JP4838095B2 - 半導体チップの実装装置及び実装方法 - Google Patents

半導体チップの実装装置及び実装方法 Download PDF

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Description

本発明は、半導体チップを基板に実装する実装装置及び実装方法に関するものである。
一般に、半導体チップを基板に実装する実装装置では、半導体チップと基板との間に設けられた撮像手段により、供給された半導体チップ(以下単にチップという)と基板とを撮像し、得られた画像に基づいてアライメントを行った後、半導体チップが基板に実装される。具体的には、回路が形成される半導体チップの回路形成面にはアライメントマークが付されており、これらのアライメントマークの画像に基づいてアライメントを行った後、半導体チップが基板に実装される。
ここで、実装基板には、半導体チップがその回路形成面を上側に向けた状態(フェイスアップ状態)で実装されている実装基板(フェイスアップ実装基板)と、回路形成面が下側(基板側)に向けた状態(フェイスダウン状態)で実装されている実装基板(フェイスダウン実装基板)とがある。
例えば、フェイスダウン実装基板を生産する場合には、実装前では半導体チップのアライメントマークが下側を向く状態で保持されているため、このアライメントマークに基づいてアライメントすることができる。また、フェイスアップ実装基板を生産する場合には、実装前において半導体チップのアライメントマークが上側を向く状態で保持されているため、アライメントマークを視認できず、このアライメントマークに基づいてアライメントすることができない。
このように生産する実装基板のタイプにより、半導体チップのアライメントマークが表裏逆転して視認することができないため、従来の実装装置は、フェイスアップ実装基板又はフェイスダウン実装基板のいずれか一方のみを生産するように構成されている。また、一方では、アライメントマークを直接視認できない場合に、例えば特許文献1のようにX線撮像装置や赤外線顕微鏡等を用いてアライメントマークを認識する方法も考えられている。
特開平11−183406号公報
近年では、例えばチップ埋め込み基板のように半導体チップを基板に埋め込むタイプの薄型の基板が開発されており、このようなチップ埋め込み基板についてもフェイスアップ実装型とフェイスダウン実装型とが要求されている。しかしながら、フェイスアップ、フェイスダウンの様態に対応する実装装置を別々に用意するには、コスト面、装置の設置スペースを確保できないという問題がある。そのため、生産する実装基板のタイプに応じて、実装装置の装置構成を変更して使用する必要があるが、このような設備変更は変更作業及び調節作業に非常に手間がかかり、結果として生産コストを悪化させる要因となっていた。
また、上記特許文献1のようにX線撮像装置や赤外線顕微鏡等を用いる場合には、装置の構成が複雑になるとともに、アライメントマークの認識に時間を要しタクトタイムが長くなるという問題があった。
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、フェイスダウン実装基板とフェイスアップ実装基板のいずれのタイプの基板であっても共通の装置で生産することができるとともに、タクトタイムの短縮を図ることのできる実装装置及び実装方法を提供することを目的としている。
上記課題を解決するために、本発明に係る実装装置は、
供給された半導体チップの片面に付されたアライメントマークと基板に付されたアライメントマークとに基づいて、半導体チップを基板の所定位置に実装する実装装置において、
半導体チップが保持された状態で、アライメントマークが付された前記半導体チップの表面とこの裏面とを撮像するチップ認識部と、
実装前の半導体チップ及び基板が対向した状態で
前記実装前の半導体チップの基板側の面及び前記基板を撮像する実装前撮像装置と、
半導体チップのアライメントを行って半導体チップを基板に実装する実装部と、
これらを駆動制御する制御装置と、
を有しており、
前記チップ認識部は、
発光部と受光部とを備えるとともに前記半導体チップの表裏一方面側から前記半導体チップを撮像する第1撮像手段と、
発光部と受光部とを有するとともに前記第1撮像手段と対向する側から前記半導体チップを撮像する第2撮像手段とを有しており
前記第1撮像手段は、前記第1撮像手段側から前記半導体チップに向けて照射された光のうち前記半導体チップの前記第1撮像手段側の面で反射した光を撮像でき、
前記第2撮像手段は、前記第2撮像手段側から前記半導体チップに向けて照射された光のうち前記半導体チップの前記第2撮像手段側の面で反射した光を撮像でき、
前記制御装置は、
前記実装前撮像装置により前記実装前の半導体チップの基板側の面として撮像される画像が当該半導体チップの表面である場合には
前記半導体チップ表面のアライメントマーク位置情報に基づいて、
前記実装前撮像装置により前記実装前の半導体チップの基板側の面として撮像される画像が当該半導体チップの裏面である場合には
前記チップ認識部によって得られた前記半導体チップ裏面の画像と前記半導体チップ表面のアライメントマーク位置情報との関係に基づいて、
半導体チップをアライメントして実装するように前記実装部を制御することを特徴としている。
上記実装装置によれば、アライメントマークが付された前記半導体チップの表面とこの裏面とを撮像して得られた画像から裏面の画像におけるアライメントマーク位置情報を取得することにより、実装時において半導体チップの表面が撮像できない場合には、この裏面の画像におけるアライメントマーク位置情報に基づいてアライメントすることができる。そのため、実装時において半導体チップの表面が撮像できない場合には、アライメントマーク位置情報に基づいてアライメントを行い、実装時において半導体チップの表面が撮像できる場合には、表面の画像におけるアライメントマーク位置に基づいて実装することができる。したがって、フェイスダウン実装基板とフェイスアップ実装基板のいずれのタイプの基板であっても設備変更や調節作業を行うことなく共通の実装装置で生産することができる。また、裏面画像におけるアライメント情報によりアライメント可能となるため、従来のようにX線像装置等を用いて半導体チップの表面のアライメントマークを認識する場合に比べて、複雑な装置構成が不要となるとともに、アライメントマークを認識する時間も短くなるため、実装装置のタクトタイムを短縮させることができる。
具体的には、前記アライメントマーク位置情報は、前記チップ認識部で得られた半導体チップの裏面角部における画像とアライメントマーク位置とを対応させたアライメント基準画像であって、前記制御装置は、このアライメント基準画像を前記実装前撮像装置で撮像された半導体チップの裏面の画像と照合させることにより、実装前の半導体チップ裏面における裏面アライメントマーク位置を算出し、この裏面アライメントマーク位置を基準として半導体チップをアライメントするように前記実装部を駆動制御する構成としてもよい。
この構成によれば、チップ認識部で得られた半導体チップの表面角部と裏面角部との画像から半導体チップのアライメント基準画像を取得するため、それぞれの特定チップの形状に応じたアライメント基準画像を半導体チップごとに設定することができる。したがって、予め半導体チップの種類に応じたアライメント基準画像を用意し、このアライメント基準画像を用いて裏面アライメントマーク位置を算出する場合に比べて、特定チップの裏面形状にバラツキがある場合や欠け等がある場合であっても、これらの形状に応じたアライメント基準画像を設定し、精度よく裏面アライメントマーク位置を算出することができる。
また、前記制御装置は、前記実装前撮像装置により半導体チップの表面が撮像される場合には、半導体チップのアライメントマーク位置を基準としてアライメントするように前記実装部を駆動制御する構成とすることができる。
この構成によれば、半導体チップが実装前撮像装置により半導体チップの表面が撮像される状態で保持されている場合には、アライメントマークを基準とされるため、半導体チップをより確実にアライメントすることができる。
