JP4860870B2 - アッベ誤差補正装置及び方法 - Google Patents

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Description

【0001】
[関連出願]
この出願は、2000年1月11日出願の米国特許出願第60/175,993号の優先権を主張するものである。
【0002】
[技術分野]
本発明は、1個又は複数個の「ツール」、例えば、レーザビーム、又は他の放射ビームを1個又は複数個のワークピース上の目標位置に対して位置決めする装置及び方法に関し、また、特に、このようなビーム位置決め装置の1個又はそれ以上の数のステージの移動に関するアッベ誤差を正確に補償する装置に関するものである。
【0003】
[発明の背景]
多種多様な技術は、微細加工する(マイクロマシニング)ツールを使用し、又はワークピース上の目標位置上の材料にパターンを堆積させる。例えば、微小寸法のパンチを使用して薄い金属プレートに孔をパンチ加工したり、レーザを使用して精密に加工、選択的な金属浸食、結晶化、又は試料のアモルファス化を行なったり、イオンビームを使用して帯電粒子を集積回路に選択的に移植したりしている。上述のプロセスのすべては、ワークピース上の目標位置に関連するツールを正確かつ迅速に位置決めする共通の必要条件を共有している。
【0004】
以下の背景は、レーザビーム位置決め装置によってのみ説明してあるが、当業者であれば、全般的なツール位置決めシステムにもこの説明が適用できることは理解されるであろう。従来のツール位置決め装置、特にビーム位置決め装置は、一般的には三次元座標系内で移動させ、幾つかの方向の特徴がある。
【0005】
従来の位置決め装置は、下側ステージによって支持した上側ステージにワークピースを固定するX‐Y並進テーブルに特徴があった。このような装置は、ワークピースを固定ビーム位置に対して移動させるのが一般的であり、また下側ステージが上側ステージ及びワークピースの慣性質量を支持するため、共通してスタックドステージ位置決め装置と称されていた。これら位置決め装置は比較的良好な位置決め精度を示すものであり、これは一般的に各軸線に沿って干渉計を使用して各ステージの絶対位置を決定するからである。
【0006】
Overbeck氏の米国特許第4,532,402号においては、検流計のような高速短移動位置決め機構(「迅速位置決め機構」)を、X‐Y並進テーブルの上側ステージ(「遅速位置決め機構)に支持し、上側ステージ及びワークピースを下側ステージによって支持する。2個の位置決め機構の組合せの運動とともに、先ず遅速位置決め機構をワークピース上の目標位置の近傍の既知の位置移動し、遅速位置決め機構を停止させ、迅速位置決め機構を正確な目標位置に移動させ、迅速位置決め機構を停止させ、ツールを目標位置に対して動作させ、次に、次の目標位置に関してこのプロセスを繰り返す。
【0007】
しかし、Overbeck特許の組合せシステムは、やはりスタックドステージ位置決め装置であり、上述の固定ビームシステムと同様の深刻な欠点の多くを有する。即ち、ステージ及び迅速位置決め機構の慣性質量に関連する始動、停止、方法転換の遅延がツールのワークピース加工時間を不当に増大させる。Overbeck特許の装置は、更に、コンピュータ支援工作機械の制御ファイル即ち、ワークピースに対する一連の所定目標位置にツールを移動させる典型的なコマンドの「データベース」に関して深刻な欠点がある。ワークピースにわたりツールを位置決めするデータベースは、つなぎ合わせるセグメントを「パネライズ(予構築)」しておき、大形の回路パターンが迅速位置決め機構の限界移動範囲を越えたとき、各セグメントがこの迅速位置決め機構の限界移動範囲内に納まるようつなぎ合わせセグメントをパネライズ(予構築)しなければならない。
【0008】
Cutler氏らの米国特許第5,751,585号及び同第5,847,960号には、軸分割位置決め装置が記載されており、この場合、上側ステージは下側ステージによって支持されずに下側ステージとは独立して移動するものであり、またワークピースは一方の軸線上又は一方のステージ上に担持し、ツールを他方の軸線上又は他方のステージ上に担持する。これら位置決め装置は、1個又はそれ以上の数の上側ステージを有し、各上側ステージには迅速位置決め機構を支持するものであり、1個又は複数個のワークピースを同時に高い処理量で加工することができるものであり、これは、即ち、独立的に支持したステージは少ない慣性質量を担持するだけであり、スタックドステージ装置におけるよりも一層迅速に加速、減速、又は方向転換を行なうことができるからである。1個のステージの質量は他方のステージに担持されることはないので、所定荷重の共鳴周波数が増大する。更に、遅速位置決め機構及び迅速位置決め機構は、位置決めコマンドデータ列に応答して必ずしも停止させることなく移動させて個別に移動する位置に調和させ、データベースによって規定される目標位置上で一時的な静止ツール位置をもたらすことができる。これら軸分割多重位置決め装置は、従来の装置の迅速位置決め機構の移動範囲における制限を減らすとともに、ツールの処理スループットを大幅に増大させ、また予構築データベースから非構築データベースに転換することができる。
【0009】
このような軸分割位置決め装置は、ワークピースの全体寸法及び重量が増大して、より長い、従って、より大きな質量のあるステージを利用するようになるにつれて、一層有利になってきている。同時に、造作の寸法が減少するにつれて、寸法精度に対する要求が増大し、軸分割システムはアッベ誤差を誘発する回転誤差をより生じ易く、アッベ誤差とは、ステージの有効位置とステージの実際の位置との間の物理的乖離を示す誤差である。アッベ誤差は、一般的には、ステージが摺動及び/又は整列する軸受における不完全さ若しくは熱変動、又はステージを移動させる駆動機構の加速の不完全さによって生ずる。
【0010】
図1には、3個の互いに直交する並進運動軸線、即ち、X軸10、Y軸12、Z軸14を示し、これら軸線は三次元座標系16及び3個の互いに直交する回転運動軸線(以下ロール軸線18、ピッチ軸線20及びヨー軸線22と称する)。当業者は、一般的には、X軸10の周りの角度回転をロール、Y軸12の周りの角度回転をピッチ、Z軸14の周りの角度回転をヨーと称する。
【0011】
レーザ干渉計システムを使用して何らかのアッベ誤差を示しかつ補償することができるが、このようなシステムはコストがかかり、重量が重い。即ち、これはこれらシステムは基準ミラーを必要とし、これら基準ミラーはステージ長と行程長を足し合わせたものに近い長さを有し、例えば、行程距離の2倍もの長さになるからである。このようなミラーは、不可能でなくとも、大形ステージの長い行程寸法に対してより大きいワークピースに対処するに必要な76〜92cm(30〜36インチの波長をもたらすことは困難である。更に、軸分割システムは、各ステージ用に少なくとも2個の干渉計及び/又は角度及び位置を示す極めて複雑な光学系を必要とし、また、干渉計の付加重量がステージにおける慣性荷重を増大してモーメント変化に応答する応答時間がかかるようになる。
【0012】
Trumper氏らの米国特許第5,699,621号は、ピッチ、ヨー、及びロールの角度誤差を示す小さい移動範囲の変換器を使用することを記載している。このTrumper氏らの特許は、電磁石を有するベアリングギャップの制御で角度誤差を補正するもので、極めて追従性のよい磁石又は空気軸受システムを使用することを必要とする。Trumper氏らの特許のシステムの補正スピードは、リニアステージ装置の帯域幅に制限され、従って、スタックドステージ位置決め装置と同様の質量対帯域幅制限がある。
【0013】
従って、より安価及び/又はより小さい質量のかつ極めて正確のアッベ誤差補正装置及び方法が望まれる。
【0014】
[発明の開示]
