JP4857463B2 - スチレン系樹脂の製造方法 - Google Patents
スチレン系樹脂の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4857463B2 JP4857463B2 JP2000378667A JP2000378667A JP4857463B2 JP 4857463 B2 JP4857463 B2 JP 4857463B2 JP 2000378667 A JP2000378667 A JP 2000378667A JP 2000378667 A JP2000378667 A JP 2000378667A JP 4857463 B2 JP4857463 B2 JP 4857463B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- polymerization
- butyl
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、スチレン系樹脂の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
スチレン系樹脂の製造方法として、重合開始剤を用いてスチレン系単量体を重合したのち脱揮して未反応のスチレン系単量体を除去し、スチレン系樹脂を得る方法が知られている。かかる製造方法により得られるスチレン系樹脂にはスチレン系単量体の2量体(ダイマー)や3量体(トリマー)が含まれるが、これら2量体および3量体はスチレン系樹脂の耐熱性の低下、着色などの原因となるものである。このため、2量体および3量体の含有量が少ないスチレン系樹脂が求められている。
【0003】
2量体および3量体が比較的少ないスチレン系樹脂の製造方法として、例えば特開平5−170825号公報には、重合開始剤を用いてスチレン系単量体を重合したのちフェノール系熱劣化防止剤を添加し、脱揮する方法が提案されており、フェノール系熱劣化防止剤として具体的には2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2−[1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレートなどの化合物が挙げられている。
【0004】
しかし、かかる化合物を用いる従来の方法により得られたスチレン系樹脂は、2量体および3量体の含有量が十分に低いものであるとは言えなかった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明者らは、2量体および3量体の含有量がより少ないスチレン系樹脂を製造し得る方法を開発するべく鋭意検討した結果、重合後、特定の亜リン酸エステル類を添加し、脱揮することにより得られるスチレン系樹脂は、2量体および3量体の含有量がより少ないことを見出し、本発明に至った。
【0006】
【課題を解決するための手段】
すなわち本発明は、重合開始剤を用いてスチレン系単量体を重合したのち、一般式(I)
〔式中、R1、R2、R4およびR5はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数5〜8のシクロアルキル基、炭素原子数6〜12のアルキルシクロアルキル基、炭素原子数7〜12のアラルキル基またはフェニル基を示し、R3は水素原子または炭素原子数1〜8のアルキル基を示す。Xは単結合、硫黄原子または一般式(I−1)
(式中、R6は水素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基または炭素原子数5〜8のシクロアルキル基を示す。)で示される2価の残基を示す。Aは炭素原子数2〜8のアルキレン基または一般式(I−2)
(式中、R7は単結合または炭素原子数1〜8のアルキレン基を示し、*は酸素原子側に結合していることを示す。)で示される2価の残基を示す。Y、Zはいずれか一方がヒドロキシル基、炭素数1〜8のアルコキシル基または炭素数7〜12のアラルキルオキシ基を示し、他の一方が水素原子または炭素原子数1〜8のアルキル基を示す。〕
で示される亜リン酸エステル類を添加し、脱揮することを特徴とするスチレン系樹脂の製造方法を提供するものである。
【0007】
【発明の実施の形態】
本発明の製造方法に適用されるスチレン系単量体は、スチレン系樹脂の原料となるモノマーであって、例えばスチレン、α−メチルスチレンなどのα−置換アルキルスチレン、p−メチルスチレンなどの核置換アルキルスチレンなどが挙げられる。スチレン系単量体はそれぞれ単独で用いられてもよいし、2種以上を混合して用いられてもよい。
【0008】
スチレン系単量体は、これと共重合可能な他の単量体と共に重合されてもよい。スチレン系単量体と共重合可能な他の単量体としては、例えばメチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニルなどのハロゲン化ビニルなどの1個のビニル基を有するモノビニル化合物、ジビニルベンゼン、ブタジエンなどの2個のビニル基を有するジビニル化合物などが挙げられる。これらの他の単量体はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。スチレン系単量体を他の単量体と共に重合した場合には、スチレン系単量体と他の単量体との共重合体を得ることができる。かかる共重合体における他の単量体単位は、通常30重量%以下、好ましくは10重量%以下である。