また、前記チップ認識部は、発光部と受光部とを備えるとともに前記半導体チップの表裏一方面側から前記半導体チップを撮像する第1撮像手段と、発光部と受光部とを有するとともに前記第1撮像手段と対向する側から前記半導体チップを撮像する第2撮像手段とを有しており、少なくとも第1撮像手段の受光部と第2撮像手段の発光部との光学的経路間には、第2撮像手段の発光部からの光が第1撮像手段の受光部で受光されるのを抑制するフィルタが設けられ、少なくとも第2撮像手段の受光部と第1撮像手段の発光部との光学的経路間には、第1撮像手段の発光部からの光が第2撮像手段の受光部で受光されるのを抑制するフィルタが設けられている構成とすることができる。
この構成によれば、第1撮像手段と第2撮像手段とが、それぞれ相手側の発光部からの光の透過を抑制するフィルタを有しているため、相手側の発光部からの光の影響を受けずに撮像することができる。これにより、第1の撮像手段と第2の撮像手段におけるそれぞれの発光部を同時に発光させて半導体チップの表面と裏面とを撮像することができる。したがって、互いの発光部の影響を避けるために第1撮像手段と第2撮像手段を異なるタイミングで撮像する場合に比べて、半導体チップの撮像に要する時間が短縮することができ実装装置全体のタクトタイムを短縮させることができる。
また、前記半導体チップが基板に実装された状態を撮像する実装後撮像装置をさらに有しており、前記制御装置は、この実装後撮像装置により半導体チップの裏面が撮像される場合には、前記裏面アライメントマーク位置と基板のアライメントマーク位置とのずれ量を算出し、実装状態の良否を判定する構成としてもよい。
この構成によれば、半導体チップの裏面が撮像される場合、すなわち、実装後にアライメントマークを視認できないフェイスダウン状態で実装されている場合であっても、裏面アライメントマーク位置を基準として判定することができる。したがって、フェイスダウン実装基板とフェイスアップ実装基板のいずれのタイプの基板であっても設備変更や調節作業を行うことなく実装基板の良否を判定することができる。
また、前記実装前撮像装置と実装後撮像装置は、共通する2視野カメラで構成するのが好ましい。
この構成によれば、実装前撮像装置と実装後撮像装置とを共通のカメラで構成することができ、装置構成を簡素化することができる。
また、前記半導体チップを表裏反転させるチップ供給部を備えており、このチップ供給部により、半導体チップがフェイスアップ状態又はフェイスダウン状態で前記チップ認識部に供給される構成としてもよい。
この構成によれば、前記チップ供給部により半導体チップをフェイスアップ状態、フェイスダウン状態を選択的に供給することができる。
上記課題を解決するために本発明に係る実装方法によれば、
供給された半導体チップの片面に付されたアライメントマークと基板に付されたアライメントマークとに基づいて、半導体チップを基板の所定位置に実装する実装方法であって、
半導体チップのアライメントマークが付された前記半導体チップの表面とこの裏面とを同時に撮像して得られた画像から、半導体チップ表面のアライメントマーク位置と半導体チップ裏面の一部形状とを関連づけてアライメント基準画像を取得する基準画像取得工程と、
実装前の半導体チップと基板とを対向させた状態で
前記実装前の半導体チップの基板側の面及び前記基板の画像を取得する実装前画像取得工程と、 前記実装前画像取得工程で得られた画像から半導体チップのアライメントマーク位置と基板のアライメントマーク位置を取得する実装前アライメントマーク位置取得工程と、
前記実装前アライメントマーク位置取得工程により得られた半導体チップのアライメントマーク位置と、基板のアライメントマーク位置とに基づいて半導体チップのアライメントを行って半導体チップを基板に実装する実装工程と、
を有しており、
前記実装前アライメントマーク位置取得工程において、
前記実装前取得工程により前記実装前の半導体チップの基板側の面として得られる画像が当該半導体チップの表面の画像である場合には
前記半導体チップ表面のアライメントマーク位置を実装する際のアライメントマーク位置とし、
前記実装前取得工程により前記実装前の半導体チップの基板側の面として得られる画像が当該半導体チップの裏面の画像である場合には
前記チップ認識部によって得られた前記半導体チップ裏面の画像と前記半導体チップ表面のアライメントマーク位置情報との関係に基づいて、
画像照合処理を行うことにより裏面アライメントマーク位置を算出し、この裏面アライメントマーク位置を実装する際のアライメントマーク位置とすることを特徴としている。
この実装方法によれば、前記実装前画像取得工程で得られた画像が半導体チップの裏面の画像である場合には、前記実装前アライメントマーク位置取得工程により得られた裏面アライメントマーク位置に基づいて半導体チップを基板に実装するため、実装時においてアライメントマークを視認できない状態で保持されている場合であっても、この裏面アライメントマーク位置を基準として実装することができる。したがって、フェイスダウン実装基板とフェイスアップ実装基板のいずれのタイプの基板であっても設備変更や調節作業を行うことなく共通の実装装置で生産することができる。また、チップ認識工程では、前記半導体チップの表面とこの裏面とを同時に撮像するため、異なるタイミングで撮像する場合に比べて、半導体チップの撮像に要する時間が短縮することができ実装装置のタクトタイムを短縮させることができる。
また、前記実装工程後に実装後の半導体チップ及び基板を撮像して半導体チップの画像と基板の画像を取得する実装後画像取得工程と、前記実装後画像取得工程で得られた画像から、基板に実装された半導体チップのアライメントマーク位置と、基板のアライメントマーク位置を取得する実装後アライメントマーク位置取得工程と、前記実装後アライメントマーク位置取得工程により得られた半導体チップのアライメントマーク位置と、基板のアライメントマーク位置に基づいて半導体チップが基板の所定位置に実装されたか否かを検査する検査工程と、をさらに有しており、前記実装後アライメントマーク位置取得工程において、半導体チップの裏面の画像が取得される場合には、前記アライメント基準画像に基づいて画像照合処理を行うことにより裏面アライメントマーク位置を算出し、この裏面アライメントマーク位置をアライメントマーク位置とする構成としてもよい。
この構成によれば、半導体チップの裏面が撮像される場合、すなわち、実装後にアライメントマークを視認できないフェイスダウン状態で実装されている場合であっても、裏面アライメントマーク位置を基準として判定することができる。したがって、フェイスダウン実装基板とフェイスアップ実装基板のいずれのタイプの基板であっても設備変更や調節作業を行うことなく共通の実装装置で実装基板の良否を検査することができる。
本発明の実装装置及び実装方法によれば、フェイスダウン実装基板、フェイスアップ実装基板のいずれのタイプの基板であっても共通の実装装置で生産することができる。また、実装装置のタクトタイムを短縮させることができる。
本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。
図1は、本実施形態に係る実装装置を概略的にしたものである。
本実施形態における実装装置は、供給された半導体チップ10(以下チップ10と称す)を基板20に実装するものであり、チップ供給部3、チップ認識部4、実装部5を有している。供給された半導体チップ10は、搬送装置6によりチップ供給部3からチップ認識部4、実装部5に搬送されるように構成されており、これらにおいて所定の処理がなされることにより、基板20上の所定位置に実装されるようになっている。
なお、以下の説明では、搬送装置6によりチップ10が搬送される方向をX軸方向、これと水平面上で直交する方向をY軸方向、X軸およびY軸方向の双方に直交する方向をZ軸方向として説明を進める。
ここで、供給されるチップ10はチップトレイ7上に載置されており、すべてのチップ10は回路形成面(以下単に表面11といい、この表面11の裏側を裏面12という)を上向きにした状態(フェイスアップ状態)で載置されている。そして、このチップ10の表面11の角部にはアライメントマークが2カ所付されている(図11における×印)。