本発明の目的は、容量センサのような非接触小移動量センサを使用し、軸上位置インジケータ、例えば、リニアスケールエンコーダ又はレーザ干渉計によっては示されない機械的ステージのピッチ、ヨー、ロールに基づくアッベ誤差を決定することができる方法又は装置を提供し、このようなアッベ誤差を補償する手段を得るにある。
【0015】
本発明の他の目的は、このようなセンサを使用し、加速又は温度変化に関連するリニア軸受の変動又は歪みに基因するアッベ誤差の測定及び補正を行なうにある。
【0016】
本発明は、リニアステージがピッチ、ヨー、ロールにより、有効位置と表示位置との間に物理的な距離を生ずることにより、金属又はガラス製のスケールエンコーダ又はレーザ干渉計等の位置インジケータによっては示されないシステムの有効位置における誤差であるリニアステージ位置決め装置のアッベ誤差を測定及び補償するコスト効率がよい手段を提供する。コストを低減するため、この装置は精密なX位置基準及びY位置基準に較正し、補正がセンサ読み取りにおける僅かな変動を感知することのみに左右され、センサ読み取りの絶対精度には左右されないようにする。本発明は軸分離型の位置決め装置に使用するのに好適であるが、スタックドステージ装置にも使用して製造コストを低減することができる。コストを一層低減するためリニアなスケールエンコーダを使用して公称の軸線上ステージ位置を表示することができるが、より高いレベルの精度及び/又は解像度が要求される場合にはレーザ干渉計を使用することができる。
【0017】
本発明の他の目的及び利点を、添付図面を参照して好適な実施例を以下に詳細に説明する。
【0018】
[好適な実施例の詳細な説明]
図2A及び図2B(総括的に図2)は、本発明による位置決め指令実行能力を有するマルチステージのツール位置決め装置50を示す。位置決め装置50は、以下に例としてのみ、単一ヘッドのレーザ穴あけ切断システムにつき説明し、デジタル信号プロセッサ(「DSP」)52を使用して、迅速検流計型位置決めステージ54(スキャナ又は「迅速ステージ54」)、遅速X軸並進ステージ56(「遅速ステージ56」)、及び、遅速Y軸並進ステージ58(「遅速ステージ58」)を制御し、例えば、エッチングした回路基盤のような単一のワークピース62上の目標位置に指向させる。
【0019】
図2の好適な軸分離軸型装置の実施例においては、X軸並進ステージ56は、レール46に軸支してほぼX‐Z平面に沿って移動するようにし、またY軸並進ステージ58はレール48に軸支してほぼXY平面に沿って移動するようにする。当業者にはステージ56,58の双方が互いに平行な平面上で移動しかつ慣性的に分離するか又は慣性的に依存するようにすることもできることは明らかであろう。好適な実施例においては、位置決め装置50は、ステージ56,58の移動を支持しまた案内するための剛性の高い再循環型又はクロスローラ型の軸受装置を使用する。
【0020】
システム制御コンピュータ63は、データベース補助記憶装置64に記憶されたツール経路データベースを処理する。このデータベースは、ワークピース62にレーザビーム60で孔及び/又はプロファイル(輪郭)を切削するための所要の加工パラメータを格納する。このデータベースは、通常はツール経路生成プログラム、例えば、オハイオ州ミルフォードにあるストラクチャル・ダイナミクス・リサーチ社(Structural Dynamics Research Corporation)によって供給されているI‐DEASジェネレイティブ・マシニング(Generative Machining)というプログラムを使用してコンパイルされる。システム制御コンピュータ63は、レーザ制御装置68用に格納されているデータベースの構文解析された部分及びデータベースの位置制御部分をデータストリームとしてデルタ処理部70に伝送する。このデルタ処理部70はデータストリームをデルタ位置(「ΔP」)、デルタ速度(「ΔV」)及びデルタ時間(「ΔT」)のためのX成分及びY成分に分解し、各成分はワークピース62に対してレーザビーム60を意図した経路変更を生じさせるものである。この結果、レーザビーム60の各運動はΔP,ΔV,ΔT成分で規定され、これら成分は位置プロファイラ72によって処理されて、加速度信号及び/又は定速セグメント位置信号を含むムーブプロファイル値に変換される。
【0021】
デルタ処理部70は、本願人に譲渡されたCutler氏らの米国特許第5,751,585号及び同第5,847,960号に記載されている、好適には、BASIC言語信号処理手順に従ってΔP,ΔV,ΔT成分を生成する。
【0022】
再び図2を参照して説明すると、デルタ処理部70によって生成されたΔP,ΔV,ΔT成分を位置プロファイラ72によって処理され、データベースによって指令を受けて迅速ステージ54及び遅速ステージ56,58を移動するのに必要なムーブプロファイル位置決め信号に変換される。理想的には、位置決め装置の加速は動力に比例し、この動力は位置決め装置のドライバに供給される電流に比例するようにし、このドライバは例えば、リニア式又はロータリ式のサーボモータか又は検流計型コイルとすることができる。従って、位置プロファイラ72によって生じた位置決め信号は、正弦波の半波輪郭で加速度誘発位置決めステップ及び定速度誘発位置決めステップよりなる一連の「フルスペクトル」となり、これによって系の移動を生ずる。フルスペクトル帯域幅は、約250ヘルツのみを必要とし、この帯域幅は、典型的な検流計型駆動ミラー位置決め装置を最大周波数で駆動するのに十分である。
【0023】
フルスペクトル位置決め信号の時刻毎の値は、DSP52内で動作する正弦波値発生プログラムの変数としてデルタ処理部70により生ずるΔP,ΔV,ΔT成分を使用して1秒あたり約10,000ポイントの割合でDSP52によって発生される。代案として、ΔP,ΔV,ΔT成分を使用して、DSP52内に組み込まれている正弦波値ルックアップテーブルに記憶されている関連の正弦波形値をアドレス指定してフェッチするようにする。
【0024】
この結果得られるフルスペクトル位置決め信号は加速度成分と位置成分を有しており、これらの成分は、一定信号伝播遅延を有するプロファイリングフィルタ78、及びDSP52内でプロファイリングフィルタ78の一定信号伝播遅延を補償する遅延素子79に供給される。例えば、遅延素子79は、位置プロファイラ72によって発生するレーザトリガパルスを遅延させ、迅速ステージ54及び遅速ステージ56,58の遅延移動に一致させる。プロファイリングフィルタ78及び遅延素子79は、以下に説明するように、互いに連携して遅速ステージ56,58を平均位置プロファイルにわたりスムーズに移動させるとともに、加速度を±1gに制限し、またこれに協調して迅速ステージ54を±10ミリメートルの範囲の位置決め運動に制限する。
【0025】
位置成分をプロファイリングフィルタ78に供給し、遅速ステージ56,58を駆動するためのフィルタ処理済み位置コマンドデータを生ずる。プロファイリングフィルタ78は四次のローパスフィルタとすると好適である。
【0026】
プロファイリングフィルタ78は正弦波の半波位置決め信号位置成分に対して一定時間の遅延を有するフィルタ処理済み位置コマンドデータを生ずるため、この一定時間遅延を遅延素子79によって補償する。遅延素子79はプログラムした遅延としてDSP52内で実行すると好適であり、正弦半波位置決め信号の加速度成分及び位置成分を位置プロファイラ72から迅速ステージ54の信号処理素子に伝送し、この信号処理素子のうちの最初のものとして加算器80,82がある。従って、迅速ステージ54に導入される正弦半波信号は、遅速ステージ56,58に導入されるフィルタ処理済み位置コマンドに同期する。
【0027】
