円筒形状の一巻コイル部を有し、その内径は内周面の全面に渡って一定であった。内径が常に一定の一巻コイル部を利用した場合、一巻コイル部の軸方向の長さを十分に長くして磁歪膜近傍の磁束分布を一様にしたとしても、磁歪膜内に生じる反磁界の作用に基づき磁歪膜内部の磁場が不均一になるという問題があった。このため、磁歪膜の高周波による誘導加熱において磁場対称性よく磁歪膜を加熱することができなかった。すなわち、磁歪材の磁場が不均一になるため、磁歪材内部で磁気異方性のバラツキが生じ、その結果、磁気異方性を有した磁歪膜の感度を十分に確保することができず、さらに感度バラツキが大きくなり、磁歪式トルクセンサのトルク検出感度にバラツキが生じるという問題が提起された。
本発明の目的は、上記の課題を鑑み、磁歪式トルクセンサの回転軸の磁歪膜に磁気異方性を付加する工程で回転軸の磁歪膜基礎部分(磁歪材めっき部)を高周波加熱するとき、磁歪膜基礎部分に生じる磁場を均一にし、磁気異方性を均一にすることによって容易に磁歪膜の感度バラツキを低減することができる誘導加熱コイルおよびその製造方法、並びに高周波加熱装置を提供することにある。
本発明に係る誘導加熱コイルおよびその製造方法、並びに高周波加熱装置は、上記の目的を達成するため、次のように構成される。
本発明に係る誘導加熱コイル(請求項1に対応)は、捩りトルクが印加された磁歪式トルクセンサの円柱棒状回転軸の円周表面に形成された磁歪膜を高周波加熱した後に前記回転軸の捩りトルクを解放することによって前記磁歪膜に磁気異方性を付与する磁歪式トルクセンサの磁気異方性付加工程において、前記磁歪膜を高周波加熱する誘導加熱コイルであって、前記円周表面に方向幅を有するように形成された前記磁歪膜(磁歪材めっき部)を囲むように配置された一巻コイル部(リング部)を有し、この一巻コイル部は、円筒形状を有し、前記一巻コイル部の軸方向幅は、前記磁歪膜の軸方向幅よりも長く、前記一巻コイル部は、その両端開口部にその内径がその軸方向中央部の内径よりも小さい内径小径部(突起部)を有し、この内径小径部は、軸方向にて前記磁歪膜の端部の外側に設けたことを特徴とする
上記の誘導加熱コイルでは、一巻コイル部の内径小径部によって、一巻コイル部の内周面に近い反磁界の強い磁歪膜の端部に強い磁界を与えることにより、磁歪膜の中央部および端部に均一な磁気異方性を付加することができ、これにより作製される磁歪膜の検出感度を高めることが可能となる。
本発明に係る誘導加熱コイルの製造方法(請求項に対応)は、捩りトルクが印加された磁歪式トルクセンサの円柱棒状回転軸の円周表面に形成された磁歪膜を高周波加熱した後に前記回転軸の捩りトルクを解放することによって前記磁歪膜に磁気異方性を付与する磁歪式トルクセンサの磁気異方性付加工程において、前記磁歪膜を高周波加熱する誘導加熱コイルであって、前記円周表面に方向幅を有するように形成された前記磁歪膜を囲むように配置された一巻コイル部を有する誘導加熱コイルの製造方法であって、前記一巻コイル部、その軸方向幅が磁歪膜の軸方向幅よりも長くなるような円筒形状に形成されており前記一巻コイル部は、その両端開口部に、その内径がその軸方向中央部の内径よりも小さい内径小径部を有し、この内径小径部は、軸方向にて前記磁歪膜の端部の外側に設けたことを特徴とする
本発明に係る高周波加熱装置(請求項に対応)は、捩りトルクが印加された磁歪式トルクセンサの円柱棒状回転軸の円周表面に形成された磁歪膜を高周波加熱した後に前記回転軸の捩りトルクを解放することによって前記磁歪膜に磁気異方性を付与する磁歪式トルクセンサの磁気異方性付加工程において、前記磁歪膜を高周波加熱する誘導加熱コイルであって、この誘導加熱コイルは、前記円周表面に方向幅を有するように形成された前記磁歪膜を囲むように配置される一巻コイル部を有し、この一巻コイル部は、円筒形状を有し、前記一巻コイル部の軸方向幅は、前記磁歪膜の軸方向幅よりも長く、前記一巻コイル部は、その両端開口部にその内径がその軸方向中央部の内径よりも小さい内径小径部を有し、この内径小径部を軸方向にて前記磁歪膜の端部の外側に設けた、誘導加熱コイルと、誘導加熱コイルに高周波を給電する高周波電源とを備えることを特徴とする