前記チップ供給部3は、チップトレイ7から特定チップ10a(実装対象となるチップ10)を取り出して、搬送装置6に供給するものであり、移載ヘッド31と反転ツール32とを備えている。
前記移載ヘッド31は、特定チップ10aを吸着して保持し、この状態で搬送装置6に搬送するものである。具体的には、移載ヘッド31には、駆動装置(不図示)が取り付けられており、この駆動装置を駆動させることにより、移載ヘッド31がX軸方向(図1において左右方向)、Y軸方向(図1において紙面を貫通する方向)に移動するようになっている。これにより、移載ヘッド31は、チップトレイ7のXY平面上を自由に走査することができるとともに、チップ10を搬送装置6に移送することができるようになっている。
また、移載ヘッド31は、特定チップ10aと接するヘッド面31aには、吸引孔が形成されており、この吸引孔と真空ポンプ9(図4参照)とが連結されている。すなわち、この真空ポンプ9を作動させることにより、吸引孔に負圧を発生させて特定チップ10aを吸着できるようになっている。また、移載ヘッド31は、Z軸方向(図1において上下方向に)に伸縮できるように構成されている。これにより、移載ヘッド31は、チップトレイ7まで下降して特定のチップ10を直接吸着保持できるようになっている。すなわち、移載ヘッド31は、特定チップ10aをチップトレイ7に載置された姿勢(本実施形態ではフェイスアップの姿勢)を保持した状態で搬送装置6に供給できるようになっている。
また、前記反転ツール32は、特定チップ10aを表裏反転させて前記移載ヘッド31に供給するものである。具体的には、反転ツール32は特定チップ10aを吸着保持する吸着ヘッド32aを有しており、この吸着ヘッド32aを回動させることにより特定チップ10aを反転させることができる。
前記吸着ヘッド32aは、特定チップ10aを吸着させる吸着面32bを有している。この吸着面32bには吸引口が形成されており、この吸引口が真空ポンプ9とが連結されている。したがって、真空ポンプ9を作動させることにより、吸引口に負圧が発生しチップ10を吸着面32bに吸着させて保持できるようになっている。
また、前記反転ツール32には回転駆動装置(不図示)が連結されており、この回転駆動装置を作動させることにより、反転ツール32がY軸回りに回転するようになっている。
これにより、チップトレイ7上の特定チップ10aを吸着ヘッド32aに吸着させた状態で反転ツール32を反転させることにより、特定チップ10aの表面11が上側を向く姿勢(フェイスアップ状態)から下側を向く姿勢(フェイスダウン状態)に特定チップ10aを反転させることができるようになっている。
そして、この反転ツール32により反転させた特定チップ10aを移載ヘッド31により吸着保持し、この特定チップ10aを搬送装置6に移送することにより、フェイスダウンの状態で特定チップ10aを搬送装置6に供給することができる。
また、反転ツール32には、駆動装置(不図示)が取り付けられており、この駆動装置を駆動させることにより、反転ツール32がX軸方向、Y軸方向に移動できるように構成されている。すなわち、この駆動装置を駆動させることにより、反転ツール32の吸着ヘッド32aを特定チップ10a上に位置させるとともに、反転ツール32を供給されたチップトレイ7上から待避させる待避位置に位置させることができるようになっている。
したがって、特定チップ10aをフェイスアップの状態で搬送装置6に供給する場合には、反転ツール32を待避位置に位置させた状態で、移載ヘッド31のみによりチップ10を搬送装置6に移送する。また、特定チップ10aをフェイスダウンの状態で搬送装置6に供給する場合には、反転ツール32により特定チップ10aを反転させて、この状態の特定チップ10aを移載ヘッド31により吸着させて搬送装置6に移送する。このようにして、チップトレイ7上にフェイスアップ状態で供給された特定チップ10aを搬送装置6に移送する際、フェイスアップ状態で供給するか、フェイスダウン状態で供給するかを選択して供給することができるようになっている。
前記搬送装置6は、チップ供給部3により供給された特定チップ10aをチップ認識部4、実装部5に搬送するものである。具体的には、この搬送装置6は、チップ10を載置するチップスライダ61と駆動装置6aとを有している。そして、この駆動装置6aを作動させることにより、チップスライダ61をX軸方向に移動可能にするとともに、所定の位置で停止させることができるようになっている。本実施形態では、チップスライダ61は、チップ供給位置(位置A)、チップ認識位置(位置B)、チップ受け渡し位置(位置C)でそれぞれ停止できるようになっている。そして、チップ供給位置(位置A)では、チップ供給部3から特定チップ10aが供給され、チップ認識位置(位置B)では特定チップ10aの表面11及び裏面12の撮像が行われ、チップ受け渡し位置(位置C)では実装部5における特定チップ10aの受け渡し動作が行われる。
ここで図2はチップ認識部4を拡大した図である。図2に示すように、前記チップスライダ61は、特定チップ10aを載置するための載置部61aとこの載置部61aと直交する取付部61bとを有しており、取付部61bと駆動装置6aとが連結されている。
前記載置部61aは、平板状に形成されており、特定チップ10aを載置する部分、すなわちチップ載置領域62は、載置部61aの厚み方向に光が透過するように形成されている。具体的には、載置部61aのチップ載置領域62は、ガラス部材によって形成されており、特定チップ10aの外形よりも広範囲に亘って形成されている。これにより、上側(又は下側)から光が照射されると下側(又は上側)に光が透過するようになっており、載置部61aの上面に載置された特定チップ10aを載置部61aの下面側から視認できるようになっている。
前記チップ認識部4は、搬送装置6に載置された特定チップ10aの表面11及びこの表面11に対応する裏面12を撮像するためのものである。チップ認識部4は、図1、図2に示すように、上下方向に互いに対向するように2つの撮像手段41,42と、これらを連結する支持フレーム43とを有している。この支持フレーム43は、2つの撮像手段41,42が上下方向ほぼ同軸上に配置された状態で連結支持するものである。したがって、この2つの撮像手段41,42で撮像することにより、特定チップ表面11の角部の画像45(図11(a)参照)と、この表面11に対応する裏面12の画像46(図11(b)参照)とが撮像できるようになっている。また、この支持フレーム43には、駆動装置(不図示)が取り付けられており、この駆動装置を駆動制御することにより、これらの撮像手段41,42がチップ10を撮像する撮像位置とこの撮像位置から搬送方向に対してほぼ垂直をなす方向(Y軸方向)に離れる待機位置とに移動できるようになっている。すなわち、搬送装置6がチップ認識位置(位置B)に停止した場合には、この撮像装置が撮像位置に移動することにより、チップ載置領域62の延長線上に上下の撮像手段41,42が位置して、載置部61aに載置された特定チップ10aを撮像できるようになっている。
ここで、図3は撮像手段41,42を示す概略図である。図3に示すように、前記2つの撮像手段41,42、すなわち上側撮像手段41と下側撮像手段42は、同じ構成を有している。この上側撮像手段は、撮像本体部41aとミラー41bとを有しており、ミラー41bで反射された撮像対象物が撮像本体部41aで撮像されるように構成されている。具体的には、この撮像本体部41aは、CCDカメラ41c(本発明の受光部)と照明41d(本発明の発光部)とこれらを連結するミラーケース41eとを有しており、ミラーケース41e内にはCCDカメラ41cと照明41dとの光学的経路が交差する位置にハーフミラー41fが収容されている。これにより、図3に実線で示した経路ように、照明41dから照射された光がハーフミラー41fによってミラー41b側に反射され、ミラー41bにより撮像対象物側に反射される。そして、撮像対象物によって反射された後、ミラー41bによって撮像本体部41a側に反射された光がハーフミラー41fを透過してCCDカメラ41cで受光される。すなわち、照明41dから照射された光が特定チップ10aによって反射され、その反射された光をCCDカメラ41cで受光することにより特定チップ10aを撮像できるようになっている。