位置プロファイラ72からの加速度成分はプロファイリングフィルタ78によってもフィルタ処理され、フィルタ処理済み加速度コマンドを加算器80及びフィードフォワード処理部94に供給する。加算器80はハイパスフィルタとして機能し、フルスペクトル位置決め信号の加速度信号からフィルタ処理済み加速度コマンドを減算し、検流計(GALVO)加速度フィードフォワード信号を形成してフィードフォワード処理部86に伝送する。同様に、プロファイリングフィルタ78からのフィルタ処理済み位置コマンド及び正弦半波位置決め信号の遅延位置成分をそれぞれ加算器90及び加算器82に伝送し、それぞれ処理を行なって遅速ステージ56,58及び迅速ステージ54にそれぞれ分配する。検流計フィルタ97及びサーボフィルタ98は通常のループ補償フィルタであり、迅速ステージ57及び遅速ステージ56,58を安定化させる。
【0028】
プロファイリングフィルタ78は、臨界減衰レシオを有する2個又はそれ以上の二次フィルタを直列接続することによって実施する。直列接続するフィルタの数が2以上に増加すればするほど、カットオフ周波数が約フィルタの数の平方根だけ増大する(例えば、2個のフィルタは単独フィルタのカットオフの1.414倍のカットオフを有する)。好適には、2個のフィルタを直列接続し、これによりスムーズでしかもフィルタ全体の実行を簡素化することができる。
【0029】
プロファイリングフィルタ78にとっては、1秒間あたり好ましくは38ラジアンのカットオフ周波数(約6ヘルツ(Hz))は、DSP52が遅速ステージ56,58の位置決めデータを更新する割合である10kHzに比べて極めて低い周波数である。プロファイリングフィルタ78は10kHzの遅速ステージ更新周波数で動作する場合、離散フィルタ係数は誤差を丸めるための感度がよくなり、これは離散フィルタの極が単位円に近似するためである。プロファイリングフィルタ78は位置プロファイラ72から加速度コマンドを受け取り、フィルタ処理済み加速度コマンドを発生し、これをサーボフィードフォワード処理部90及び加算器80に伝送する。
【0030】
所要のムーブプロファイルコマンドは、10kHzの更新割合で計算し、遅速ステージの加速度及び実際の(指令ではない)位置を、加算器80,82で減算し、それぞれ迅速ステージの加速度コマンド信号及び位置コマンド信号を発生する。
【0031】
迅速ステージ加速度コマンド信号は、加算器80及びフィードフォワード処理部86処理するとともに、迅速ステージ位置コマンド信号は加算器82及び検流計フィルタ97で処理する。処理した迅速ステージ信号を加算器84で組合せて検流計型ドライバ88に伝送する。
【0032】
同様に、遅速ステージのフィルタ処理済み加速度コマンドをフィードフォワード処理部94で処理するとともに、遅速ステージフィルタ済み位置コマンドを加算器90及びサーボフィルタ98で処理する。処理した遅速ステージ信号を加算器92で組合せてリニアサーボモータドライバ96に伝送する。
【0033】
検流計型ドライバ88は、迅速ステージ54における1対のミラー偏向検流計に偏向制御電流を供給し、サーボモータドライバ96は遅速ステージ56,58の位置決めを制御するリニアサーボモータに制御電流を供給する。
【0034】
図3は、迅速ステージ54として使用するに好適なタイプの従来の検流計型駆動のミラー位置決め装置100を示す。検流計型ドライバ88(図2参照)は、軸受108でシャフト107を回転させるX軸用高速レスポンスDCモータ104及びY軸用高速レスポンスDCモータ106に対応する導体102に回転制御電流を供給して1対のミラー110,112を選択的に回動させ、これによって、光学レンズ114を経てワークピース62上の所定の目標位置にレーザビーム60を偏向させる。
【0035】
代案として、非軸受動作の位置決め装置、例えば、圧電素子、ボイスコイルアクチュエータ、又は他の角度制限高速位置決め装置を検流計型駆動のミラー位置決め装置100の代わりに位置決め装置50に使用することができる。
【0036】
同様に、図2につき説明すると、他の精密ロータリー式又はリニア式の位置決め機構を遅速ステージ56,58を駆動するリニアサーボモータの代わりに使用することができる。しかし、位置決め装置50においては、遅速ステージ位置決めコマンドに優先的に応答するリニアモータのほうが好ましい。
【0037】
2個の信号を遅速ステージ位置コマンド及び迅速ステージ位置コマンドに組合せることによりワークピース62上におけるレーザビーム60の指示される位置と実際の位置との間の位置的誤差を減少する。加算器82における遅延した迅速ステージ位置コマンド、及び加算器90におけるフィルタ処理した遅速ステージ位置コマンドは、ステージ54,56,58の適正な位置決めを生ずるに必要な理想的な信号値を表わす。しかし、重力、摩擦、質量、及び位置プロファイラ72によって生ずるフルスペクトル位置決め信号における不正確さなどの実際上の要因は、変更されない位置コマンドには考慮されていない。
【0038】
実際上の要因は、位置センサ120,122でステージ54,56,58の実際の位置を感知することにより考慮し、DSP52における加算器82,90に対する予測される位置フィードバックデータを生ずるようにする。迅速ステージ位置決め経路における加算器82は位置センサ120,122の双方からの位置フィードバックデータを受け取る。位置センサ120,122はよく知られているタイプのものであり、回転コンデンサプレート、リニア及びロータリエンコーダスケール、又は干渉計動作検出器を、適当なアナログ‐デジタル変換技術及び/又はデジタル‐アナログ変換技術と組合せて使用する。
【0039】
レーザビーム60はワークピース62にわたり移動するとき、感知したビーム位置を連続的に指令したビーム位置と比較し、位置的誤差はある程度位置決め誤差を生ずる実際の要因を表わす。特に、迅速ステージ54及び遅速ステージ56,58の感知した位置データは、位置センサ120,122によって生じ、このデータを加算器82で指令した位置から減算し、加算器84でフィードフォワード処理部86からの加速度データと組合せる位置誤差データを生成する。同様に、遅速ステージ56,58の感知した位置データは、センサ122によって生じ、加算器90で指令した位置から減算し、加算器92でフィードフォワード処理部94からの加速度データと組合せる位置誤差データを生成する。
【0040】
協調位置決めは、ツール経路に沿って目標位置間の迅速移動と各目標位置での停止との組合せでレーザを発射させて孔を切削することを必要とするレーザビーム孔切削用途にとって特に有益であるが、この用途に限定されるものではない。従来のレーザ削孔システムの他の特徴及び好適な加工パラメータはOwen氏らの米国特許第5,841,099号に記載されている。
【0041】
図4及び図5は、本発明に基づいてヨー基準面126に対するY軸並進ステージ58に取り付けたYステージアッベセンサ124の好適な状態を示す平面図及び端面図であり、図6〜図8は、本発明に基づいてX軸並進ステージ56に取り付けたXステージアッベセンサ128,130,131,132の、ヨー及びロール基準面134及びピッチ基準面136に対する好ましい状態を示す側面図、端面図、及び平面図である。
【0042】
図2B及び図4〜図8につき説明すると、アッベセンサ124,128,130,131及び132は、非接触型の小型軽量の移動センサとするとよい。最も好適なセンサは所定基準面からの距離の関数として容量を測定するものである。好適な実施例においては、アッベセンサは、50μmプラス又はマイナス25μmのギャップ範囲(センサと基準面との間の距離)を有し、また50nm以下、好適には、10nm又は10nm以下の解像度とする。当業者であれば、技術がコスト的に有利なとき、より広い又はより狭いギャップ範囲及びより高い解像度とすることができることは理解されるであろう。非接触型センサが好ましい理由は、不正確さにつながる摩耗を排除するからである。好適なアッベセンサとしては、ミネソタ州セントポールのライオンプレシジョン社から入手できるモデルPX405Hシリーズのプローブがある。他の適当な容量型プローブ又はセンサとしては、マサチューセッツ州ウエストウッドのADEテクノロジー社及びドイツ国オルテンブルクのマイクロイプシロン社から入手可能である。
【0043】