【0009】
重合開始剤を用いてスチレン系単量体を重合させるには、例えばスチレン系単量体および重合開始剤を混合して重合可能な温度以上の温度で重合させる、いわゆる塊状重合法、スチレン系単量体および重合開始剤を溶媒中で重合させる、いわゆる溶液重合法などの重合方法により重合させればよい。スチレン系単量体を共重合可能な他の単量体と共に重合させる場合には、スチレン系単量体、他の単量体および重合開始剤を混合して重合可能な温度以上の温度で重合させる塊状重合法によって重合してもよいし、これらを溶媒中で重合させる溶液重合法で重合すればよい。
【0010】
重合開始剤としては通常、有機過酸化物が用いられ、具体的には2,2−ビス(t−ブチルペルオキシ)ブタン、2,2−ビス(t−ブチルペルオキシ)オクタン、1,1−ビス(t−ブチルペルオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルペルオキシ)シクロヘキサン、n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルペルオキシ)バレレートなどのペルオキシケタール類、
【0011】
ジ−t−ブチルペルオキシド、t−ブチルクミルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、α,α’−ビス(t−ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキシン−3などのジアルキルペルオキシド類、
【0012】
アセチルペルオキシド、イソブチリルペルオキシド、オクタノイルペルオキシド、デカノイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、3,5,5−トリメチルヘキサノイルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、2,4−ジクロロベンゾイルペルオキシド、m−トリオイルペルオキシドなどのジアシルペルオキシド類、
【0013】
ジイソプロピルペルオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルペルオキシジカーボネート、ジ−n−プロピルペルオキシジカーボネート、ジミリスチルペルオキシジカーボネート、ジ−n−エトキシエチルペルオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルペルオキシジカーボネート、ジ−(3−メチル−3−メトキシブチル)ペルオキシジカーボネートなどのペルオキシジカーボネート類、
【0014】
t−ブチルペルオキシアセテート、t−ブチルペルオキシイソブチレート、t−ブチルペルオキシピバレート、t−ブチルペルオキシネオデカノエート、クミルペルオキシネオデカノエート、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシ−3,3,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシラウレート、t−ブチルペルオキシベンゾエート、ジ−t−ブチルジペルオキシイソフタレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルペルオキシ)ヘキサン、t−ブチルペルオキシイソプロピルカーボネートなどのペルオキシエステル類、
【0015】
アセチルアセトンペルオキシド、メチルエチルケトンペルオキシド、シクロヘキサノンペルオキシド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンペルオキシド、メチルシクロヘキサノンペルオキシドなどのケトンペルオキシド類、
【0016】
t−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ジイソプロピルペルベンゼンヒドロペルオキシド、p−メンタンヒドロペルオキシド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジヒドロペルオキシド、1,1,3,3−テトラメチルブチルヒドロペルオキシドなどのヒドロペルオキシド類などが例示される。かかる重合開始剤はそれぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。重合開始剤の使用量は用いる単量体に対して通常は10-7モル倍以上であり、通常は10-3モル倍以下程度である。
【0017】
スチレン系単量体および重合開始剤を混合し重合温度とすることにより、ラジカル重合が開始して、スチレン系単量体を重合させることができ、他の単量体と共重合する場合には、スチレン系単量体、他の単量体および重合開始剤を混合して重合温度とする。重合温度は用いる重合開始剤の種類により異なるが、有機過酸化物を用いる場合にはその分解温度以上の温度であり、通常20〜200℃の範囲である。
【0018】
塊状重合は無溶媒で行うこともできるが、溶媒中で行われてもよい。溶媒としては、例えばトルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類が用いられる。芳香族炭化水素溶媒はそれぞれ単独で用いられてもよいし、2種以上を組合わせて用いられてもよい。