本発明によれば次の効果を奏する。本発明に係る誘導加熱コイル、またはこれを利用して構成される高周波加熱装置によれば、加熱誘導コイルの一巻コイル部を、その両端開口端の内径が中央部の内径よりも小さくなる内径小径部を有するように形成したため、磁歪式トルクセンサ等の回転軸の磁歪膜(磁歪材めっき部)の軸方向端部での、当該反磁界の影響を排除でき、磁歪膜での磁界均一性を実現して、形成される磁気異方性のバラツキを低減することができる。これにより、上記回転軸を磁歪式トルクセンサに用いれば、磁歪式トルクセンサの検出感度のバラツキを低減することができる。
以下に、本発明の好適な実施形態(実施例)を添付図面に基づいて説明する。
最初に図1と図2を参照して磁歪式トルクセンサの基本的構成について説明する。図1と図2は磁歪式トルクセンサの一構造例を示している。図1は磁歪式トルクセンサの基本的構造を示す一部断面側面図を示し、図2は磁歪式トルクセンサの基本的構成を概念的に示す側面図を示している。
図1と図2に示すように磁歪式トルクセンサ10は、回転軸11と、この回転軸11の周囲に配置される1つの励磁コイル12と2つの検出コイル13A,13Bとから構成されている。回転軸11は、図1と図2では、説明の便宜上、上部および下部を切断し省略して示している。
回転軸11は、例えばステアリング軸の一部として構成される。回転軸11は、その軸心11aの周りに矢印Aのごとく右回転(時計回り)または左回転(反時計回り)の回転力(トルク)を受ける。回転軸11は例えばクロムモリブデン鋼材(SCM材)等の金属棒で形成されている。回転軸11には、軸方向にて上下2箇所に磁歪膜14A,14Bが設けられている。磁歪膜14A,14Bの各々は、回転軸11の軸方向にて一定の幅(軸方向幅)を有しかつ回転軸11の円周方向の全周に渡って形成されている。各磁歪膜14A,14Bの軸方向の幅寸法、および2つの磁歪膜14A,14Bの間隔寸法は条件に応じて任意に設定される。磁歪膜14A,14Bは、実際には、電解めっき加工処理等により回転軸11の表面に磁歪材めっき部として形成される。この磁歪材めっき部に磁気異方性加工を施すことにより、磁気異方性を有する磁歪膜14A,14Bが形成される。
以下の説明では、説明の便宜上、「磁歪膜14A,14B」と「磁歪材めっき部(14A,14B)」は同一物を指すが、製造の段階・状況に応じて使い分けている。原則的に、磁気異方性を付加されて完成した段階を「磁歪膜14A,14B」といい、その前の段階では「磁歪材めっき部(14A,14B)」という。
上記の励磁コイル12と検出コイル13A,13Bは、図1に示すごとく、回転軸11の表面に形成された2つの磁歪膜14A,14Bのそれぞれに対応して設けられる。すなわち、図1に示されるように、磁歪膜14Aの周囲には隙間を介在させて検出コイル13Aが配置される。リング状の検出コイル13Aは、磁歪膜14Aの全周囲を囲み、かつ検出コイル13Aの軸方向の幅寸法は磁歪膜14Aの軸方向の幅寸法と略等しい。また磁歪膜14Bの周囲には隙間を介在させて検出コイル13Bが配置される。同様に、リング状の検出コイル13Bは、磁歪膜14Bの全周囲を囲み、かつ検出コイル13Bの軸方向の幅寸法は磁歪膜14Bの軸方向の幅寸法と略等しい。さらに、2つの検出コイル13A,13Bのそれぞれの周囲にはリング状の励磁コイル12が配置される。図1では、磁歪膜14A,14Bのそれぞれに対応して個別に励磁コイル12が設けられるように図示されているが、実際には1つの励磁コイル12の2つの部分を分けて示したものである。検出コイル13A,13Bと励磁コイル12は、回転軸11の周囲に回転軸11を囲むように設けられたリング状の支持枠体部15A,15Bを利用して磁歪膜14A,14Bの周囲スペースに巻設されている。