基準面126,134,136は、図2Bに示す支持レール46,48の適当な側面に形成するか、又は図4〜図8に示す並進ステージ56,58の近傍ではあるが分離した位置にとることができる。(図4〜図8には、レール46,48の代わりに4個のYステージ支持部138及び3個のXステージ支持部140を示す。)基準面は、ステージのベースと同一長さ又は少なくとも支持レール46,48に沿う移動範囲と同じ長さとすると好適である。基準面は安定的であるのが好ましいが、完全に直線的である必要はない。即ち、これは、センサを表面の全体長さに対して較正して、補正がセンサ読み取りにおける僅かな感知誤差にのみ左右され、センサ読み取り又はステージ位置の絶対精度には左右されないからである。
【0044】
ステージ56,58は平行平面における移動に適用し、互いに慣性的に分離した又は慣性的に依存したものとすることができるが、以下の説明では、単に例として、軸分離型位置決め装置50におけるX軸位置誤差及びY軸位置誤差対策に関して説明し、ほぼ平坦な(X軸寸法及びY軸寸法がZ軸寸法よりも100〜10,000倍大きい)ワークピース62をYステージ58に担持し、またツール(レーザ76)をXステージ56によって導入する。
【0045】
再び図2A、図2B、図4及び図5を参照して説明すると、Yステージ58の軸線上の(オン・アクシス:on-axix)公称位置をセンサ122aで示し、このセンサ122aは例えば、所要の位置決め精度の仕様を満足するガラス又は金属スケール式エンコーダ又はレーザ干渉計とすると好適である。軸分離型形態では、典型的には、Yステージのヨーが最も大きなXアッベ誤差及びYアッベ誤差を生ずる。ヨー誤差は、好適には、1対のYステージアッベセンサ(以下「センサ124」と称する)124a,124bによって生じ、これらセンサ124a,124bはY軸線12に沿って互いにできるだけ離してYステージ58の側面の頂部の近傍、又はYステージ58を支持するチャックに取り付けるとよい。基準面126をレール46又はYステージ組立体のベースに一体にし、支持反復性能(bearing repeatability)、温度、ステージの加速を含む他の作用と同様にステージのヨーの表示ができるだけ安定するようにする。
【0046】
ヨーに基因してセンサ124によって検出されるアッベ誤差の基準面からの距離のX成分を示す容量(キャパシタンス)は、Yステージのヨープローブドライバ145によって、アッベ誤差補正信号として処理するのに好適なDC電圧に変換すると好適である。これら信号を個別のXアッベ誤差加算器142及びYアッベ誤差加算器144に導入してから加算器82に入力し、スキャナ位置コマンドに組み込むようにする。
【0047】
再び図2A、図2B、図6〜図8を参照して説明すると、Xステージ56のピッチ(縦揺れ)、ヨー(首振り)、ロール(横揺れ)も、大きなX位置誤差及びY位置誤差を生ずる。図示の好適な軸分離形態は、Xステージ56の端縁が、ステージ56,58で規定される平面を横切るようにし、またステージ56,58が慣性的に分離するようXステージ56を設ける。最も好適な実施例においては、Xステージ56は、Xステージ56を垂直に指向させ、一方Yステージ58を水平に指向させる。この場合のピッチ、ヨー及びロールは、Xステージ56の移動の実際の平面に関連して規定されるのであって、より典型的な水平指向の平面に関連して規定されるものではない。
【0048】
Xステージ56の軸線上公称位置はセンサ122で示され、このセンサ122は例えば、所要の位置決め精度の仕様を満足するガラス又は金属スケール式エンコーダ又はレーザ干渉計とすると好適である。Xステージアッベセンサ128,130,131,132は、すべてYステージセンサ124と同一タイプとするか、又は異なるタイプとする。センサ128a,128b(以下「センサ128」と称する)を、X軸線10に沿って互いにできるだけ離して取り付けると好適である。同様に、センサ130,131をX軸線10に沿って互いにできるだけ離して取り付けると好適である。センサ132はセンサ131と同一平面上でZ軸線14に沿ってできるだけセンサ131から離して取り付けると好適である。
【0049】
Xステージ56は好適には、図6〜図8に示すように3個の軸受140上に運動学的に取り付けるため、Xステージアッベセンサ128,130,131,132によって検出される基準面134,136からの距離の変化は、Xステージ56に関連する平面の移動となって現われ、Xステージ56の歪みとなって現われることはない。Xステージアッベセンサ130,131はXステージヨー基準面134aからの距離を検出し、またXステージ56の平面のヨー角度の変化を示す。Xステージアッベセンサ131,132は、それぞれXステージロール基準面134a、134bからの距離を検出し、Xステージ56の平面のロール角度の変化を示す。Xステージアッベセンサ128は、ピッチ基準面136からの距離を検出し、またXステージ56のピッチ角度の変化を示す。
【0050】
センサ130,131によって検出され、ヨーに基因するアッベ誤差の基準面134aからの距離のセンサX成分及びY成分を示す容量は、Xステージヨープローブドライバ146によってアッベ誤差補正信号に処理するのが好適なDC電圧に変換すると好適である。同様に、センサ131,132により検出され、ロールに基因するアッベ誤差の基準面134a,134bからの距離のX成分及びY成分を示す容量は、Xステージピッチプローブドライバ148によって誤差補正信号に処理するのが好適なDC電圧に変換すると好適である。当業者であれば、センサ131はヨープローブドライバ146及びロールプローブドライバ147の双方に信号を供給する。好適なプローブドライバは当業者にはよく知られているが、ライオン・プレシジョンが製造しているコンパクトプローブドライバが好適である。これらヨー、ロール、及びピッチのアッベ誤差補正信号は、個別のXアッベ加算器142及びYアッベ加算器144に導入してから加算器82に転送し、スキャナ位置コマンドに組み込む。
【0051】
これらアッベ誤差に対応するX位置成分及びY位置成分は、位置決め装置50が移動しかつワークピース62を加工するときリアルタイムで計算し、またアッベ位置誤差を補償するためスキャナ位置コマンドに重ね合わせるよう加算する。これら角度変化は、光学系のジオメトリ(ステージに対するビーム経路の位置及びステージからのワークピースの距離)に組合せ、ワークピースにおける有効ビーム位置に関連する変化(誤差)を示すようにする。加算器82でアッベ誤差補正をスキャナ位置に加えることによって迅速な応答が得られ、これは即ち、迅速ステージ54の帯域幅がリニアステージ56,58の帯域幅よりも相当高いためである。
【0052】
しかし、センサ系から生ずるアッベ誤差補正は、加算器90で直接リニアステージ位置サーボループに加算することもできる。この実施例は迅速ステージ54の代わりに固定ビーム位置決め装置を使用するとき有効である。固定ビーム位置決め装置は、迅速ステージ54で得られるよりもより精度の高いビーム位置決めを生ずるのが一般的であり、例えば、ミクロン又はサブミクロンの寸法のリンク(連鎖)を切断するような、より高い精度が要求される用途に使用される。当業者には、X軸ステージ56を適用して迅速ステージ54を固定ビーム位置決め装置と交換可能にするか、又はX軸ステージ56により迅速ステージ54及び固定ビーム位置決め装置を同時に支持するようにできることは当業者にとっては明らかであろう。後者の場合、アッベ誤差補正は、迅速ステージ54を使用するときは加算器82に供給し、また固定ビーム位置決め装置を使用するときは加算器90に供給する。
【0053】
図9はマルチヘッド位置決め装置150である本発明の実施例を示し、マルチワークピース152A,152B,152C,…152Nを同時に処理する。(以下、マルチの素子は、正確な文字サフィックスなしに示し、例えば、「ワークピース152」と称する。)マルチヘッド位置決め装置150は、各個の遅速ステージ56,58を使用し、Y軸遅速ステージ58上にワークピース152を担持固定し、またX軸遅速ステージ56上にマルチ迅速ステージ154A,154B,154C,…154Nを担持する。勿論、遅速ステージ56,58の役割を逆にしたり、又は2個又はそれ以上の迅速ステージ154を1個又はそれ以上のX軸遅速ステージ56に担持するとともに、Y軸遅速ステージ58により単独のワークピース62を担持するようにすることもできる。