【0019】
溶媒を用いる場合、その使用量は用いる単量体100重量部に対して通常25重量部以下である。25重量部を超えると重合速度が低下したり、得られるスチレン系樹脂の耐衝撃性が低下するほか、重合後の重合混合物から溶媒を除去することが困難となる傾向にある。
【0020】
溶媒中で重合するには、例えば用いる単量体、重合開始剤および溶媒の混合物を重合温度とすればよい。重合の途中で溶媒を追加してもよく、この場合には、使用する溶媒のうちの5〜15%程度を重合の開始前に単量体および重合開始剤と混合しておき、重合の途中で残りの95〜85%の溶媒を重合中の反応混合物に加えることが、均一な品質のスチレン系樹脂が得られる点や、重合温度の制御が容易となる点で好ましい。また、溶媒を用いることなく単量体および重合開始剤の混合物を重合温度に加熱してのち、溶媒を加えてもよい。
【0021】
重合に際しては、連鎖移動剤、ミネラルオイル、シリコンオイルなどの添加剤を添加してもよい。連鎖移動剤としては、例えばα−メチルスチレンリニアダイマー、n−ドデシルメルカプタン、t−ドデシルメルカプタンなどのメルカプタン類、1−フェニル−2−フルオレン、ジベンテンなどのテルペン類、クロロホルムなどのハロゲン化合物、テレピノーレンなどのテレピン類などが挙げられる。連鎖移動剤の使用量は用いる単量体100重量部あたり通常0.005〜0.1重量部程度である。
【0022】
ゴム状重合体の存在下に単量体を重合してもよい。ゴム状重合体の存在下に重合することにより、ゴム変性スチレン系樹脂を得ることができる。ゴム状重合体としては、例えばポリブタジエン、スチレン−ブタジエン共重合体、エチレン−プロピレン−非共役ジエン共重合体などが挙げられる。ポリブタジエンは、シス−ブタジエン単位の含有量の多いハイシスポリブタジエンであってもよいし、シス−ブタジエン単位の含有量の低いローシスポリブタジエンであってもよい。かかるゴム状重合体は通常、単量体と共に供給され、通常は攪拌しながら重合を行う。
【0023】
重合は、スチレン系単量体、重合開始剤、溶媒および添加剤などを連続して重合槽に供給しながら、重合後の重合混合物を重合槽から連続して取り出す連続重合であってもよいし、スチレン系単量体、重合開始剤、溶媒および添加剤を重合槽に供給して重合させ、重合後に重合混合物を重合槽から取り出す回分式であってもよい。他の単量体と共重合させる場合、他の単量体は通常、スチレン系単量体と共に供給される。
【0024】
かくして単量体を重合することによりスチレン系樹脂が生成し、スチレン系樹脂および未重合のスチレン系単量体を含む重合混合物が得られる。
【0025】
本発明の製造方法では、重合したのちの重合混合物に一般式(I)で示される亜リン酸エステル類を添加し、脱揮する。
【0026】
一般式(I)で示される亜リン酸エステル類においてR1、R2、R4、R5はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数5〜8のシクロアルキル基、炭素原子数6〜12のアルキルシクロアルキル基、炭素原子数7〜12のアラルキル基またはフェニル基である。
【0027】
炭素原子数1〜8のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、t−ペンチル基、イソオクチル基、t−オクチル基、2−エチルヘキシル基などが挙げられる。炭素原子数5〜8のシクロアルキル基としては、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などが挙げられる。炭素原子数6〜12のアルキルシクロアルキル基としては、例えば1−メチルシクロペンチル基、1−メチルシクロヘキシル基、1−メチル−4−イソプロピルシクロヘキシル基などが挙げられる。炭素原子数7〜12のアラルキル基としては、例えばベンジル基、α−メチルベンジル基、α,α−ジメチルベンジル基などが挙げられる。
【0028】
R1、R2、R4は、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアルキルシクロアルキル基が好ましく、R5は水素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数5〜8のシクロアルキル基が好ましい。
【0029】
さらに好ましいR1、R4としては、例えばt−ブチル基、t−ペンチル基、t−オクチル基などの四級炭素原子を有するアルキル基、シクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基などが挙げられる。さらに好ましい置換基R2としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、t−ペンチル基などの炭素原子数1〜5のアルキル基などが挙げられ、特に好ましくはメチル基、t−ブチル基、t−ペンチル基などが挙げられる。さらに好ましい置換基R5としては、例えば水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、t−ペンチル基などの炭素原子数1〜5のアルキル基などが挙げられる。
【0030】
R3は、水素原子または炭素原子数1〜8のアルキル基であるが、炭素原子数1〜8のアルキル基としては、R1などにおいて上記したと同様のアルキル基が挙げられる。好ましいR3としては、水素原子または炭素原子数1〜5のアルキル基が挙げられ、特に好ましくはメチル基が挙げられる。
