JP4840850B2 - 固体撮像装置およびその製造方法、電子情報機器 - Google Patents
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これによって、マイクロレンズ、カラーフィルタの側壁および平坦化膜上に反射防止膜を形成する場合に、実効的なマイクロレンズの底面と受光部との距離が、反射防止膜によって、反射防止膜の形成前に形成したマイクロレンズの底面と受光部との距離よりも大きくなるように影響を受けておらず、また、各マイクロレンズ上の反射防止膜間の距離g(マイクロレンズの半球面状の表面形状に沿って設けられた反射防止膜の半球面周縁部と隣り合う半球面周縁部との平面視上の最小距離g)としての実効的なマイクロレンズ間の距離gを「0」にできて(互いに接するようにできて)、集光性能を良好なものにすることが可能となる。
マイクロレンズ7は、複数の受光部2上の平坦化膜5上にカラーフィルタ6Aを介して、受光部2に対向するように設けられており、画素毎の受光部2上に光を集光させるためのものである。
反射防止膜8Aは、マイクロレンズ7、カラーフィルタ6Aの側壁および平坦化膜5上に所定膜厚tで設けられ、マイクロレンズの屈折率よりも小さい屈折率の単層膜で構成されている。この場合、平坦化膜5直上の反射防止膜8Aの少なくとも一部の表面(gで示す部分)の高さh1が、平坦化膜5の表面を基準にしたマイクロレンズ7の底面7aの高さh2以下である。言い換えると、マイクロレンズ7の上に凸状の表面形状に沿って設けられた反射防止膜8Aの半球面周縁部(平坦化膜5の表面を基準にした高さh1)が、マイクロレンズ7の底面7aと同じ高さh2位置にあるかまたはこの底面7aよりも下方位置にあり、隣り合う反射防止膜8Aの各半球面周縁部が互いに接している。つまり、隣り合う反射防止膜8Aの各半球面周縁部間の距離gが零「0」である。
図2は、図1の固体撮像装置20のカラーフィルタ形成工程において、半導体基板1上に配列された受光部2に対向する位置で、平坦化膜5上にカラーフィルタ6Aを配置したときの要部縦断面図である。
図2に示すように、隣り合う各受光部2上のカラーフィルタ6Aの側壁同士は、直接接しないように互いに分離した状態で設けられている。このとき、隣り合うカラーフィルタ6Aの側壁上端部間(離間距離)のギャップ幅wと、カラーフィルタ6Aの膜厚hとは、下記の式(数1)を満たしていればよい。
w<h (数1)
このように、カラーフィルタ6Aの隣り合う側壁上端部間のギャップ幅wはその膜厚h3よりも小さく構成されている。
図3に示すように、マイクロレンズ7の底面7aは、カラーフィルタ6Aの上面と一致していて、隣り合う受光部2上のマイクロレンズ7の底面7aとは、連続していないし、直接接していない。
t=λ/(4n) (数2)
t≦w/2 (数3)
上記式(数3)において、反射防止膜8Aの膜厚tの値がw/2に近くなれば、マイクロレンズ7に沿って積層された反射防止膜8Aの略半球面周縁部が、マイクロレンズ7の底面7aと同じ高さ、または、それよりも下方の位置で、隣り合う反射防止膜8Aの半球面周縁部と接する。
2 受光部
3 電荷転送電極
4 遮光膜
5 平坦化膜
6A カラーフィルタ
7 マイクロレンズ
7a マイクロレンズの底面
8A 反射防止膜
20 固体撮像装置
g 隣り合う反射防止膜の各半球面周縁部間の距離
h1 平坦化膜直上の反射防止膜の少なくとも一部の表面(gで示す部分)の高さ
h2 平坦化膜の表面を基準にしたマイクロレンズの底面高さ
h3 カラーフィルタの膜厚
w 隣り合う側壁上端部間のギャップ幅
t 反射防止膜の膜厚
λ 反射を防止したい光の波長
n 反射防止膜の屈折率
Claims (13)
- 半導体基板上に複数の受光部が配列され、該複数の受光部上の平坦化膜上にカラーフィルタを介して、該受光部毎に対向したマイクロレンズが設けられた固体撮像装置において、
該カラーフィルタは、該受光部に対向したカラーフィルタ領域毎に互いに分離した状態で設けられており、該マイクロレンズ、該カラーフィルタの側壁および該平坦化膜上に反射防止膜が設けられている固体撮像装置。 - 前記平坦化膜直上の反射防止膜の少なくとも一部の表面高さh1が、前記平坦化膜の表面を基準にした前記マイクロレンズの底面高さh2以下である請求項1に記載の固体撮像装置。
- 前記マイクロレンズの表面形状に沿って設けられた前記反射防止膜の半球面周縁部が、該マイクロレンズの底面と同じ高さ位置にあるかまたは該底面よりも下方位置にある請求項1に記載の固体撮像装置。
- 前記反射防止膜は、前記マイクロレンズの屈折率よりも小さい屈折率の単層膜または多層膜である請求項1に記載の固体撮像装置。
- 前記多層膜は、前記マイクロレンズから遠い方の膜ほど、該膜の屈折率が小さい請求項4に記載の固体撮像装置。
- 前記カラーフィルタの隣り合う側壁上端部間のギャップ幅wとその膜厚h3は、w<h3の関係を有する請求項1に記載の固体撮像装置。
- 前記反射防止膜の膜厚tは、該反射防止膜の屈折率をn、反射を防止したい光の波長をλとして、t=λ/(4n)の関係を有する請求項1に記載の固体撮像装置。
- 前記反射防止膜の膜厚tは、前記カラーフィルタの隣り合う側壁上端部間のギャップ幅をwとして、t≦w/2の関係を有する請求項1または6に記載の固体撮像装置。
- 前記カラーフィルタの代わりに無色の透明膜が設けられている請求項1〜8のいずれかに記載の固体撮像装置。
- 前記マイクロレンズの表面形状に沿って設けられた前記反射防止膜の半球面周縁部と、該半球面周縁部と隣り合う半球面周縁部との平面視上の最小距離gが0である請求項1に記載の固体撮像装置。
- CCD型固体撮像装置またはMOS型固体撮像装置である請求項1に記載の固体撮像装置。
- 半導体基板上に、複数の画素部の画素部毎に所定領域に選択的に不純物イオンを注入して並列して光電変換領域である受光部および電荷転送領域をそれぞれ形成する工程と、該電荷転送領域上に第1絶縁膜を形成した後にその上に電荷転送電極を形成する工程と、該電荷転送電極上に第2絶縁膜を形成した後にその上に、該受光部上を開口した遮光膜を形成する工程と、これらの該第1絶縁膜または該第2絶縁膜および、遮光膜上に層間絶縁膜である平坦化膜を形成する工程と、該平坦化膜上に、該受光部に対向したカラーフィルタ領域毎に互いに分離するように各カラーフィルタを形成する工程と、該各カラーフィルタ上にそれぞれ各マイクロレンズをそれぞれ形成する工程と、該平坦化膜および該各マイクロレンズ上に反射防止膜を形成する工程とを有する固体撮像装置の製造方法。
- 請求項1〜11のいずれかに記載の固体撮像装置を撮像部に用いた電子情報機器。
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