図2では、回転軸11の磁歪膜14A,14Bに対して配置される励磁コイル12と検出コイル13A,13Bを電気的関係として概念的に示している。磁歪膜14A,14Bに対して共通に配置される励磁コイル12には、励磁用交流電流を常時に供給する交流電源16が接続されている。また、磁歪膜14A,14Bのそれぞれに対応して配置される検出コイル13A,13Bの各出力端子からは、検出対象であるトルクに対応する誘導電圧V,Vが出力される。
回転軸11の表面に形成された磁歪膜14A,14Bは、例えばNi−Feめっきによる電解めっき加工処理で作られた磁気異方性を有する磁歪膜である。2つの磁歪膜14A,14Bの各々は、互いに逆方向の磁気異方性を有するように作られている。回転軸11に対して回転力によるトルクが作用したとき、磁歪膜14A,14Bの各々に生じる逆の磁歪特性を、磁歪膜14A,14Bの周囲に配設した検出コイル13A,13Bを利用して検出する。
上記磁歪式トルクセンサ10は、例えば、電動パワーステアリング装置のステアリング軸に操舵トルク検出部として組み込まれて利用される。
図3についてさらに詳述する。図3は2つの磁歪膜14A,14Bのそれぞれの磁歪特性曲線51A,51Bを示す図である。図3において、横軸は、ステアリング軸21に加えられた操舵トルクを意味し、正側(+)が右回転に対応し、負側(−)が左回転に対応している。また図3の縦軸は電圧軸を意味する。
磁歪膜14A,14Bについての上記磁歪特性曲線51A,51Bは同時に検出コイル13A,13Bの検出出力特性を表している。すなわち、磁歪特性曲線51A,51Bを有する磁歪膜14A,14Bに対して共通の励磁コイル12により励磁用交流電流を供給し、この励磁用交流電流に感応して検出コイル13A,13Bは誘導電圧を出力していることから、検出コイル13A,13Bの誘導電圧の変化特性は、磁歪膜14A,14Bの磁歪特性曲線51A,51Bに対応している。換言すれば、磁歪特性曲線51Aは検出コイル13Aから出力される誘導電圧Vの変化特性を示し、他方、磁歪特性曲線51Bは検出コイル13Bから出力される誘導電圧Vの変化特性を示している。
磁歪特性曲線51Aによれば、検出コイル13Aから出力される誘導電圧Vの値は、操舵トルクの値が負領域から正領域に変化しさらに操舵トルクの正の値T1に到るにつれて略線形特性にて増加し、操舵トルクが正の値T1となったときにピーク値となり、操舵トルクがT1よりさらに増加すると徐々に減少するという特性を有する。他方、磁歪特性曲線51Bによれば、検出コイル13Bから出力される誘導電圧Vの値は、操舵トルクの値が負の値−T1に到るまでは徐々に増加し、操舵トルクが負の値−T1のときにピーク値をとり、操舵トルクがさらに−T1よりも増加して負領域から正領域に変化すると略線形特性にて減少するという特性を有する。
図3に示すように、検出コイル13Aに関連する磁歪特性曲線51Aと検出コイル13Bに関連する磁歪特性曲線51Bは、磁歪膜14A,14Bのそれぞれで互いに逆方向となる磁気異方性を有することが反映して、両磁歪特性曲線が交わる点を含む縦軸に関して略線対称との関係になっている。
図3において示された線52は、磁歪特性曲線51A,51Bの共通領域であって略線形特性を有する領域において、検出コイル13Aの出力電圧として得られる磁歪特性曲線51Aの各値から、検出コイル13Bの出力電圧として得られる磁歪特性曲線51Bの対応する各値を差し引いた値に基づいて作成されるグラフを示す。操舵トルクがゼロのときに、各検出コイル13A,13Bから出力される誘導電圧は等しいので、その差の値はゼロとなる。操舵トルク検出部20では、上記の磁歪特性曲線51A,51Bにおける操舵トルクの中立点(ゼロ点)付近の略一定勾配とみなされる領域を使用することで、上記線52を略直線特性を有するものとして形成している。なお線52の特性グラフに関しては、図3の縦軸は差電圧の値を示す軸を意味している。特性グラフである直線52は、原点(0,0)を通る直線であって、縦軸および横軸の正側・負側に存在する。操舵トルク検出部20の検出出力値は前述のごとく検出コイル13A,13Bから出力される誘導電圧の差(V−V)として得られることから、上記直線52を利用することに基づいて、回転軸11に加えられた操舵トルクの方向と大きさを検出することができる。