【0031】
Xは単結合、硫黄原子または一般式(I−1)で示される2価の残基を示し、一般式(I−1)で示される2価の残基におけるR6は水素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基または炭素原子数5〜8のシクロアルキル基を示す。R6における炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数5〜8のシクロアルキル基としては、それぞれR1、R2、R4において上記したと同様のアルキル基、シクロアルキル基が挙げられる。好ましいXとしては、例えば単結合、メチレン基、メチル基で置換されたメチレン基、エチル基で置換されたメチレン基、n−プロピル基で置換されたメチレン基、イソブチル基で置換されたメチレン基、t−ブチル基で置換されたメチレン基などが挙げられ、さらに好ましくは単結合である。
【0032】
Aは炭素原子数2〜8のアルキレン基または一般式(I−2)で示される2価の残基を示すが、炭素原子数2〜8のアルキレン基としては、例えばエチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、2,2−ジメチル−1,3−プロピレン基などが挙げられる。一般式(I−2)における置換基R7は単結合または炭素原子数1〜8のアルキレン基を示すが、炭素原子数1〜8のアルキレン基としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、2,2−ジメチル−1,3−プロピレン基などが挙げられる。Aとしては、炭素原子数2〜8のアルキレン基が好ましく、さらに好ましくはプロピレン基である。また、R7としては単結合またはエチレン基が好ましい。
【0033】
Y、Zはいずれか一方がヒドロキシル基、炭素数1〜8のアルコキシル基または炭素数7〜12のアラルキルオキシ基を示し、他の一方が水素原子または炭素原子数1〜8のアルキル基を示すが、炭素数1〜8のアルコキシル基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、t−ペントキシ基、イソオクトキシ基、t−オクトキシ基、2−エトキシ基などが、炭素数7〜12のアラルキルオキシ基としては、例えばベンジルオキシ基、α−メチルベンジルオキシ基、α,α−ジメチルベンジルオキシ基などが、炭素原子数1〜8のアルキル基としてはR1、R2、R4において上記したと同様のアルキル基がそれぞれ挙げられる。
【0034】
かかる亜リン酸エステル類としては、例えば2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−6−[3−(3−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)プロポキシ]ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン、2,10−ジメチル−4,8−ジ−t−ブチル−6−[3−(3,5−ジ−t−4−ヒドロキシフェニル)プロポキシ]−12H−ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−6−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロポキシ]ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン、2,4,8,10−テトラ−t−ペンチル−6−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロポキシ]−12−メチル−12H−ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、2,10−ジメチル−4,8−ジ−t−ブチル−6−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−t−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]−12H−ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、2,4,8,10−テトラ−t−ペンチル−6−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]−12−メチル−12H−ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−6−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]−ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン、2,10−ジメチル−4,8−ジ−t−ブチル−6−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−12H−ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−6−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