また、下側撮像手段42は、撮像本体部42a、ミラー42bを有しており、撮像本体部42aは、CCDカメラ42cと照明42dとこれらを連結するミラーケース42e内にはハーフミラー42fを有している。この下側撮像手段42は、上側撮像手段41と同じ構成であるため、詳細な説明は省略する。
そして、本実施形態では、上側及び下側撮像手段41,42により、特定チップ10aの表面11の角部におけるアライメントマークとその裏面12の角部を撮像できるようになっている。例えば、搬送装置6の載置部61aに特定チップ10aの表面11が上向き状態(フェイスアップ状態)で載置されている場合には、上側撮像手段41によりアライメントマークが付された特定チップ10aの表面11の角部が撮像されるとともに、下側撮像手段42によりそれに対応する特定チップ10aの裏面12の角部が撮像される。
なお、チップ10の表面11及び裏面12は鏡面に仕上げられているため、チップ10の表面11又は裏面12に照射された照明41d,42dからの光はほぼ全反射されるが、アライメントマーク及びチップ載置領域62のガラス部材は光をほとんど反射しないため、CCDカメラ41c,42cにおいてコントラストの差が十分に得られ、アライメントマーク及び特定チップ10aの裏面12の角部が精度よく撮像できるようになっている。
また、上側撮像手段41には、ミラー41bと撮像本体部41aとの間に上側フィルタ41gが設けられており、これにより、下側撮像手段42の照明42dの光がCCDカメラ41cに入射するのを抑制するようになっている。また、下側撮像手段42には、ミラー42bと撮像本体部42aとの間に下側フィルタ42gが設けられており、これにより、上側撮像手段41の照明41dの光がCCDカメラ42cに入射するのを抑制するようになっている。本実施形態では、上側撮像手段41の照明41dには赤色LEDが設けられており、下側撮像手段42の照明42dには青色LEDが設けられているため、上側フィルタ41gには青色LEDの光を抑制するものが設けられ、下側フィルタ42gは赤色LEDの光を抑制するものが設けられている。
このように上側及び下側フィルタ41g,42gを設けることにより、特定チップ10aの表面11と裏面12とを、上側撮像手段41と下側撮像手段42とによって同時に撮像することができる。すなわち、図3に示すように、上側撮像手段41と下側撮像手段42で同時に撮像すると、下側撮像手段42には、特定チップ10aの裏面12によって反射した光とチップ載置領域62を透過した上側撮像手段41の照明光とが入射されるが、下側フィルタ42gの存在により上側撮像手段41の照明光の透過が抑制される。したがって、下側撮像手段42のCCDカメラ42cには特定チップ10aの裏面12の反射光のみが入射される。同様に上側撮像手段41のCCDカメラ41cにはチップ10の表面11の反射光のみが入射される。すなわち、上側及び下側フィルタ41g,42gの存在により、上側及び下側撮像手段41,42により、それぞれ同時に撮像した場合であっても相手側の撮像手段(下側撮像手段42又は上側撮像手段41)における照明光の影響を受けずに撮像できるため、CCDカメラ41c,42cにおけるコントラストの差が十分に得られ、アライメントマーク及び特定チップ10aの裏面12の角部を精度よく撮像することができるようになっている。
前記実装部5は、供給された特定チップ10aを基板20の所定位置にアライメントして実装するものである。この実装部5は、供給された特定チップ10aを保持する実装ヘッド51と、基板20を保持する実装ステージ52とを有しており、搬送装置6により搬送された特定チップ10aを実装ヘッド51で吸着保持し、この実装ヘッド51により実装ステージ52に保持された基板20に実装できるようになっている。
前記実装ヘッド51は、特定チップ10aを吸着保持するように構成されている。具体的には、特定チップ10aと接する部分には吸着孔が形成されており、この吸着孔が真空ポンプ9と連通されている。したがって、実装ヘッド51を特定チップ10aに当接する状態で真空ポンプ9を作動させることにより、吸着孔に吸引力が発生し実装ヘッド51に特定チップ10aを吸着保持できるようになっている。また、実装ヘッド51には駆動装置51aが取り付けられており、この駆動装置51aを駆動制御することにより、実装ステージ52に対して接離する方向(上下方向)に移動可能であるとともに所定位置で停止できるように構成されている。これにより、特定チップ10aを載置した搬送装置6がチップ受け渡し位置(位置C)に停止した状態で、実装ヘッド51が下降して特定チップ10aを吸着保持することにより、特定チップ10aが搬送装置6から実装ヘッド51に受け渡しできるようになっている。
前記実装ステージ52は、基板20を保持するものである。具体的には、ステージ表面52a上には真空ポンプ9と連通された吸引孔が設けられており、真空ポンプ9を作動させて吸引孔に吸引力を発生させることにより基板20をステージ上に吸着保持できるようになっている。また、実装ステージ52は、位置決め機構52bが設けられており、ステージ表面52aをX軸方向、Y軸方向及びZ軸回りに回転可能に構成されている。したがって、実装ヘッド51に保持された特定チップ10aと、基板20上の実装位置とが一致するように前記位置決め機構52bを駆動制御することにより、特定チップ10aを基板20上の実装位置にアライメントできるようになっている。
また、実装部5には撮像装置8が設けられている。この撮像装置8は、特定チップ10aをアライメントするために、特定チップ10aと基板20とを撮像するものである。本実施形態における撮像装置8は、上向きカメラと下向きカメラとを有する2視野カメラ8aになっており、上側の画像と下側の画像とを1台のカメラで得ることができるようになっている。具体的には、この2視野カメラ8aは、実装ヘッド51と実装ステージ52との間に進出して撮像を行う撮像位置と、実装部5から退避する退避位置とに進退駆動するように構成されており、撮像位置に位置した状態で上側及び下側を撮像することができるようになっている。すなわち、特定チップ10aが実装される前の状態では、上向きカメラで実装ヘッド51に吸着された特定チップ10aが撮像され、下向きカメラで基板20が撮像される(本発明の実装前撮像装置)。また、特定チップ10aが実装された後の状態では、下向きカメラで基板20上の特定チップ10aと基板20とを撮像できるようになっている(本発明の実装後撮像装置)。
図4は、この実装装置に設けられた制御装置90の制御系を示すブロック図である。図4に示すように、この実装装置は、上述した各種ユニットの駆動を制御する制御装置90が設けられている。この制御装置90は、制御本体部91、駆動制御部92、画像処理部93、撮像装置制御部94、外部装置制御部95、入力部96とを有している。
制御本体部91は、論理演算を実行する周知のCPU、そのCPUを制御する種々のプログラムなどを予め記憶するROM、装置動作中に種々のデータを一時的に記憶するRAM、種々のプログラムやOS、さらに生産プログラム等の各種データを記憶するHDD等を備えている。そして、制御本体部91は、主制御部91a、基準画像設定部91b、照合演算部91c、ずれ量演算部91d、判定部91e、記憶部91fを有している。
主制御部91aは、予め記憶されたプログラムに従って一連の実装動作を実行すべく、駆動制御部92を介して各種ユニットの駆動装置51a,52b等を駆動制御するとともにこの実装動作において必要な各種演算を行うものである。また、チップ認識部4で得られた画像に基づいて特定チップ10aの裏面画像におけるアライメントマーク位置P(図11のP1(X1、Y1)及びP2(X2、Y2))を演算し、これに基づいて実装部5におけるアライメント動作を制御するものである。