【0054】
遅速ステージ56に担持する迅速ステージ154の数が増えるにつれて、累積した質量を加速するのが困難になる。従って、遅速ステージ56に担持する迅速ステージ154の数Nは4個に制限するのが好ましいが、Nは位置決め装置のタイプ及び用途によって変化する。
【0055】
各ワークピース152には1個又はそれ以上のツール、好適には、レーザ156A,156B,156C,…156Nに関連させ、これらレーザは処理エネルギを関連の迅速ステージ154A,154B,154C,…154Nに対して関連のミラー158A,158B,158C,…158Nによって指向させる。迅速ステージ154は処理エネルギを関連のワークピース152に配置したほぼ方形の例えば、20×20ミリメートルの処理フィールド162Aにおける目標位置に偏向させる。
【0056】
ビデオカメラ160A,160B,160C,…160Nを遅速ステージ56上に配置し、関連の処理フィールド162を観察し、ワークピース152の整列、オフセット、回転、及び寸法変動を感知し、レーザ156の照準及び合焦を調整できるようにする。
【0057】
好適な実施例においては、同一の処理パターンを各レーザ156及び迅速ステージ154によってワークピース152上で2回繰り返す。しかし、場合によっては、処理パターンの変化を必要とし、ワークピースジオメトリ、スケール誤差、オフセット、回転、歪みにおける変動に適合させるようにする。代案として、1個又はそれ以上のレーザ156を同時に異なる処理を行なわせるのが好ましい場合があるが、(単独のYステージに従属して)みかけ上は同一又は反復パターンを同一のワークピース152上で展開する。更に、遅速ステージ58上に取り付けたワークピース152における取付位置変動により生ずる迅速ステージの非線形性及び取付の不揃いを補正する必要がある。従来のマルチスピンドルドリル装置とは異なり、マルチヘッド位置決め装置150は、各迅速ステージ154を駆動するとき、図10及び図11につき説明するプログラム可能な補正要因によって上述の変動の補償をすることができる。同様に、指令したツール位置が感知した目標位置に整合しない度合を示すアッベ誤差は、図2A,図2B、及び図4〜図8につき説明したと同様の方法で補償することができる。
【0058】
図10は、マルチレート位置決め装置DSP52(図2参照)をどのように適用してマルチの迅速ステージ154及び遅速ステージ56,58の位置決めを調和させ、マルチヘッドDSP170とするかを示す。DSP52と同様に、マルチヘッドDSP170はシステム制御コンピュータ63からΔP、ΔV、ΔTの成分を受け取り、これら成分を位置決めプロファイラ72によって半波輪郭の位置決め信号となるように処理する。DSP170は、更に、DSP52と同一の信号処理素子のいくつか、例えば、プロファイリングフィルタ78、遅延素子79、フィードフォワード処理部94、サーボドライバ96、遅速ステージ56、位置決めセンサ122がある。図10は簡素化して示してあるため、X軸遅速ステージ56の処理素子のみを示す。当業者であれば、対応のY軸素子も同様であることが理解できるであろう。
【0059】
単独のシステム制御コンピュータ63のみが遅速ステージ56,58及びN個の迅速ステージ154を駆動するのに必要である。多重迅速ステージ信号プロセッサ172A,172B,172C,…172Nの各々は、システム制御コンピュータ63から迅速ステージ補正データを受け取る。このようにして、迅速ステージ位置コマンド及びそのときの遅速ステージ位置データを迅速ステージ信号プロセッサ172の各々に入力し、各迅速ステージ154をユニークな誤差補正データによって更に位置決めできる目標位置の共通セットに指向させる。単独のX軸ステージ56を使用して多重の迅速ステージ154を担持し、また、単独のY軸ステージ58を使用して1個又は多重のワークピース152を担持する場合、図2A,図2B,及び図4〜図8につき説明したアッベ誤差検出システムを変更することなく使用することができ、アッベ誤差補正データ190を図10の加算器80又は図11に示す迅速ステージ補正プロセッサ180に供給することができる。
【0060】
図11は、迅速ステージ信号プロセッサ172のうちの1個を示し、この迅速ステージ信号プロセッサ172には、DSP170からの迅速ステージ位置決めデータ及び遅速ステージ位置決めデータ、及びシステム制御コンピュータ63からの補正データを入力する。補正データは、ジオメトリ補正プロセッサ180に転送される遅速ステージ及びワークピースに関連する補正データと、迅速ステージ補正プロセッサ182に転送される迅速ステージの線形性及びスケール要因に関連する補正データがある。当業者には、迅速ステージ154を個別のX軸ステージ56に取り付ける場合(この場合、移動を同期させると好ましいが非同期であってもよい)、このようなX軸ステージ56の各々には、それぞれのプロセッサ170又はサブプロセッサによってコマンド(指令)を与える。更に、このようなステージ56の各々には、それぞれの位置センサ122及び個別のステージに関連するアッベ誤差を補償するための5個のXステージアッベセンサを装備すると好適である。
【0061】
補正データは、方程式に準拠したもの又はルックアップテーブル準拠のものとすることができる。しかし、ジオメトリ補正プロセッサ180及び迅速ステージ補正プロセッサによって使用される補正データは、本願人に譲渡され、本明細書に参考として掲げるPailthorp 氏らの米国特許第4,941,082号(以下に「’082号特許」と称する)に記載のように方程式準拠のものとすると好適である。
【0062】
迅速ステージの線形性及びスケール要因の誤差は比較的一定であり、迅速ステージ154の個別の特性に大きく左右される。従って、迅速ステージ補正プロセッサ182では、補正データは比較的小さくまた頻繁な変更を要しない。この補正データを発生すると、例えば、迅速ステージ154の各々を、’082号特許に記載の関連較正目標上の少なくとも13個の較正ポイントに指向させる。反射したエネルギの検出器は、検出した位置と実際の目標ポイント位置との間の差を感知し、誤差データをシステム制御コンピュータ63に供給して処理する。この結果得られる補正データを各迅速ステージ補正プロセッサ182に転送し、記憶する。更に、関連するビデオカメラ160によって感知した指向位置と実際の目標ポイント位置との間のいかなる誤差も較正し、補償する。遅速ステージの線形性及びスケール要因の誤差も比較的一定であり、従って、補正データの変更も頻繁には必要としない。
【0063】
他方、ワークピースに関連する誤差は比較的変動があり、ワークピース152毎に配置、オフセット、回転及び寸法上の変動に大きく左右される。従って、ジオメトリ補正プロセッサ180はワークピース152が代わる毎に比較的大きな補正データ変動がある。この補正データを発生すると、例えば、各ワークピース152に関連する少なくとも2個の、好適には、4個の所定較正目標に遅速ステージ56,58を指向させることになる。代案として、観測系が迅速位置決め装置により動作する実施例においては、遅速ステージ56,58及び迅速ステージ54の双方を較正目標に指向させる。これら較正目標は、例えば、コーナー、細工した孔、又はECBの光エッチングした目標とすることができる。各ビデオカメラ160は、指向した位置と実際の較正目標位置との間の誤差を感知し、誤差データをシステム制御コンピュータ63に供給して処理する。この結果得られる各ワークピース152のための補正データを関連のジオメトリ補正プロセッサ180に転送し記憶する。
【0064】