−12−メチル−12H−ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、2,10−ジメチル−4,8−ジ−t−ブチル−6−[3−(3−(3−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)プロポキシ)−12H−ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−6−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロポキシ]−12H−ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、2,10−ジエチル−4,8−ジ−t−ブチル−6−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロポキシ]−12H−ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−6−[2,2−ジメチル−3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ]−ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピンなどが挙げられる。
【0035】
かかる亜リン酸エステル類は公知の方法で製造することができる(特開平11−236475号公報など)。
【0036】
亜リン酸エステル類の添加量は、重合後の重合混合物に含まれるスチレン系樹脂100重量部に対して通常0.01重量部以上である。添加量が0.01重量部未満であると2量体、3量体の含有量が多くなる傾向にあり、好ましくは0.05重量部以上、さらに好ましくは0.1重量部以上である。また添加量が1重量部を超えても使用量に見合う効果が得られないため、好ましくは1重量部以下、さらに好ましくは0.5重量部以下である。
【0037】
亜リン酸エステル類を添加する際の温度は通常100℃以上260℃以下程度である。
【0038】
亜リン酸エステル類は溶媒で希釈して加えてもよい。溶媒としては重合に使用し得る溶媒として前記したと同様の芳香族炭化水素類などが挙げられる。
【0039】
亜リン酸エステル類と共にフェノール系熱劣化防止剤などの熱劣化防止剤を含有してもよい。フェノール系熱劣化防止剤としては、例えばn−オクタデシル 3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2−[1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレートなどのフェノール系熱劣化防止剤などが挙げられる。
【0040】
亜リン酸エステルを添加したのちは、スタティックミキサーなどを用いて重合混合物と亜リン酸エステル類とを均一に混合することが好ましい。
【0041】
亜リン酸エステル類を添加したのちの重合混合物を脱揮して未重合のスチレン系単量体を除去する。脱揮するには、例えば重合混合物を減圧下に加熱してもよいし、重合混合物を加熱しながら押出機のダイから押し出してもよい。加熱温度は通常、スチレン系樹脂の溶融温度以上の温度であって、例えば100℃以上260℃以下である。脱揮における圧力は通常150kPa以下であり、通常は0.001kPa以上である。
【0042】
脱揮する際の加熱により、未重合のスチレン系単量体や用いた単量体がさらに重合されてもよい。
【0043】
かくして重合混合物に含まれる未重合のスチレン系単量体が除去される。除去された未重合のモノマーは、回収して精製すれば、重合で用いるスチレン系単量体として再利用することができる。他の単量体を用いた場合には、スチレン系単量体と共に他の単量体が除去されてもよい。また、重合において溶媒を用いた場合には、溶媒も脱揮において除去することができ、これも回収して精製すれば、重合で用いる溶媒として再利用することができる。
【0044】
脱揮することにより、目的とするスチレン系樹脂が得られるが、得られたスチレン系樹脂は、造粒装置などによりペレットなどに加工されてもよい。造粒装置には、脱揮後の溶融状態にあるスチレン系樹脂を溶融状態のまま供給してもよいし、冷却後再び加熱溶融して供給してもよい。得られたペレットは、押出成形、射出成形などの通常の方法で成形することができる。得られた成形体は発泡させて発泡体としてもよい。かくして得られる成形体は、例えばトレー、カップ、丼(どんぶり)、スプーン、フォークなどの食器、野菜、果物、菓子などの包装容器などとして使用することができる。
【0045】
脱揮後のスチレン系樹脂には、例えば前記したと同様のフェノール系熱劣化防止剤などを含有させてもよい。
【0046】
本発明の製造方法により得られるスチレン系樹脂は2量体および3量体の合計含有量が少なく、概ね4000ppm以下、好ましくは2000ppm以下、さらに好ましくは1500ppm以下であるので、造粒装置でペレットに加工する際に加熱しても2量体、3量体に起因する着色などが発生しにくい。また、一般式(I)で示される亜リン酸エステル類を通常100ppm以上、好ましくは500ppm以上さらに好ましくは1000ppm以上含有し、好ましくは10000ppm以下、さらに好ましくは5000ppm以下含有しているので、このペレットを押出成形、射出成形などの方法で成形しても熱分解して低分子量化しにくい。このため、繰り返し成形しても着色などが発生しにくく、分子量も低下しにくく、容易に再利用することができる。