次に図4〜図7を参照して磁歪式トルクセンサ10の製造方法の全体工程を説明する。図4に示した磁歪式トルクセンサ10の製造方法は磁歪式トルクセンサ10の回転軸11の製造工程である。
図4において、回転軸11の製造工程は、大きく分けると、磁歪膜形成工程P1と磁気異方性付加工程P2と特性安定化工程P3と検査工程P4から構成されている。特性安定化工程P3はアニール工程P31を含み、検査工程P4は、製造された回転軸11の品質を検査する工程である。なお磁歪式トルクセンサ10として完成するためには、検査工程P4の後に、回転軸11に対して励磁コイル12や検出コイル13A,13B等の検出器を付設する検出器付設工程が設けられている。
最初に磁歪膜形成工程P1が実行される。この磁歪膜形成工程P1では、電解めっき処理により回転軸11の表面の所定箇所に磁歪材めっき部が磁歪膜の基礎となる部分として形成される。
磁歪膜形成工程P1では、まず、回転軸11の洗浄等の前処理が行われる(ステップS11)。その後に電解めっきが行われる(ステップS12)。この電解めっき工程では、回転軸11の上下の箇所で磁歪材が所定の膜厚になるように施される。上下の磁歪材めっき部は、後述する後処理によって磁気異方性を有する磁歪膜14A,14Bになる部分である。その後、乾燥が行われる(ステップS13)。
上記の磁歪膜形成工程P1では、回転軸11の表面に前述した磁歪膜14A,14Bを形成するために電解めっき処理法を用いた。しかしながら、回転軸11における磁歪膜14A,14Bを形成する基礎部分は、電解めっき法以外の方法、例えばスパッタリング法、イオンプレーティング法等のPVD法、プラズマ溶射法などの方法によって形成することもできる。
次に、磁気異方性付加工程P2が実行される。この磁気異方性付加工程P2は、回転軸11に形成された上下2箇所の磁歪材めっき部に対して磁気異方性を付加し前述の磁歪膜14A,14Bを形成する工程である。磁気異方性付加工程P2は、上側の磁歪材めっき部に対して高周波加熱を行うステップS21と、下側の磁歪材めっき部に対して高周波加熱を行うステップS22とを有している。
図5は、磁気異方性付加工程P2の各ステップS21,S22で実施される処理工程のフローチャートを示す。図6は、磁気異方性付加工程P2の各ステップS21,S22における回転軸11の磁歪材めっき部での軸径方向の温度分布と軸径方向の歪分布を示す図である。
磁気異方性付加工程P2の上側磁歪材めっき部を高周波加熱するステップS21は、図5に示すごとく、トルク印加装置により回転軸11に所定の捩りトルクを印加するステップS201、所定の捩りトルクを印加した状態の回転軸11の上側磁歪材めっき部に対して所定時間だけ高周波電流を供給し電磁誘導により加熱処理を行う熱処理ステップS202、加熱した回転軸11を自然に冷却するステップS203、最後に捩りトルクを解放することによって上側磁歪材めっき部に磁気異方性を付加して上記磁歪膜14Aを形成するトルク解放ステップS204から構成されている。
上記の熱処理ステップS202では、回転軸11の上側磁歪材めっき部を囲むごとくその周囲に誘導加熱コイルを配置し、この誘導加熱コイルに誘導加熱電源の高周波発振回路から高周波を供給して上側磁歪材めっき部のみを誘導加熱する。
上記のステップS201〜S204により、回転軸11の上側磁歪材めっき部は磁気異方性が付加され、これにより磁気異方性を有する磁歪膜14Aが形成される。