各迅速ステージ信号プロセッサ172に関して、Y軸のための補正位置決めデータを補正プロセッサ180,182からフィードフォワードプロセッサプロセッサ86、検流計ドライバ88、及び迅速ステージ154に転送する。位置フィードバックデータを位置センサ120によって発生し(図2Aにおけるものと同様)、加算器184,84において組合せて補正する。当業者であれば、同一の手順をX軸の迅速位置決めに適用できることは明らかであろう。
【0065】
補正データを迅速ステージ154に適用するにあたり、各迅速ステージは20×20ミリメートルの最大線形位置決め範囲内の18×18ミリメートルの位置決め範囲に制限すると好適である。残りの2ミリメートルの位置決め範囲は上述の補正のために使用する。
【0066】
以上は、迅速位置決めステージ及び遅速位置決めステージの各々の単独の軸方向運動のための信号処理について説明した。当業者であれば、どのようにして双方の軸、双方のステージ及び単独又は複数個の迅速位置決め装置を協調動作させるのに信号処理を再現するかは容易に理解できるであろう。
【0067】
[実施例]
位置決め装置50を使用し、またアッベ誤差補正を含む典型的なツール用途としては、多層ECBにおける又は他のワークピース62における非貫通孔のようなレーザ削孔がある。多層ECBは、典型的には複数個の0.05〜0.08ミリメートルの厚さの回路基盤層を整合、積層、ラミネート及び圧着することによって製造する。各層は異なる相互接続パッド及び導体パターンを含み、処理後に複雑な電気コンポーネントを取り付けたり、相互接続した組立体を構成する。ECBのコンポーネント及び導体の密度は集積回路の密度とともに増大する傾向にある。従って、ECBにおける孔の位置決め精度及び寸法公差はこれに比例して厳しくなる。
【0068】
不幸にして、圧着ステップによれば、膨張及び寸法変動を生じ、ひいてはECBにおけるスケール要因及び直交性変動を生ずる。更に、多層ECB(ワークピース152)を遅速ステージ58に取り付けるとき、固定変動はECBに対して位置回転及びオフセットを生ずる。このことに加えて、ECBの厚さ変動は、精密な所定深さの孔を機械的にドリル加工するのを困難にする。
【0069】
位置決め装置50又は150は、上述の問題を以下のようにして解決する。即ち、各ECBにおける所定位置に2〜4個の較正目標を、好適には、各コーナーに一つずつエッチングで形成する。ビデオカメラ160はコマンド指令した位置と実際の較正目標位置との間の差を感知し、この差データをシステム制御コンピュータ63に供給して処理する。この結果の補正データをジオメトリ補正プロセッサ180に転送し、記憶する。
【0070】
2個の較正目標は、ECBにおける位置回転及びオフセット変動を補正するのに十分な差データをシステム制御コンピュータ63に与える。3個の較正目標はECBにおける回転、オフセット、スケール要因、及び直交性変動を補正するに十分な差データをシステム制御コンピュータ63に与える。4個の較正目標は、更に、各ECBにおける台形的歪みの補正を行なうことができる。
【0071】
ECBの厚さ変動は、±0.13ミリメートル(±0.005インチ)のレーザ深さで容易に吸収する。
【0072】
非貫通孔を加工することは、いかなる削孔ツールにとっても困難な課題である。即ち、厳密な深さ、直径及び位置決め公差が課せられるからである。このことは、非貫通孔を、第1導体層(例えば、銅、アルミニウム、金、ニッケル、銀、パラジウム、すず、及び鉛)を通過し、1個又はそれ以上の数の誘電層(例えば、ポリイミド、FR‐4樹脂、ベンゾシクロブチレン、ビスマレイミド・トリアジン、シアネート・エステル基樹脂、セラミック)を経て、第2導体層に達するが、貫通しないようにする。この結果得られる孔を導電材料でメッキし、第1及び第2の導体層を電気的に接続する。非貫通窓を処理することに関しては、オーエン(Owen)氏らの米国特許第5,841,099号に詳細に記載されている。
【0073】
再び図9につき説明すると、マルチヘッド位置決め装置150は、Nが偶数例えば、2,4,又は6である、好適には、4である切削装置でECBに非貫通孔を形成する形態にする。レーザ156A,156CをUVレーザ(波長はおよそ400ナノメートル、好適には、355又は266nm)であり、レーザ156B,156NはIRレーザ(波長は約1,000〜約10,000ナノメートルの範囲)とする。UVレーザ及びIRレーザは、波長に大きな差があるため、迅速ステージ154のためのミラー158及び光学系は、各レーザの波長に関する適合性を有する形態とする。
【0074】
UVレーザ156A、156Cは、第1導体層及び誘電層に適当な方法で切削を行うことができる。しかし、レーザ出力レベル及びパルス反復レートは十分制御して第2導体層に容認できないほどのダメージを与えないようにする。この結果、狭い「プロセス窓」を生ずる。従って、UVレーザ156A、156Cは主に、第1導体層、及び誘電層の一部のみを切削し、広いプロセス窓を加工するのに使用する。第1導体層をUVレーザ156A,156Cによって切削した後、第2導体層を貫通せずかつダメージを与えることなく残りの誘電層を貫通切削する広いプロセス窓を有するIRレーザ156B,156Nを使用して誘電層の残りの部分を除去するのに使用する。このようにして、ECB非貫通孔切削装置は、UVレーザ156A,156Cを使用してワークピース152A,152Cの第1導体層に切削貫通し、IRレーザ156B,156Nを使用してワークピース152,152Nの誘電層を切削貫通する。
【0075】
UVレーザ156A,156Cが導体層を切削貫通するのに必要な時間は、IRレーザ156B,156Nが誘電層を切削貫通するのに要する時間よりも長いのが一般的である。従って、長い処理時間は処理スループットを決定する。目標位置はマルチツール位置決め装置150におけるすべてのツールに対して同一であるため、UVレーザ及びIRレーザのレーザ出力レベル及びパルス反復レートを適正に異ならせることにより異なる処理時間を考慮することができる。
【0076】
用途によっては、直径が約200マイクロメートル又はそれ以下の比較的大きい孔を切削することが必要な場合がある。UVレーザ156A,156Cは、フグ20マイクロメートルのみのビーム直径を有するため、マルチツール位置決め装置150は、UVビームを螺旋経路又は円形経路に追随させ、導体層にこのような孔を切削する。従って、これら比較的大きい孔の切削はこれに比例して時間が長くかかる。しかし、IRレーザ156B,156Nは、UVレーザ直径の約20倍である約400マイクロメートルのビーム直径を有する。従って、誘電層にこれら比較的大きい直径の孔を切削するとき、IRレーザの少なくとも若干の部分は、UVビームが螺旋経路又は円形経路に追随して導体層に孔を切削している間に孔全体をカバーする。これらの状況の下に、IRレーザビームは比較的長い時間にわたり目標位置にあり、UVレーザ及びIRレーザのパワー出力レベル及びパルス反復レートを適切に異ならせることによって異なる有効処理時間を考慮することができる。
【0077】
適当なレーザ出力が得られる場合には、単一のレーザを、適当な出力分割装置を使用して複数個のワークピースに共有する。更に、波長が切り換え可能なレーザを本発明に使用することもできる。
【0078】
本発明は、位置決め精度、位置決め速度、停止時間の最小化又は排除、ツール経路データベースの非構築、迅速ステージ移動範囲の最小化を改善し、これにより寸法変動及び向き変動により生ずるワークピースの拒絶を減少して処理スループットを劇的に改善する。
【0079】
当業者であれば、本発明の一部は、上述のレーザビームによるマイクロマシニング実施例とは異なる形態で実施することができることは理解されるであろう。例えば、広範囲のツールを単一又はマルチのヘッド形態にして迅速位置決めステージにより移動させ、ツールは、例えば、微細寸法のドリル、パンチ、レーザ、レーザビーム、放射ビーム、粒子ビーム、ビーム発生装置、顕微鏡、レンズ、光学機器、及びカメラとすることができる。更に、多くの異なる位置決め装置を異なる組合せで使用することができ、例えば、検流計駆動装置、ボイスコイル、圧電変換器、ステップモータ、及びリードねじ位置決め装置を使用することができる。DSPは、完全にデジタルである必要はなく、例えば、アナログ及びデジタルサブ回路の任意の適当な組合せとすることができる。本明細書中で説明した位置決め信号プロファイル、スペクトルの帯域及び振幅、フィルタ特性は、他の位置決め用途の条件に適合するよう変更することができることは勿論である。