【0047】
【発明の効果】
本発明の製造方法によれば、スチレン系単量体の2量体および3量体の含有量がより少ないスチレン系樹脂を製造することができる。
【0048】
【実施例】
以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【0049】
実施例1
(重合)
重合槽(内容積17.7dm3、攪拌翼付き)に、スチレン95重量部、エチルベンゼン5重量部、重合開始剤〔1,1−ビス(t−ブチルペルオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、「パーヘキサ3M」、日本油脂(株)製〕0.015重量部および連鎖移動剤(t−ドデシルメルカプタン)0.018重量部の混合物を5dm3/時間の供給速度で連続的に供給しながら重合温度120℃で重合すると共に、5dm3/時間の取出速度で重合槽から混合物を取り出して、スチレンを含む重合混合物を得た。
【0050】
(脱揮)
取り出された重合混合物に、亜リン酸エステル類〔2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−6−[3−(3−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)プロポキシ]ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン〕3重量部およびエチルベンゼン97重量部の混合物を0.100dm3/時間の供給速度で添加し、スタティックミキサーで均一に混合した後、脱揮槽を用いて温度255℃、圧力0.20kPaで脱揮して、ポリスチレンを得た。
なお、得られた重合混合物のうちのポリスチレンの割合を示す固形分量(SC、Solid Content)は40重量%であった。
【0051】
(ペレットへの加工)
脱揮後の溶融状態にあるポリスチレンは溶融状態のまま造粒装置に供給してペレットに加工した。
【0052】
(評価)
得られたペレットを以下の方法で評価した。評価結果を表1に示す。
(1)2量体および3量体の含有量
ペレット1gをメチルエチルケトン50cm3に溶解し、その溶液をメタノール1000cm3の中に滴下して沈殿を得た。得られた沈殿を濾別し、濾液をロータリーエバポレーターで55℃に加熱して濃縮し、エイコサンのエタノール溶液(エイコサン濃度は0.003g/cm3)1cm3を加え、次いでメタノールを加えて容積を10cm3としてサンプルを得た。
得られたサンプルを以下の条件でガスクロマトグラフ法によって分析して2量体および3量体の合計含有量を求めた。なお、2量体および3量体の感度はエイコサンの感度と等しいとした。
【0053】
【0054】
(2)メルトフローレート(MFR)
JIS K 7120に従い200℃、荷重5kgにて測定した。
(3)着色安定性
各実施例で得たペレットの黄色度をJIS K 7105に従い測定し、YI1とした。
各実施例で得たペレットを、2軸造粒装置(東芝機械(株)製、「TEM35B」)を用いて220℃で造粒して、ペレットを得た。このペレットを用いて同条件で再度ペレットを得る操作をさらに4回繰り返し行い、得られたペレット(造粒を5回繰返し行ったペレット)について、黄色度を測定してYI2とし、上記と同様にしてMFRを測定してMFR5とした。
着色安定性はYI1とYI2とからその差(ΔYI=|YI1−YI2|)として算出した。
【0055】
実施例2
亜リン酸エステル類およびエチルベンゼンの混合物に代えて、亜リン酸エステル類〔2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−6−[3−(3−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)プロポキシ]ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン〕3重量部とフェノール系酸化防止剤〔n−オクタデシル 3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕3重量部とエチルベンゼン94重量部の混合物を用いる以外は実施例1と同様に操作して、ペレットを得、評価した。評価結果を表1に示す。
【0056】
実施例3
亜リン酸エステル類およびエチルベンゼンの混合物に代えて、亜リン酸エステル類〔2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−6−[3−(3−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)プロポキシ]ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン〕1重量部とエチルベンゼン99重量部の混合物を用いる以外は実施例1と同様に操作して、ペレットを得、評価した。評価結果を表1に示す。
【0057】
比較例1
亜リン酸エステル類およびエチルベンゼンの混合物を添加することなく脱揮する以外は実施例1と同様に操作して、ペレットを得、評価した。評価結果を表2に示す。
【0058】
比較例2
