JP4859437B2 - 被膜形成用樹脂組成物 - Google Patents
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Description
で表されるアミノ基含有モノマー20〜80重量%および式(II):
で表されるビニル基含有化合物20〜80重量%を含有するモノマー組成物を重合させてなる、レジストパターンの微細化用の被膜形成用樹脂組成物に関する。
還流冷却器、滴下ロート、温度計、窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコ内に、表1に示す組成からなるモノマー組成物を添加して混合し、モノマー組成物の濃度が60重量%となるようにエタノールで希釈した。
NVP:N-ビニルピロリドン
BMA:ブチルメタクリレート
CHMA:シクロへキシルメタクリレート
IBXA:イソボルニルアクリレート
DCPMA:ジシクロペンタニルメタクリレート
DMA:ジメチルアミノエチルアクリレート
DMMA:ジメチルアミノエチルメタクリレート
DMAPAA:ジメチルアミノプロピルアクリルアミド
DMAPMA:ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド
PVA:ポリビニルアルコール
PDMMA:ポリジメチルアミノエチルメタクリレート
t−ブチルメタクリレートのホモポリマー〔重量平均分子量:5000、重量平均分子量/数平均分子量の比の値:2.0〕をプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート(PGMAC)と乳酸エチルと混合溶液〔PGMAC:乳酸エチル=6:4(容量比)〕に濃度が10%(w/v)となるように溶解させた。
次に作製した評価用サンプルを用いて、以下の物性を調べた。その結果を表2に示す。
評価用サンプルのレジストパターンを光学顕微鏡で観察し、以下の評価基準に基づいて評価する。
〔評価基準〕
○:レジストパターンに被膜が残存していない。
△:レジストパターンに被膜が粒子状に残存している。
×:レジストパターンに被膜が塊状に残存している。
JIS(日本工業規格)H0201「塗料一般試験法」に記載の「鉛筆引っかき値試験法」に準じて、評価用サンプルのレジストパターン表面の鉛筆硬度を測定し、以下の評価基準に基づいて評価する。
〔評価基準〕
○:鉛筆硬度が4H以上
△:鉛筆硬度がB〜3H
×:鉛筆硬度が2B以下
評価用サンプルのコンタクトホールの直径を測定し、以下の評価基準に基づいて評価する。
〔評価基準〕
○:コンタクトホールの直径が140nm未満
△:コンタクトホールの直径が140nm以上250nm未満
×:コンタクトホールの直径が250nm以上280nm未満
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