基準画像設定部91bは、特定チップ10aの表面11のアライメントマーク位置Pと特定チップ裏面12の角部の画像とを対応させたアライメント基準画像Sを設定するものである。具体的には、チップ認識部4で得られた特定チップ10aの表面11の画像45(図11(a))からアライメントマーク位置Pを算出する。そして、この表面11の画像45とアライメントマーク位置Pとの位置関係から、この表面11の画像45と対応する裏面12の画像46におけるアライメントマーク位置P(裏面アライメントマーク位置P’)を算出する。この算出された裏面アライメントマーク位置P’と裏面画像46とを対応させたものを、特定チップ10aの裏面12の画像からアライメントマーク位置Pを検出するための基準画像(アライメント基準画像S)として設定する。
照合演算部91cは、得られた特定チップ10aの裏面の画像とアライメント基準画像Sとを照合することにより、得られた裏面の画像から裏面アライメントマーク位置P’を演算するものである。すなわち、実装部5における2視野カメラ8aで得られた特定チップ裏面12の画像に対してアライメント基準画像Sを照合(パターンマッチング)させることにより、特定チップ裏面12の画像からアライメント基準画像Sと同一形状部分を検出する。そして、この検出された同一形状部分から裏面アライメントマーク位置P’を算出する。すなわち、アライメント基準画像Sと裏面アライメントマーク位置P’の関係から、前記同一形状部分における裏面アライメントマーク位置P’を算出する。
ずれ量演算部91dは、基板20と特定チップ10aの位置関係におけるずれ量を演算するものである。具体的には、基板20のアライメントマーク位置Qに対する現在の特定チップ10aのアライメントマーク位置P(現在アライメントマーク位置Pq)と、予め設定された基板20のアライメントマーク位置Qに対するアライメントマーク位置P(設定アライメントマーク位置Pqo)とのずれ量を演算する。すなわち、実装前における特定チップ10aの現在アライメントマーク位置Pqと設定アライメントマーク位置Pqoとのずれ量(X,Y,θ)、及び、実装後における特定チップ10aの現在アライメントマーク位置Pqと設定アライメントマーク位置Pqoとの実装後ずれ量(X’,Y’,θ’)を演算する。
ここで、現在アライメントマーク位置Pqは、2視野カメラ8aにより特定チップ10aの表面11が撮像される場合には、基板20のアライメントマーク位置Qに対する特定チップ10aの表面11上に付されたアライメントマーク位置Pである。また、特定チップ10aの裏面12が撮像される場合には、基板20のアライメントマーク位置Qに対する照合演算部91cで算出された裏面アライメントマーク位置P’である。
判定部91eは、ずれ量演算部91dで演算されたずれ量、実装後ずれ量が、許容範囲内にあるか否かを判定する。具体的には、ずれ量演算部91dにおいて演算されたずれ量、実装後ずれ量が、記憶部91fに記憶された許容ずれ量の範囲内であるかを判定する。そして、この判定結果を主制御部91aに出力する。そして、主制御部91aは、この判定結果に基づいて駆動制御部92を介して実装ヘッド51及び実装ステージ52を駆動制御する。
記憶部91fは、各種データが格納されているとともに、演算結果等を一時的に格納するためのものである。具体的には、設定アライメントマーク位置Pqo、現在アライメントマーク位置Pqと設定アライメントマーク位置Pqoとの許容ずれ量に関するデータ等が格納されている。また、上側及び下側撮像手段41,42、2視野カメラ8aで撮像された画像データや、基準画像設定部91bで作成されたアライメント基準画像Sに関するデータが一時的に格納される。
駆動制御部92は、制御部本体からの制御信号に基づいて、チップ供給部3、チップ認識部4、実装部5等の各ユニットの駆動装置51a,52b等を制御するものである。
画像処理部93は、上側及び下側撮像手段41,42、2視野カメラ8aから出力される画像信号に所定の処理を施すことにより画像認識に適した画像データを生成して制御部本体に出力するものである。
撮像装置制御部94は、制御部本体からの制御信号に基づいて、上側及び下側撮像手段41,42、2視野カメラ8aの駆動を制御するものである。また、上側及び下側撮像手段41,42の照明41d,42dについても制御する。
外部装置制御部95は、真空ポンプ9等の外部装置の駆動を制御するものである。
入力部96は、各種設定及びデータ入力をキーボード71やタッチパネル72を用いて制御部本体に行うものである。具体的には、設定アライメントマーク位置Pqoデータ等の各種データをオペレータ側から設定及び入力を行うことができる。また、基板20に特定チップ10aをフェイスアップ状態で実装するか、フェイスダウン状態で実装するかについて、これらの入力手段を用いて選択できるようになっている。
次に、この実装装置における動作について、図5〜図10に示すフローチャートを参照しながら説明する。
まず、実装装置にチップトレイ7の供給が行われる(ステップS1)。このチップトレイ7には複数の半導体チップ10がフェイスアップ状態で載置されており、前工程における装置からチップ供給部3の所定位置にセットされる。
チップ供給部3にチップトレイ7が供給されると、これから実装する特定チップ10aが基板20にフェイスアップ状態で実装されるか否かが判断される(ステップS2)。本実施形態では、オペレータによる入力情報により判断される。具体的には、実装前の準備作業として、タッチパネル72からオペレータにより生産する実装基板20のタイプ(フェイスアップ実装、フェイスダウン実装)が入力されると、制御装置90の記憶部91fに生産基板情報として記憶される。すなわち、この生産基板情報に基づいて、特定チップ10aが基板20にフェイスアップ状態で実装されるか否かが判断される。そして、フェイスアップ状態で実装する場合には、ステップS2においてYESの方向に進み、吸着ヘッド32aによってチップトレイ7上の特定チップ10aが吸着保持される(ステップS3)。また、フェイスダウン状態で実装する場合には、ステップS2においてNOの方向に進み、反転ツール32によって特定チップ10aが反転された状態に保持されて、この特定チップ10aを吸着ヘッド32aによって吸着保持される(ステップS4)。すなわち、吸着ヘッド32aには、特定チップ10aの表面11が下向きの状態で吸着保持されることとなる。
次に搬送装置6に特定チップ10aの受け渡しが行われる(ステップS5)。すなわち、吸着ヘッド32aが搬送装置6側(図1において右側)に移動し、チップ供給位置(位置A)に停止しているチップスライダ61の載置部61aに特定チップ10aが載置される。このとき、特定チップ10aは、載置部61aのチップ載置領域62内に載置される。
搬送装置6への特定チップ10aの受け渡しが完了すると、アライメント基準画像S(アライメントマーク位置情報)の取得が行われる(ステップS6における基準画像取得工程)。すなわち、特定チップ10aが搬送装置6に載置されると、チップスライダ61がチップ認識位置(位置B)に移動し、この位置において特定チップ10aを撮像することにより、特定チップ10aのアライメント基準画像Sが取得される。
具体的には、図6のフローチャートに従って、上側撮像手段41と下側撮像手段42により特定チップ10aの表面11及び裏面12が同時に撮像されることにより、図11に示す特定チップ表面11の角部の画像45とこれに対応する裏面12の角部との画像46とを取得する(ステップS21)。そして、特定チップ表面11の画像45からアライメントマーク位置P(P1及びP2)を取得する(ステップS22)。このアライメントマーク位置Pは、特定チップ表面11の角部の画像45から、予め記憶部91fに記憶された特定チップ10aのアライメントマークの画像を照合させることにより検出する。これにより、特定チップ表面11のアライメントマーク位置Pを取得する。