回転軸11の下側磁歪材めっき部に対する高周波加熱ステップS22においても同様に上記のステップS201〜S204が実行され、下側磁歪材めっき部に対して磁気異方性が付加され、これにより磁気異方性を有する磁歪膜14Bが形成される。下側磁歪材めっき部に磁気異方性を付加するときには、磁歪膜14Bの磁気異方性とは逆向きになるように、回転軸11に与えるトルクの印加方向を逆向きにする。
次に図6と図7を参照して、磁気異方性付加工程P2で磁歪材めっき部に磁気異方性を付加し磁歪膜14Aを形成するメカニズムについて詳述する。
図6では、縦方向に示された回転軸11の径方向の温度分布(1)と歪み分布(2)について、横方向に(a)トルク印加状態、(b)誘導加熱状態、(c)めっき部歪み解放状態、(d)トルク解放状態の4つの状態が示されている。トルク印加状態(a)は図5に示したステップS201に対応し、誘導加熱状態(b)は同図のステップS202に対応し、めっき部歪み解放状態(c)は同図のステップS203に対応し、トルク解放状態(d)は同図のステップS204に対応している。図6の(1)で軸61は温度を表す軸を示し、(2)で軸62は歪みを表す軸を示す。
図6の(a)では、捩りトルクTqを回転軸11に作用させ、回転軸11の円周表面に応力を与える。これにより捩りトルクTqが作用する。この場合、回転軸11の径方向の歪み分布は、回転軸11の中心に位置する軸心11aから周縁方向に向かって増加した分布ST1となる。ただし、分布ST1では、歪みの分布方向も含めて考えると、軸心11aの右側と左側では反対になるので、右側の歪み分布は正側(+)に示され、左側の歪み分布は負側(−)に示されている。さらに、図6(a)で回転軸11の径方向の温度分布は、破線で示すごとくなり、回転軸11の軸心11aから周縁方向まで室温であって一定の分布T1となる。この室温は回転軸11の温度の基準温度になる。
図6の(b)では、回転軸11に捩りトルクTqを作用させたまま、磁歪材めっき部の周囲を誘導加熱コイルで囲み、この誘導加熱コイルに対して高周波電流を流し、磁歪材めっき部を加熱処理する。図6の(b)で、回転軸11の径方向の歪み分布は、図6(a)の場合と同じである。また回転軸11の径方向の温度分布は、回転軸11の外周縁部に近いところから当該外周縁に向かって急激に増加する分布T2となる。
図6の(c)では、冷却が行われ、その結果、磁歪材めっき部にクリープが生じ、磁歪材めっき部での歪みがゼロとなる。このときの回転軸11の径方向の歪み分布は符号ST2で示される。図6(c)の状態を示すステップは、加熱処理後、自然に冷却させるステップS203である。回転軸11の径方向の温度分布T2の形状については実質的には変化がなく、冷却過程の推移と共に全体に温度は低下する。
図6の(d)では、冷却後、回転軸11に印加されていた捩りトルクTqを解除し、トルク解放を行う。これにより、歪み分布ST3に示されるごとく、回転軸11内での径方向での歪み分布はゼロとなる。他方、反対に、歪み分布ST3に示されるごとく、磁歪材めっき部においてのみ歪み分布が生じる。この結果、当該歪み分布ST3によって磁歪材めっき部に磁気異方性を付加することができ、これにより磁気異方性を有する磁歪膜14Aを形成することができる。なお、図6(d)で温度分布は、T3に示すごとく全体になだらかに分布するように低減する。
なお磁歪膜14Bを作る場合には、磁歪膜14Aに比較して逆向きの磁気異方性を付加するため、上記の捩りトルクTqとは逆方向の時計回りの捩りトルクを与えて前述のプロセスを実行する。