亜リン酸エステル類およびエチルベンゼンの混合物に代えて、フェノール系熱劣化防止剤〔2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、〕3重量部とエチルベンゼン97重量部との混合物を用いる以外は実施例1と同様に操作して、ペレットを得、評価した。評価結果を表2に示す。
【0059】
比較例3
スチレン、エチルベンゼン、重合開始剤および連鎖移動剤の混合物に代えて、スチレン95重量部、エチルベンゼン5重量部、実施例1で用いた同じ重合開始剤0.015重量部、実施例1で用いた同じ連鎖移動剤(t−ドデシルメルカプタン)0.018重量部、亜リン酸エステル類〔2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−6−[3−(3−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)プロポキシ]ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン〕0.060重量部の混合物を用いる以外は実施例1と同様に操作して、ポリスチレンを含む混合物を得た。
次いで、亜リン酸エステル類およびエチルベンゼンの混合物を添加することなく脱揮する以外は実施例1と同様に操作して、ペレットを得、評価した。評価結果を表2に示す。
【0060】
比較例4
スチレン、エチルベンゼン、重合開始剤および連鎖移動剤の混合物に代えてスチレン95重量部およびエチルベンゼン5重量部の混合物を用い、重合温度135℃で重合し、重合後取り出された重合混合物に亜リン酸エステル類3重量部およびエチルベンゼン97重量部の混合物を0.125dm3/時間の供給速度で添加する以外は実施例1と同様に操作して、ペレットを得、評価した。評価結果を表2に示す。
【0061】
比較例5
重合後取り出された重合混合物に亜リン酸エステル類およびエチルベンゼンの混合物を添加することなく脱揮する以外は比較例4と同様に操作して、ペレットを得、評価した。評価結果を表2に示す。
【0062】
【表1】
【0063】
【表2】
Claims (2)
- 重合開始剤を用いてスチレン系単量体を重合したのち、一般式(I)
〔式中、R1、R2、R4およびR5はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数5〜8のシクロアルキル基、炭素原子数6〜12のアルキルシクロアルキル基、炭素原子数7〜12のアラルキル基またはフェニル基を示し、R3は水素原子または炭素原子数1〜8のアルキル基を示す。Xは単結合、硫黄原子または一般式(I−1)
(式中、R6は水素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基または炭素原子数5〜8のシクロアルキル基を示す。)で示される2価の残基を示す。Aは炭素原子数2〜8のアルキレン基または一般式(I−2)
(式中、R7は単結合または炭素原子数1〜8のアルキレン基を示し、*は酸素原子側に結合していることを示す。)で示される2価の残基を示す。Y、Zはいずれか一方がヒドロキシル基、炭素数1〜8のアルコキシル基または炭素数7〜12のアラルキルオキシ基を示し、他の一方が水素原子または炭素原子数1〜8のアルキル基を示す。〕
で示される亜リン酸エステル類を添加し、脱揮することを特徴とするスチレン系樹脂の製造方法。 - 亜リン酸エステル類の添加量が、重合後の重合混合物に含まれるスチレン系樹脂100重量部に対して0.01重量部以上である請求項1に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000378667A JP4857463B2 (ja) | 2000-12-13 | 2000-12-13 | スチレン系樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000378667A JP4857463B2 (ja) | 2000-12-13 | 2000-12-13 | スチレン系樹脂の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002179726A JP2002179726A (ja) | 2002-06-26 |
JP4857463B2 true JP4857463B2 (ja) | 2012-01-18 |
Family
ID=18847191
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000378667A Expired - Fee Related JP4857463B2 (ja) | 2000-12-13 | 2000-12-13 | スチレン系樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4857463B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008184577A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Sumitomo Chemical Co Ltd | エチレン−α−オレフィン−ポリエン共重合体の製造方法 |
CN103987780B (zh) * | 2011-12-20 | 2017-03-22 | 东洋苯乙烯股份有限公司 | 光学用苯乙烯系树脂组合物,成型品及导光板 |