一方、図11(b)に示す特定チップ裏面12の角部における画像46から、裏面12における裏面アライメントマーク位置P’を取得する(ステップS23)。具体的には、特定チップ裏面12の角部の画像46と表面11の角部の画像45とを対応させることにより、特定チップの裏面12における裏面アライメントマーク位置P’を算出する。すなわち、上側撮像手段41と下側撮像手段42とは、ほぼ同軸上に配置されているため、これらにより得られる画像は、特定チップ10aの同一角部における表面11及び裏面12の画像である。したがって、この表面画像45上の特定チップ10aの端部とアライメントマーク位置P(座標)との位置関係を求め、特定チップ10aの裏面画像46における前記位置関係となる位置を裏面アライメントマーク位置P’(P1’、P2’)(図11(b)において破線で示す)として算出する。そして、この算出された裏面アライメントマーク位置P’と特定チップ10aの裏面の画像46とを対応させてアライメント基準画像Sとして記憶部91fに記憶する(ステップS24)。
チップ認識部4におけるアライメント基準画像Sが取得されると、チップスライダ61がチップ受け渡し位置(位置C)まで移動し、実装部5に特定チップ10aの受け渡しが行われる(ステップS7)。具体的には、このチップスライダ61がチップ受け渡し位置に停止すると、実装ヘッド51が特定チップ10aに当接するまで下降してチップスライダ61に載置された特定チップ10aを吸着する。そして実装ヘッド51がチップスライダ61の移動を妨げることのない高さ位置まで上昇して、その位置において特定チップ10aが吸着保持した状態で停止する。
次に、特定チップ10aを基板20に実装するために実装前の特定チップ10a及び基板20の画像を取得する(ステップS8における実装前画像取得工程)。具体的には、チップ受け渡し位置(位置C)に位置するチップスライダ61が次の特定チップ10aを受け取るためにチップ供給位置(位置A)に移動した後に、退避位置に位置していた2視野カメラ8aが実装ヘッド51と実装ステージ52との間に進出し、上向きのカメラにて実装ヘッド51に吸着保持された特定チップ10aを撮像するとともに、下向きのカメラにて基板20を撮像して、これらの画像を取得する。
そして、得られた画像から、基板20のアライメントマーク位置Qと、特定チップ10aのアライメントマーク位置Pとを取得する(実装前アライメントマーク位置取得工程)。具体的には、得られた基板20の画像と予め記憶部91fに記憶された基板20のアライメントマークの画像とを照合させることにより基板20のアライメントマーク位置Qを取得する(ステップS9)。
また、得られた特定チップ10aの画像から、特定チップ10aのアライメントマーク位置Pを取得する(ステップS10)。ここで、フェイスアップ実装の場合とフェイスダウン実装の場合とによって、実装ヘッド51に吸着保持された特定チップ10aの姿勢が異なっている。すなわち、フェイスアップ実装の場合には、特定チップ10aが実装ヘッド51にフェイスアップ状態で保持されているため、2視野カメラ8aでは特定チップ10aの裏面12が撮像される。また、フェイスダウン実装の場合には、特定チップ10aが実装ヘッド51にフェイスダウン状態で保持されているため、2視野カメラ8aでは特定チップ10aの表面11が撮像される。そのため、このステップS10の処理は、ステップS2において入力された生産基板情報がフェイスアップ実装であるか、又はフェイスダウン実装であるかによって異なる処理が行われる。すなわち、フェイスアップ実装である場合には、図7のフローチャートに従って処理が行われ、フェイスダウン実装である場合には、図8のフローチャートに従って処理が行われる。なお、本実施形態では、ステップS2において入力された生産基板情報により、図7又は図8の処理が自動的に選択されるようになっている。
そして、生産基板情報がフェイスアップ実装である場合には、図7のフローチャートに従って、まず、2視野カメラ8aで取得された特定チップ10aの画像、すなわち特定チップ10aの裏面12の画像を取得するとともに(ステップS31)、記憶部91fに記憶されたアライメント基準画像Sの読み込みが行われる(ステップS32)。そして、特定チップ10aの裏面12の画像に対してアライメント基準画像Sを照合させることにより、特定チップ10aの裏面12の画像におけるアライメント基準画像S(特定チップ裏面12の角部)を検出する(ステップS33)。そして、記憶されたアライメント基準画像Sと裏面アライメントマーク位置P’との関係から、得られた裏面12の画像における裏面アライメントマーク位置P’を算出する(ステップS34)。そして、この算出された裏面アライメントマーク位置P’と基板20のアライメントマーク位置Qとの関係から、基板20のアライメントマーク位置Qに対する裏面アライメントマーク位置P’を現在アライメントマーク位置Pqとして設定する(ステップS35)。
なお、生産基板情報がフェイスダウン実装である場合には、2視野カメラ8aにより特定チップ10aの表面11の画像が得られるため、特定チップ10aに付されたアライメントマーク位置Pを直接が検出することができる。すなわち、図8のフローチャートにより、特定チップ10aの表面11の画像を取得し(ステップS41)、この特定チップ10aの表面11の画像と、予め記憶部91fに記憶された特定チップ10aのアライメントマーク画像とを照合させることにより(ステップS42)、特定チップ10aのアライメントマーク位置Pを取得する(ステップS43)。そして、算出されたアライメントマーク位置Pと基板20のアライメントマーク位置Qとの関係から、基板20のアライメントマーク位置Qに対するアライメントマーク位置Pを現在アライメントマーク位置Pqとして設定する(ステップS44)。
次に、特定チップ10aを基板20の所定位置に実装する(ステップS11)。具体的には、実装前アライメントマーク位置取得工程において取得した現在アライメントマーク位置Pqと、設定アライメントマーク位置Pqoとのずれ量(X,Y,θ)を演算する。そして、このずれ量に基づいて実装ステージ52の位置決め機構52bを駆動制御することにより、現在アライメントマーク位置Pqが設定アライメントマーク位置Pqoとなるように調節する。そして、2視野カメラ8aを退避させた状態で、実装ヘッド51を下降させることにより特定チップ10aを基板20の所定箇所に実装する(実装工程)。
次に、特定チップ10aが基板20の所定位置に実装されているか否かを確認する。具体的には、特定チップ10aが基板20に実装された状態の画像を取得することによって確認する(ステップS12における実装後画像取得工程)。すなわち、2視野カメラ8aを進出させて実装された状態の特定チップ10a及び基板20を撮像する。そして、得られた画像から基板20のアライメントマーク位置Qと特定チップ10aのアライメントマーク位置Pとを取得する(実装後アライメントマーク位置取得工程)。
すなわち、得られた画像から、予め記憶部91fに記憶された基板20のアライメントマークの画像を照合させることにより基板のアライメントマーク位置Qを取得する(ステップS13)。
また、得られた画像から、特定チップ10aのアライメントマーク位置Pを取得する(ステップS14)。ここで、基板20に実装される特定チップ10aがフェイスアップ実装の場合とフェイスダウン実装の場合とによって、2視野カメラ8aで撮像される特定チップ10aの画像が異なっている。すなわち、フェイスアップ実装の場合には、特定チップ10aの表面11が撮像され、フェイスダウン実装の場合には、特定チップ10aの裏面12が撮像される。そのため、このステップS14の処理は、ステップS2において入力された生産基板情報がフェイスアップ実装であるか、又はフェイスダウン実装であるかによって異なる処理が行われる。すなわち、フェイスアップ実装である場合には、図9のフローチャートに従って処理が行われ、フェイスダウン実装である場合には、図10のフローチャートに従って処理が行われる。なお、本実施形態では、ステップS2において入力された生産基板情報により、図9又は図10の処理が自動的に選択されるようになっている。
なお、図9におけるステップS51〜S54の処理は、上述のステップS41〜S44の処理と同様であり、図10におけるステップS61〜S65の処理は、上述のステップS31〜S35の処理と同様であるため、ここでは説明を省略する。