図7では、回転軸11の上下2箇所に設けられる磁歪材めっき部のインピーダンス特性Zと、磁歪材めっき部に磁気異方性を付加して形成された磁歪膜14A,14Bのインピーダンス特性Z,Zを示す。図7において、横軸はトルク(Nm)を意味し、縦軸はインピーダンス(Ω)を意味している。磁気異方性が付加される前の段階の磁歪材めっき部のインピーダンス特性Zは、磁気異方性が付加されることにより、磁歪膜14Aの場合にはインピーダンス特性Zに、または磁歪膜14Bの場合にはインピーダンス特性Zに変化する。磁歪膜14Aはインピーダンス特性Zを有するため、磁歪膜14Aに対応する検出コイル13Aは前述した磁歪特性曲線51Aを有することになる。また磁歪膜14BはインピーダンスZを有するため、磁歪膜14Bに対応する検出コイル13Bは前述した磁歪特性曲線51Bを有することになる。
なお図7において、範囲73は、インピーダンス特性Z,Zの重複部分として略線形の変化特性が得られる範囲である。この範囲73が磁歪式トルクセンサ10のセンサ使用範囲として利用される。
上記の磁気異方性付加工程P2の後に特性安定化工程P3が行われる。特性安定化工程P3ではアニール工程P31が行われる。アニール工程P31では、例えば操舵トルク検出部20が使用される状況での使用温度以上の温度で所定時間加熱処理を行う。
次に前述の磁気異方性付加工程P2における磁歪材めっき部の高周波加熱(誘導加熱)の工程(ステップS202)について、さらに詳述する。
図8〜図10を参照して高周波加熱工程を実施する装置の構成を説明する。図8は誘導加熱コイルの要部側面図を示し、図9は誘導加熱電源の構成を示し、図10は誘導加熱コイルの詳細な形状と構造を示す要部断面図である。
図8において、円柱棒形状の回転軸11は誘導加熱コイル101の先部のリング部101aに挿通させて配置されている。図8の回転軸11は、図1等に示した回転軸11と同じものである。回転軸11には前述した上側磁歪材めっき部114Aと下側磁歪材めっき部114Bが形成されている。
誘導加熱コイル101はその先部にリング部101aを有する。このリング部101aはコイル部を形成している。リング部101aによるコイル部は、板条物を一巻きにして形成された一巻コイル部である。リング部101aはその軸方向に所定の幅を有する。リング部101aは、この図示例では、上側磁歪材めっき部114Aを囲むごとく配置されている。リング部101aの幅は、上側磁歪材めっき部114Aの幅よりも大きくなるように設定されている。この誘導加熱コイル101は、全体として、板条物を、先部にリング部101aを形成するように形成した一巻誘導加熱コイルである。誘導加熱コイル101は、図9に示すごとく狭い隙間102を介して近接して対向して配置される同形の2枚のプレート部101bを備える。誘導加熱コイル101の2枚のプレート部101bの先部には上記のリング部101aが設けられ、2つのプレート部101bはリング部101aを介してつながっている。
図9では、回転軸11と誘導加熱コイル101を上側から見ている。誘導加熱コイル101の2枚のプレート部101bのそれぞれは誘導加熱電源103のワンポートの出力端子104に接続されている。誘導加熱電源103の出力端子104から出力される高周波電流は誘導加熱コイル101に供給される。
誘導加熱電源121の入力側には、三相交流122を変圧する三相変圧器123と、三相変圧器123から出力される三相交流を整流する三相整流器124を備える。三相整流器124から出力される直流電流は投入電力として誘導加熱電源121に入力される。誘導加熱電源121内には高周波発振回路125を備える。高周波発振回路125は、発振用3極真空管とLC回路とで構成される発振回路である。誘導加熱電源121に投入された直流電流は高周波発振回路125の3極真空管のアノードに供給される。高周波発振回路125は、発振作用を生じ、給電された直流電流を入力として所要周波数の高周波電流(I)を出力する。当該高周波電流は上記出力端子104に供給される。
図10を参照して誘導加熱コイル101のリング部(一巻コイル部)101aの形状および構造を説明する。図10は、円柱棒状の回転軸11の上側磁歪材めっき部114Aを誘導加熱コイル101で高周波加熱するときの配置状態を示している。
図10に示した配置状態において、リング部101aの軸方向幅aは、回転軸11の上側磁歪材めっき部114Aの軸方向幅dよりも長くなるように設定されている。リング部101aの上端部は上側磁歪材めっき部114Aの上端部よりも上側にあり、そのリング部101aの下端部は上側磁歪材めっき部114Aの下端部よりも下側にある。リング部101aの上側開口部と下側開口部の内周面には全周にわたり突起部131が形成されている。突起部131の軸方向幅はcである。リング部101aで、両側開口部の突起部131の幅を除いた部分の軸方向寸法はbである。この軸方向寸法bは好ましくは上側磁歪材めっき部114Aの軸方向幅dよりも大きい。従って、リング部101aの上下端の両端開口部に形成された突起部131は前述の通り上側磁歪材めっき部114Aに対して軸方向でその外側に位置するように配置されている。またリング部101aの軸方向中央部の内径eに対して、突起部131の内径fは小さくなっている。リング部101aの内周面において両端開口部の内周部の全周に形成された突起部131は、当該内周面に内径小径部を形成している。
上記形状のリング部(一巻コイル部)101aを先部に備える誘導加熱コイル101において、上記の突起部131はリング部101aの一部として形成してもよいし、リング状別部材を用意してリング部101aの両端開口部に嵌め込んで固定するように構成することもできる。
円柱棒状の回転軸11の円周表面に所定の軸方向幅を有するように形成された上側磁歪材めっき部114Aを囲むように配置されたリング部(一巻コイル部)101aを有する誘導加熱コイル101の製造は、まず板状金属部材に基づき、リング部となるべき部分を、その軸方向幅が磁歪材めっき部(磁歪膜)の軸方向幅よりも長くなるような円筒形状に形成し、その両端開口部に、その内径がその軸方向中央部の内径よりも小さい内径小径部を設けるようにしている。
次に上記のリング部101aを備える誘導加熱コイル101を用いて上側磁歪材めっき部114Aを高周波加熱を行うことにより次の作用効果が生じる。
まず、従来のごとく、リング部の内周面において前述の突起部がなくかつ軸方向幅が磁歪材めっき部114Aとほぼ等しい場合には、磁歪材めっき部の内部に、磁化しようとする磁界を打ち消すような逆向きの反磁界が生じる。この反磁界は特に磁歪材めっき部の端部で生じ、そのため磁歪材めっき部で磁気異方性の付き方が弱くなり、感度が高くならない。他方、反磁界の弱い磁歪材めっき部の中央部では磁気異方性の付き方が強くなる。その結果、作製された磁性膜において中央部と端部とでは磁気異方性が異なり、均一でなくなるため、感度特性にバラツキが生じる。
従来の上記リング部に対して、リング部101aを有する誘導加熱コイル101によれば、リング部101aの突起部131によって当該リング部101aの内周面に近い反磁界の強い上側磁歪材めっき部114aの端部に強い磁界を与えることができ、そのため、磁歪膜の中央部および端部に均一な磁気異方性を付加することができる。これにより作製された磁歪膜14Aの検出感度を高め、従来の誘導加熱コイルを用いて作られた磁歪膜に比較して検出感度は20%程度向上することができる。
以上の実施形態で説明された構成、形状、大きさおよび配置関係については本発明が理解・実施できる程度に概略的に示したものにすぎず、また数値および各構成の組成(材質)については例示にすぎない。従って本発明は、説明された実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に示される技術的思想の範囲を逸脱しない限り様々な形態に変更することができる。
本発明は、電動パワーステアリング装置などで操舵トルクを検出する磁歪式トルクセンサを製造する工程で用いられる高周波加熱装置の誘導加熱コイルとして利用される。