【0080】
本発明の原理から逸脱することなく上述の本発明の実施例の詳細に対して多くの他の変更を加えることができることは当業者には明らかであろう。従って、本発明の範囲は特許請求の範囲によってのみ決定されるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 互いに直交する3個の並進移動軸線X,Y,Z、及び互いに直交するロール(横揺れ)、ピッチ(縦揺れ)及びヨー(首振り)の3個の回転運動軸線を含む6軸線を示す説明図である。
【図2A】 本発明のマルチステージ式レーザビーム位置決め装置の線図的ブロック図である。
【図2B】 本発明のマルチステージ式レーザビーム位置決め装置の線図的ブロック図である。
【図3】 本発明に使用するに適当なタイプの従来技術のガルバノメータ駆動ミラー位置決め装置の線図的部分側面図である。
【図4】 基準平面に対するY軸ステージ(ワークピースステージ)に取り付けたYステージアッベ誤差センサの好適な位置を示す平面図である。
【図5】 図4のY軸ステージに取り付けたセンサの好適な位置を示す端面図である。
【図6】 基準平面に対するX軸ステージに取り付けたXステージアッベ誤差センサの好適な位置を示す側面図である。
【図7】 図6のX軸ステージに取り付けたセンサの好適な位置を示す端面図である。
【図8】 図6のX軸ステージに取り付けたセンサの好適な位置を示す平面図である。
【図9】 本発明を使用するマルチヘッドレーザ機械加工装置を示す斜視図である。
【図10】 図9のマルチヘッドレーザ機械加工装置に使用するマルチ迅速ステージ信号プロセッサを有するデジタル信号処理システムの簡素化した電気ブロック図である。
【図11】 図10のデジタル信号処理システムに使用するマルチ迅速ステージ信号プロセッサのうちの1個の簡素化した電気ブロック図である。

Claims (23)

  1. ワークピース(62)上の目標位置に対してレーザ出力を位置決めする方法において、
    位置決め信号プロセッサからの遅速移動制御信号及び迅速移動制御信号を供給し、
    前記遅速移動制御信号に応答して遅速位置決め機構ドライバ(96)を制御し、遅速位置決め機構としての並進ステージ(56,58)であって、前記ワークピース(62)を支持する、該並進ステージ(56,58)を、軸線に沿って、また前記並進ステージ(56,58)の近傍で前記軸線に平行に配置した基準面(126,134,136)を有する部材に沿って大きな範囲の相対移動させ、
    前記迅速移動制御信号に応答して迅速位置決め機構ドライバ(88)によりビーム偏向を行う迅速位置決め機構(54)小さい範囲における相対移動を制御し
    前記レーザ出力と前記並進ステージ(56,58)上の前記ワークピース(62)との間に大きな範囲の相対移動を生ぜしめ、
    前記軸線に沿う前記並進ステージ(56,58)の移動に結合した1対の互いに離れた移動センサ(124,128,130,131,132)により前記基準面(126,134,136)からの相対距離に関する情報を取得し、
    前記移動センサ(124,128,130,131,132)からのアッベ誤差情報を含む情報を迅速位置決め機構ドライバ(88)に転送し、
    前記ビーム偏向を行う迅速位置決め機構(54)により、前記レーザ出力と前記並進ステージ(56,58)により支持した前記ワークピース(62)との間の小さい範囲の相対移動を生じさせ、前記小さい範囲の相対移動は、前記移動センサから転送された情報に応答して生じ、これにより、前記小さい範囲の相対移動が、並進ステージ(56,58)の軸線から逸脱する移動又は回転移動に関するアッベ誤差を補正するものとし、また
    前記ワークピース(62)における目標位置に指向するレーザ出力を発生する
    ことよりなることを特徴とする位置決め方法。
  2. 前記回転移動をヨーとした請求項1記載の方法。
  3. 前記遅速位置決め機構における前記並進ステージ(56,58)、ワークピース(62)を支持する第1並進ステージ(58または56)とし、前記軸線は第1軸線とし、前記遅速位置決め機構は、さらに、前記第1軸線に直交する第2軸線に沿って移動可能な第2並進ステージ(56または58)を有する構成し、前記迅速位置決め機構(54)を前記第2並進ステージ(56または58)に取り付けた請求項1または2記載の方法。
  4. 前記第1並進ステージ(58または56)及び第2の並進ステージ(56または58)は、それぞれ互いに個別の第1及び第2の慣性質量を担持するものとした請求項3記載の方法。
  5. 迅速位置決め機構(54)を第1迅速位置決め機構(154)とし、前記第2並進ステージ(56または58は、前記第1迅速位置決め機構(154)の他に第2迅速位置決め機構(154)を支持し、前記第1迅速位置決め機構(154)および第2迅速位置決め機構(154)は、前記レーザ出力を2個の軸線の周りに協調して偏向させるよう位置決めした請求項3記載の方法。
  6. 複数個のワークピース(152)を第1並進ステージ(58または56)に取り付けた請求項3記載の方法。
  7. 前記第2並進ステージ(56または58)に、前記迅速位置決め機構ドライバ(88)に通信しかつ第2軸線に沿う第2並進ステージ(56または58)とともに移動するよう結合した互いに離れた第2の対の移動センサ(124,128,130,131,132)を設け、第2基準面(126,134,136)を前記第2並進ステージ(56または58)の近傍で前記第2軸線に平行となるよう配置し、第2並進ステージ(56または58)を前記第2基準面(126,134,136)に沿って移動できるようにし、また前記第2移動センサ(124,128,130,131,132)により前記第2基準面(126,134,136)からの相対距離に関する第2情報を取得することができかつ前記第2情報を迅速位置決め機構ドライバ(88)に転送し、前記転送される第2情報は、第2並進ステージ(56または58)の軸線から逸脱する第2移動又は第2回転移動に関連する第2アッベ誤差を含み、前記小さい範囲の相対移動は、前記第2移動センサから転送された第2情報に応答して生じ、これにより、前記小さい範囲の相対移動が、前記第2並進ステージ(56または58)の前記軸線から逸脱する第2移動又は第2回転移動に関するアッベ誤差を補正するものとした請求項3記載の方法。
  8. 前記第2回転移動をピッチ又はヨーとした請求項7記載の方法。
  9. 前記第2並進ステージ(56または58)に、前記迅速位置決め機構ドライバ(88)に通信しかつ前記第2軸線に沿う前記第2並進ステージ(56または58)とともに移動するよう結合した互いに離れた第3の対の移動センサ(124,128,130,131,132)を設け、第3基準面(126,134,136)を前記第2並進ステージ(56または58)の近傍で第2軸線と平行になるよう配置し、前記第2並進ステージ(56または58)を前記第3基準面(126,134,136)に沿って移動可能にし、前記第3移動センサ(124,128,130,131,132)により前記第3基準面(126,134,136)からの相対距離に関する第3情報を取得することができかつ前記第3情報を前記迅速位置決め機構ドライバ(88)に転送し、前記転送される第3情報は、第2並進ステージ(56または58)の第3の軸線から逸脱する第3移動又は第3回転移動に関連する第3アッベ誤差を含み、前記小さい範囲の相対移動は、前記第3移動センサから転送された第3情報に応答して生じ、これにより、前記小さい範囲の相対移動が、前記第2並進ステージ(56または58)の軸線から逸脱する第3移動又は第3回転移動に関するアッベ誤差を補正するものとした請求項7記載の方法。