次に、特定チップ10aの実装位置が許容範囲であるか否かを検査する(ステップS15)。具体的には、実装後の現在アライメントマーク位置Pq(実装後に取得した基板20のアライメントマーク位置Qに対する現在実装されている特定チップ10aのアライメントマーク位置P)と、設定アライメントマーク位置Pqo(予め記憶部91fに記憶された基板20のアライメントマーク位置Qに対する特定チップ10aのアライメントマーク位置P)との実装後ずれ量(X’,Y’,θ’)を演算する。そして、この実装後ずれ量が許容範囲内である場合には次工程に基板20を排出し、許容範囲にない場合には基板20を不良品として排出する。
このように、上記実施形態における実装装置によれば、アライメントマークが付された前記特定チップ10aの表面11の角部とこの裏面12の角部とを撮像して、得られた画像から裏面画像46における裏面アライメントマーク位置P’を算出することにより、実装時又は検査時において、特定チップ10aの表面11が撮像できる場合には表面画像45におけるアライメントマーク位置Pに基づいて実装又は検査を行い、また、特定チップ10aの表面11が撮像できない場合には、算出された裏面アライメントマーク位置P’に基づいて実装又は検査を行うことができる。したがって、フェイスダウン実装基板20とフェイスアップ実装基板20のいずれのタイプの基板20であっても設備変更や調節作業を行うことなく共通の実装装置で生産することができる。また、裏面画像46からアライメント可能となるため、従来のようにX線像装置等を用いて半導体チップ10の表面11のアライメントマークを認識する場合に比べて、複雑な装置構成が不要となり、アライメントマークを認識する時間も短くなるため、実装装置のタクトタイムを短縮させることができる。
また、アライメント基準画像Sを取得するための上側撮像手段41と下側撮像手段42とが、それぞれフィルタ41g、42gを備えているため、相手側の撮像手段(下側撮像手段42又は上側撮像手段41)における照明光の影響を受けずに撮像できる。したがって、上側撮像手段41と下側撮像手段42とが、それぞれの同時に照明41d、42dを発光させて特定チップ10aの表面11と裏面12とを撮像することができるため、互いの照明光の影響を避けるために異なるタイミングで撮像する場合に比べて、特定チップ10aの撮像に要する時間を短縮させることができ、実装装置全体のタクトタイムを短縮させることができる。
また、本発明の実装装置は、上記実施形態に限定されものではない。例えば、上記実施形態では、チップ認識部4で得られた特定チップ10aの裏面12角部の画像をアライメント基準画像Sとして設定している例について説明したが、半導体チップ10の角部に限定されず、半導体チップ10の外形端部の画像をアライメント基準画像Sとしてもよい。
また、上記実施形態では、アライメントマーク位置情報として、アライメント基準画像Sを用いた例について説明したが、画像に限定されず、チップ認識部4で得られた半導体チップ10の裏面画像46から選択される複数の基準点(座標)を用いるものであってもよい。すなわち、これらの基準点とアライメントマーク位置Pとを対応させたものをアライメント位置情報として設定することにより、実装時における特定チップ10aの裏面画像から裏面アライメントマーク位置P’を算出することができる。
また、上記実施形態では、上側及び下側フィルタ41g、42gをミラーケース41e,42eの外側に配置する場合について説明したが、これに限定されず、相手側照明41d,42dからの光がCCDカメラ41c,42cで受光されるのを抑制されるように、CCDカメラ41c,42cと相手側照明41d,42dとの光学的経路間に配置されていればよい。
また、上記実施形態では、実装部5において2視野カメラ8aを用いる例について説明したが、上方を撮像する上向きカメラと下方を撮像する下向きカメラとを別々に設ける構成であってもよい。
本発明に係る実装装置を示す概略図である。 チップ認識部を示す拡大概略図である。 撮像手段の構成を示す概略図である。 制御装置の制御系を示すブロック図である。 実装装置全体の動作を示すフローチャートである。 基準画像取得工程の動作を示すフローチャートである。 フェイスアップ実装を行う場合に、実装前の特定チップのアライメントマーク位置を取得する動作を示すフローチャートである。 フェイスダウン実装を行う場合に、実装前の特定チップのアライメントマーク位置を取得する動作を示すフローチャートである。 ファイスアップ実装を行った場合に、実装後の特定チップのアライメントマーク位置を取得する動作を示すフローチャートである。 ファイスダウン実装を行った場合に、実装後の特定チップのアライメントマーク位置を取得する動作を示すフローチャートである。 特定チップの角部の画像を示す概略図であり、(a)は特定チップの表面角部の画像、(b)は特定チップの裏面角部の画像を示す図である。
符号の説明
3 チップ供給部
4 チップ認識部
5 実装部
6 搬送装置
8a 2視野カメラ
10a 特定チップ
11 表面
12 裏面
20 基板
31 移載ヘッド
32 反転ツール
41 上側撮像手段
42 下側撮像手段
51 実装ヘッド
52 実装ステージ

Claims (9)

  1. 供給された半導体チップの片面に付されたアライメントマークと基板に付されたアライメントマークとに基づいて、半導体チップを基板の所定位置に実装する実装装置において、
    半導体チップが保持された状態で、アライメントマークが付された前記半導体チップの表面とこの裏面とを撮像するチップ認識部と、
    実装前の半導体チップ及び基板が対向した状態で
    前記実装前の半導体チップの基板側の面及び前記基板を撮像する実装前撮像装置と、
    半導体チップのアライメントを行って半導体チップを基板に実装する実装部と、
    これらを駆動制御する制御装置と、
    を有しており、
    前記チップ認識部は、
    発光部と受光部とを備えるとともに前記半導体チップの表裏一方面側から前記半導体チップを撮像する第1撮像手段と、
    発光部と受光部とを有するとともに前記第1撮像手段と対向する側から前記半導体チップを撮像する第2撮像手段とを有しており
    前記第1撮像手段は、前記第1撮像手段側から前記半導体チップに向けて照射された光のうち前記半導体チップの前記第1撮像手段側の面で反射した光を撮像でき、
    前記第2撮像手段は、前記第2撮像手段側から前記半導体チップに向けて照射された光のうち前記半導体チップの前記第2撮像手段側の面で反射した光を撮像でき、
    前記制御装置は、
    前記実装前撮像装置により前記実装前の半導体チップの基板側の面として撮像される画像が当該半導体チップの表面である場合には
    前記半導体チップ表面のアライメントマーク位置情報に基づいて、
    前記実装前撮像装置により前記実装前の半導体チップの基板側の面として撮像される画像が当該半導体チップの裏面である場合には
    前記チップ認識部によって得られた前記半導体チップ裏面の画像と前記半導体チップ表面のアライメントマーク位置情報との関係に基づいて、
    半導体チップをアライメントして実装するように前記実装部を制御することを特徴とする実装装置。
  2. 前記アライメントマーク位置情報は、前記チップ認識部で得られた半導体チップの裏面角部における画像とアライメントマーク位置とを対応させたアライメント基準画像であって、前記制御装置は、このアライメント基準画像を前記実装前撮像装置で撮像された半導体チップの裏面の画像と照合させることにより、実装前の半導体チップ裏面における裏面アライメントマーク位置を算出し、この裏面アライメントマーク位置を基準として半導体チップをアライメントするように前記実装部を駆動制御することを特徴とする請求項1に記載の実装装置。
  3. 前記制御装置は、前記実装前撮像装置により半導体チップの表面が撮像される場合には、半導体チップのアライメントマーク位置を基準としてアライメントするように前記実装部を駆動制御することを特徴とする請求項1又は2に記載の実装装置。
  4. 前記チップ認識部は、
    なくとも第1撮像手段の受光部と第2撮像手段の発光部との光学的経路間には、第2撮像手段の発光部からの光が第1撮像手段の受光部で受光されるのを抑制するフィルタが設けられ、