本発明が利用される磁歪式トルクセンサの基本的構造を示す一部断面側面図である。 磁歪式トルクセンサの基本的構成を概念的に示す側面図である。 磁歪式トルクセンサにおける各検出コイルに関する磁歪特性曲線とセンサ検出特性を示すグラフである。 磁歪式トルクセンサの製造方法であり、回転軸の製造プロセスを示す工程図である。 磁気異方性付加工程のフローチャートである。 磁気異方性付加工程の各ステップ(a)〜(d)での回転軸における径方向の温度分布(1)と歪み分布(2)を示す図である。 磁歪式トルクセンサの製造方法での磁歪材めっき部形成直後の磁歪式トルクセンサのインピーダンス特性と磁気異方性付加後の磁歪膜を用いた磁歪式トルクセンサのインピーダンス特性を示す図である。 誘導加熱コイルの要部側面図である。 誘導加熱電源の構成を示すブロック図である。 誘導加熱コイルのリング部(一巻コイル部)の特徴的形状を示す要部断面図である。
符号の説明
10 磁歪式トルクセンサ
11 回転軸
12 励磁コイル
13A,13B 検出コイル
14A,14B 磁歪膜
51A,51B 磁歪特性曲線(インピーダンス特性曲線)
101 誘導加熱コイル
101a リング部(一巻コイル部)
121 誘導加熱電源
125 高周波発振回路
131 突起部(内径小径部)
P1 磁性膜形成工程
P2 磁気異方性付加工程
P3 特性安定化工程

Claims (3)

  1. 捩りトルクが印加された磁歪式トルクセンサの円柱棒状回転軸の円周表面に形成された磁歪膜を高周波加熱した後に前記円柱棒状回転軸の前記捩りトルクを解放することによって前記磁歪膜に磁気異方性を付与する前記磁歪式トルクセンサの磁気異方性付加工程において、前記磁歪膜を高周波加熱する誘導加熱コイルであって、
    前記円周表面に方向幅を有するように形成された前記磁歪膜を囲むように配置された一巻コイル部を有し、
    この一巻コイル部は、円筒形状を有し、前記一巻コイル部の軸方向幅は前記磁歪膜の軸方向幅よりも長く、前記一巻コイル部は、その両端開口部にその内径がその軸方向中央部の内径よりも小さい内径小径部を有し、
    この内径小径部は、軸方向にて前記磁歪膜の端部の外側に設けたことを特徴とする誘導加熱コイル。
  2. 捩りトルクが印加された磁歪式トルクセンサの円柱棒状回転軸の円周表面に形成された磁歪膜を高周波加熱した後に前記回転軸の前記捩りトルクを解放することによって前記磁歪膜に磁気異方性を付与する前記磁歪式トルクセンサの磁気異方性付加工程において、前記磁歪膜を高周波加熱する誘導加熱コイルであって、前記円周表面に方向幅を有するように形成された前記磁歪膜を囲むように配置された一巻コイル部を有する誘導加熱コイルの製造方法であって、
    前記一巻コイル部、その軸方向幅が前記磁歪膜の軸方向幅よりも長くなるような円筒形状に形成されており前記一巻コイル部は、その両端開口部に、その内径がその軸方向中央部の内径よりも小さい内径小径部を有し、この内径小径部は、軸方向にて前記磁歪膜の端部の外側に設けたことを特徴とする誘導加熱コイルの製造方法。
  3. 捩りトルクが印加された磁歪式トルクセンサの円柱棒状回転軸の円周表面に形成された磁歪膜を高周波加熱した後に前記回転軸の前記捩りトルクを解放することによって前記磁歪膜に磁気異方性を付与する前記磁歪式トルクセンサの磁気異方性付加工程において、前記磁歪膜を高周波加熱する誘導加熱コイルであって、この誘導加熱コイルは、前記円周表面に方向幅を有するように形成された前記磁歪膜を囲むように配置される一巻コイル部を有し、この一巻コイル部は、円筒形状を有し、前記一巻コイル部の軸方向幅は前記磁歪膜の軸方向幅よりも長く、前記一巻コイル部は、その両端開口部にその内径がその軸方向中央部の内径よりも小さい内径小径部を有し、この内径小径部を軸方向にて前記磁歪膜の端部の外側に設けた、誘導加熱コイルと、
    前記誘導加熱コイルに高周波を給電する高周波電源と、
    を備えることを特徴とする高周波加熱装置。
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