  10. 前記第3回転移動をピッチ又はヨーとした請求項9記載の方法。
  11. 前記第2並進ステージ(56または58)に、前記迅速位置決め機構ドライバ(88)に通信しかつ前記第2軸線を含む平面上で前記第2並進ステージ(56または58)とともに移動するよう結合した第4の移動センサを設け、第4の基準面(126,134,136)を前記第2並進ステージ(56または58)の近傍に前記第2軸線に平行となるように配置し、前記第2基準面(126,134,136)を含む第2平面上で前記第2並進ステージ(56または58)を前記第4基準面(126,134,136)に沿って移動可能とし、前記第4移動センサは前記第2移動センサ(124,128,130,131,132)のうちの一方と連携して前記第4及び第2の基準面(126,134,136)からの相対距離に関する第4情報を取得することができるとともに、前記第4情報を前記迅速位置決め機構ドライバ(88)に転送し、前記転送される第4情報は、前記第2並進ステージ(56または58)の軸線から逸脱する移動又は第4回転移動に関連する第4アッベ誤差を含み、前記小さい範囲の相対移動は、前記第4移動センサから転送された第4情報に応答して生じ、これにより、前記小さい範囲の相対移動が、前記第2並進ステージ(56または58)の軸線から逸脱する第4移動又は第4回転移動に関するアッベ誤差を補正するものとした請求項9記載の方法。
  12. 前記第4の回転移動をロールとした請求項9記載の方法。
  13. 迅速位置決め機構(54)は、複数個のツール(156)に対して動作可能に関連して設け、これらツール(156)を前記第1並進ステージ(56,58)に支持した1個またはそれ以上のワークピースに対して相対運動させる複数個の迅速位置決め機構(154)を有するものとした請求項6記載の方法。
  14. 前記移動センサ(124,128,130,131,132)を容量センサとした請求項1〜13のうちいずれか一項に記載の方法。
  15. 前記移動センサ(124,128,130,131,132)を10nmの小さい相対距離を識別できるものとした請求項1〜13のうちいずれか一項に記載の方法。
  16. 前記移動センサ(124,128,130,131,132)を50μmの大きさの相対距離を測定できるものとした請求項1〜13のうちいずれか一項に記載の方法。
  17. 前記移動センサ(124,128,130,131,132)からの情報を迅速位置決め機構ドライバ(88)に転送するのは、前記位置決め信号プロセッサで情報を受け取り、また受け取った情報に基づく迅速移動制御信号により位置決め信号プロセッサで調整し、これによって、アッベ誤差をリアルタイムで補償することを含むものとした請求項1〜13のうちいずれか一項に記載の方法。
  18. 請求項1〜17記載の方法に使用する位置決め装置であって、位置決めコマンドに応答してワークピース(62)上の目標位置に対してツール(76)を位置決めする該位置決め装置において、
    軸線(X,Y)に沿って移動することができる並進ステージ(56,58)を有してする前記ツール(76)と前記ワークピース(62)との間の大きな範囲の相対移動を生じさせる遅速位置決め機構(56,58)と、
    前記ツール(76)と前記ワークピース(62)との間の小さい範囲の相対移動を生じさせる迅速位置決め機構(54)と、
    位置決めコマンドから遅速移動制御信号及び迅速移動制御信号を導き出す位置決め信号プロセッサ(52)と、
    前記遅速移動制御信号に応答して前記並進ステージ(56,58)の大きな範囲の相対移動を制御する遅速位置決め機構ドライバ(96)と、
    迅速移動制御信号に応答して迅速位置決め機構(54)の小さい範囲の相対移動を制御する迅速位置決め機構ドライバ(88)と、
    前記迅速位置決め機構ドライバ(88)と通信し、前記軸線(X,Y)に沿う前記並進ステージ(56,58)とともに移動するよう結合した1対の互いに離れた移動センサ(124,128,130,131,132)と、
    前記並進ステージ(56,58)の近傍に位置し、かつ前記軸線に平行な基準面(126,134,136)を有する部材と
    を具え、前記並進ステージ(56,58)は前記基準面に沿って移動可能とし、また前記移動センサ(124,128,130,131,132)が前記基準面(126,134,136)からの相対距離に関する情報を取得することができ、かつこの情報を迅速位置決め機構ドライバ(88)に転送して前記並進ステージ(56,58)の軸線からそれる移動又は回転移動に関連する第1のアッベ誤差を補正させることができるようにした
    ことを特徴とする位置決め装置。
  19. 位置決めコマンド(50)に応答してワークピース(62)に対するツール(76)の位置決めを行う位置決め装置において、
    軸線(X,Y)に沿って移動でき、前記ワークピース(62)を支持するよう構成した並進ステージ(56,58)を含み、前記ツール(76)と前記ワークピース(62)との間の大きな範囲の相対移動を生じさせる遅速位置決め機構(56,58)と、
    前記ツール(76)と前記ワークピース(62)との間の小さい範囲の相対移動を生じさせる、ビーム偏向を行う迅速位置決め機構(54)と、
    前記位置決めコマンドから遅速移動制御信号及び迅速移動制御信号を導き出す位置決め信号プロセッサ(52)と、
    前記遅速移動制御信号に応答して前記並進ステージ(56,58)の大きな範囲の相対移動を制御する遅速位置決め機構ドライバ(96)と、
    迅速移動制御信号に応答して前記迅速位置決め機構(54)の小さい範囲の相対移動を制御する迅速位置決め機構ドライバ(88)と、
    前記迅速位置決め機構ドライバ(88)と通信し、前記軸線(X,Y)に沿う前記並進ステージ(56,58)とともに移動するよう結合した1対の互いに離れた移動センサ(124,128,130,131,132)と、
    前記並進ステージ(56,58)の近傍に位置し、かつ前記軸線に平行な基準面(126,134,136)を有する部材と
    を具え、前記並進ステージ(56,58)は前記基準面に沿って移動可能とし、また前記移動センサ(124,128,130,131,132)は、前記基準面(126,134,136)からの相対距離に関する、またアッベ誤差情報を含む情報を取得することができ、かつこの情報を迅速位置決め機構ドライバ(88)に転送し、前記迅速位置決め機構ドライバ(88)は、前記移動センサから転送された前記情報に応答して小さい範囲の相対移動を生じさせ、前記小さい範囲の相対移動が、前記並進ステージ(56,58)の軸線から逸脱する移動又は回転移動に関連するアッベ誤差を補償するものとした
    ことを特徴とする位置決め装置。
  20. 請求項1〜17のいずれか一項に記載の方法において、前記ビーム偏向を行う迅速位置決め機構(54)は、検流計型駆動ミラー位置決め装置、圧電素子、またはボイスコイルアクチュエータを有する構成とした方法。
  21. 請求項1〜17のいずれか一項または20に記載の方法において、前記レーザ出力は、第1レーザが目標位置に指向するよう発生する第1レーザ出力、および第2レーザが目標位置に指向するよう発生する第2レーザ出力とした、方法。
  22. 請求項18または19に記載の装置において、前記ビーム偏向を行う迅速位置決め機構(54)は、検流計型駆動ミラー位置決め装置、圧電素子、またはボイスコイルアクチュエータを有する構成とした装置。
  23. 請求項18または19または22に記載の装置において、前記レーザ出力は、第1レーザが目標位置に指向するよう発生する第1レーザ出力、および第2レーザが目標位置に指向するよう発生する第2レーザ出力とした、装置。
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