    少なくとも第2撮像手段の受光部と第1撮像手段の発光部との光学的経路間には、第1撮像手段の発光部からの光が第2撮像手段の受光部で受光されるのを抑制するフィルタが設けられていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の実装装置。
  5. 前記半導体チップが基板に実装された状態を撮像する実装後撮像装置をさらに有しており、前記制御装置は、この実装後撮像装置により半導体チップの裏面が撮像される場合には、前記裏面アライメントマーク位置と基板のアライメントマーク位置とのずれ量を算出し、実装状態の良否を判定することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の実装装置。
  6. 前記実装前撮像装置と実装後撮像装置は、共通する2視野カメラで構成されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の実装装置。
  7. 前記半導体チップを表裏反転させるチップ供給部を備えており、このチップ供給部により、半導体チップがフェイスアップ状態又はフェイスダウン状態で前記チップ認識部に供給されることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の実装装置。
  8. 供給された半導体チップの片面に付されたアライメントマークと基板に付されたアライメントマークとに基づいて、半導体チップを基板の所定位置に実装する実装方法であって、
    半導体チップのアライメントマークが付された前記半導体チップの表面とこの裏面とを同時に撮像して得られた画像から、半導体チップ表面のアライメントマーク位置と半導体チップ裏面の一部形状とを関連づけてアライメント基準画像を取得する基準画像取得工程と、
    実装前の半導体チップと基板とを対向させた状態で
    前記実装前の半導体チップの基板側の面及び前記基板の画像を取得する実装前画像取得工程と、 前記実装前画像取得工程で得られた画像から半導体チップのアライメントマーク位置と基板のアライメントマーク位置を取得する実装前アライメントマーク位置取得工程と、
    前記実装前アライメントマーク位置取得工程により得られた半導体チップのアライメントマーク位置と、基板のアライメントマーク位置とに基づいて半導体チップのアライメントを行って半導体チップを基板に実装する実装工程と、
    を有しており、
    前記実装前アライメントマーク位置取得工程において、
    前記実装前取得工程により前記実装前の半導体チップの基板側の面として得られる画像が当該半導体チップの表面の画像である場合には
    前記半導体チップ表面のアライメントマーク位置を実装する際のアライメントマーク位置とし、
    前記実装前取得工程により前記実装前の半導体チップの基板側の面として得られる画像が当該半導体チップの裏面の画像である場合には
    前記チップ認識部によって得られた前記半導体チップ裏面の画像と前記半導体チップ表面のアライメントマーク位置情報との関係に基づいて、
    画像照合処理を行うことにより裏面アライメントマーク位置を算出し、この裏面アライメントマーク位置を実装する際のアライメントマーク位置とすることを特徴とする実装方法。
  9. 前記実装工程後に実装後の半導体チップ及び基板を撮像して半導体チップの画像と基板の画像を取得する実装後画像取得工程と、
    前記実装後画像取得工程で得られた画像から、基板に実装された半導体チップのアライメントマーク位置と、基板のアライメントマーク位置を取得する実装後アライメントマーク位置取得工程と、
    前記実装後アライメントマーク位置取得工程により得られた半導体チップのアライメントマーク位置と、基板のアライメントマーク位置に基づいて半導体チップが基板の所定位置に実装されたか否かを検査する検査工程と、
    をさらに有しており、
    前記実装後アライメントマーク位置取得工程において、半導体チップの裏面の画像が取得される場合には、前記アライメント基準画像に基づいて画像照合処理を行うことにより裏面アライメントマーク位置を算出し、この裏面アライメントマーク位置をアライメントマーク位置とすることを特徴とする請求項8に記載の実装方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103545236A (zh) * 2013-11-12 2014-01-29 江苏艾科瑞思封装自动化设备有限公司 装片机的自动对位机构、包括它的装片机及方法
CN106153629A (zh) * 2015-04-27 2016-11-23 昆山市和博电子科技有限公司 用于检测与切割晶片电阻的流程装置
US10766973B2 (en) 2015-06-22 2020-09-08 Maruzen Petrochemical Co., Ltd. Method for producing polymer for electronic material and polymer for electronic material obtained by the production method
JP6717630B2 (ja) * 2016-03-29 2020-07-01 芝浦メカトロニクス株式会社 電子部品の実装装置
JP6942829B2 (ja) * 2016-03-29 2021-09-29 芝浦メカトロニクス株式会社 電子部品の実装装置
KR102429362B1 (ko) * 2017-04-27 2022-08-04 엘지전자 주식회사 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조 방법
JP6902974B2 (ja) * 2017-09-19 2021-07-14 芝浦メカトロニクス株式会社 電子部品の実装装置および実装方法
CN110970321B (zh) * 2018-09-30 2022-06-10 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种芯片贴片设备及芯片贴片方法
JP2020136361A (ja) * 2019-02-14 2020-08-31 ファスフォードテクノロジ株式会社 実装装置および半導体装置の製造方法
JP7307323B2 (ja) * 2019-05-28 2023-07-12 澁谷工業株式会社 ボンディング装置
JP2020120132A (ja) * 2020-04-28 2020-08-06 パナソニックIpマネジメント株式会社 部品搭載装置
CN115836383A (zh) * 2020-07-13 2023-03-21 东丽工程株式会社 安装装置及安装方法
WO2024005222A1 (ko) * 2022-06-28 2024-01-04 엘지전자 주식회사 마이크로 엘이디 디스플레이 제조 장치
DE102022135081A1 (de) * 2022-12-31 2024-07-11 Besi Switzerland Ag Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung eines Positionierungsfehlers einer aufnehmbaren Komponente

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0917830A (ja) * 1995-06-27 1997-01-17 Canon Inc ワイヤボンディング検査装置
JP4517533B2 (ja) * 2001-04-27 2010-08-04 ソニー株式会社 部品実装方法および部品実装装置
JP3948551B2 (ja) * 2001-11-05 2007-07-25 東レエンジニアリング株式会社 実装方法および実装装置
JP3993114B2 (ja) * 2003-02-06 2007-10-17 株式会社新川 ダイボンディング方法及び装置

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