JP6095416B2 (ja) * | 2012-10-08 | 2017-03-15 | 株式会社日本触媒 | スチレン系ポリマー溶液 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04146907A (ja) * | 1990-10-09 | 1992-05-20 | Monsant Kasei Kk | スチレン―アクリロニトリル共重合体の製造法 |
JP3481313B2 (ja) * | 1994-07-29 | 2003-12-22 | 出光石油化学株式会社 | 耐衝撃性スチレン系樹脂組成物およびその製造方法 |
JP3994495B2 (ja) * | 1997-12-19 | 2007-10-17 | 住友化学株式会社 | 芳香族モノビニル系樹脂組成物、その製造方法および芳香族モノビニル系樹脂の熱分解防止方法 |
-
2000
- 2000-12-13 JP JP2000378667A patent/JP4857463B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002179726A (ja) | 2002-06-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4376847A (en) | Process for the production of styrene polymers | |
US9012568B2 (en) | Methods of making styrenic polymeric compositions and methods of using same | |
JP2009197105A (ja) | 芳香族モノビニル系樹脂の製造方法 | |
JP4857463B2 (ja) | スチレン系樹脂の製造方法 | |
JP2002128806A (ja) | 低分子成分の少ないスチレン系樹脂の製造方法 | |
SG178332A1 (en) | High impact polymers and methods of making and using same | |
JP3544189B2 (ja) | 芳香族モノビニル系樹脂組成物 | |
JP3481313B2 (ja) | 耐衝撃性スチレン系樹脂組成物およびその製造方法 | |
JP2875424B2 (ja) | 芳香族モノビニル系樹脂の製造方法 | |
JP3565804B2 (ja) | 芳香族モノビニル系樹脂の製造方法 | |
JP3778857B2 (ja) | 芳香族モノビニル系樹脂の製造方法 | |
US6890978B2 (en) | Aromatic monovinyl resin composition | |
JP2529615B2 (ja) | 新規なスチレン系樹脂及びその製造方法 | |
JP3544188B2 (ja) | 芳香族モノビニル系樹脂の非発泡シート及びその成形品 | |
JP3592271B2 (ja) | 芳香族モノビニル系樹脂の発泡シート及びその成形品 | |
JP2005112958A (ja) | スチレン系樹脂組成物の製法及び樹脂組成物 | |
JP5105676B2 (ja) | スチレン樹脂の製造方法 | |
JP3850305B2 (ja) | 芳香族モノビニル系樹脂シート及びそのシート用樹脂の製造方法 | |
JP2804967B2 (ja) | ゴム変性芳香族モノビニル系樹脂の製造方法 | |
JP2662135B2 (ja) | スチレン系樹脂の製造方法 | |
JP2004315827A (ja) | 芳香族モノビニル系樹脂の発泡シート及びその成形品 | |
JP2001316540A (ja) | スチレン系樹脂組成物 | |
JP2002121345A (ja) | 透明性に優れたポリスチレン系樹脂組成物 | |
JP2002003531A (ja) | 射出成形用ポリスチレン系樹脂 | |
JP2019143104A (ja) | スチレン系樹脂組成物、スチレン系樹脂混合物、発泡シート、及び成形品 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071127 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20080128 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101214 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110126 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111004 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111017 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4857463 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141111 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |