JP4837424B2 - ガスハイドレートペレットの製造方法および製造装置 - Google Patents
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Description
このようにペレット化されたガスハイドレートは、粉粒状のガスハイドレートに比べて保存安定性が高いことが知られている。
ここで、ガスハイドレートは、大気圧下においても、氷点下のある温度領域で、ガスハイドレートの分解が抑制されて準安定状態をとることが知られており、自己保存効果として知られている。この自己保存効果は、ガスハイドレート表面が氷によって覆われることによって、内部のガスハイドレートと外部との熱交換が遮断され、ガスハイドレートの分解条件下でも内部のガスハイドレートは安定すると考えられている。そこで、特許文献2では、ガスハイドレートの表面に氷膜を形成させて覆い、保存安定性の向上を図ることが提案されている。
本発明によれば、前記ガスハイドレートペレット自体の温度低下により、該ガスハイドレートペレットは再び該ガスハイドレートの生成領域に入ることとなり、ガスハイドレートペレットがそれ以上分解することを抑制することができる。
本発明によれば、ガスハイドレートの構成ガス成分が単一のガス種であるので、ガスハイドレートペレット表面のガスハイドレートの分解が均一に起こるため、より均一で密閉性の高い氷膜を形成することができる。
本発明によれば、第1の態様と同様の作用効果を得ることができる。
本発明によれば、第2の態様と同様の作用効果を得ることができる。
ガスハイドレートは、通常、高圧・低温条件の下で生成される。生成方法として、以下の方式が良く知られている。原料ガスを高圧に充填した反応容器の上部から冷却した水を噴霧することにより、水滴が原料ガス中を落下する際に水滴表面にガスハイドレートを生成させる、いわゆる「水噴霧方式」や、原料ガスを水中に気泡として導入(バブリング)することにより、原料ガスの気泡が水中を上昇する際に気泡表面にガスハイドレートを生成させる、いわゆる「バブリング方式」等である。
[実施例1]
本実施例では、メタンガスハイドレートを例に挙げて説明する。図1は、本実施例に係るガスハイドレートペレット製造装置の概略図である。
表面分解工程では、表面分解装置11内を、主に圧力を調整することによって、メタンガスハイドレートが分解する条件にして、メタンガスハイドレートペレット2aの表面を分解させ、水とガスとを生成させ、該ペレット表面に水が生成されたガスハイドレートペレット2bを形成させる。
氷膜形成装置12内は、メタンガスハイドレートが分解せず、且つ、水が氷る温度および圧力条件に予め設定されている。氷膜形成装置12内の圧力は、前記表面分解装置11内の圧力とほぼ同圧であることが望ましい。本実施例では、−20℃、3MPaに設定されている。
本実施例における表面分解工程では、表面分解装置11内の温度を、造粒装置10内と同じ条件の同じ温度に設定し、圧力を変化させることによって、該表面分解装置11内をメタンガスハイドレートが分解する条件に調整する。
ペレット表面の分解ガスハイドレート量は、ペレット重量の0.8%となる0.025gであった。これにより、ガスハイドレートの分解熱11Jが吸熱され、ペレット自体の温度は緩やかに1.8℃低下し、0.2℃になった。
そのため、メタンガスハイドレートの分解を制御することが容易であり、ペレット表面のメタンガスハイドレートの分解を必要最小限に抑えることができる。
2a、2b、2c メタンガスハイドレートペレット、
10 造粒装置、 11 表面分解装置、 12 氷膜形成装置、
13 貯槽
Claims (6)
- ガスハイドレートが生成する低温および高圧条件下において、粉粒体状のガスハイドレートを圧縮成形してガスハイドレートペレットを形成させる造粒工程と、
前記造粒工程における温度および圧力条件のうち、主に圧力を調整することによって、前記ガスハイドレートが分解する条件を達成し、前記ガスハイドレートペレットの表面のガスハイドレートを分解させ、水とガスとを生成させる表面分解工程と、
前記表面分解工程においてペレット表面に水が生成したガスハイドレートペレットを、ガスハイドレートが分解せず、且つ、水が氷る温度および圧力条件下に移動させ、前記ガスハイドレートペレット表面に氷膜を形成させる氷膜形成工程と、
氷膜が形成されたガスハイドレートペレットを、当該ガスハイドレートが大気圧下で自己保存効果を示す温度条件下において大気圧まで脱圧する脱圧工程と、
を含むことを特徴とする、ガスハイドレートペレットの製造方法。 - 請求項1において、前記表面分解工程においてガスハイドレートが分解する条件は、ガスハイドレートペレット表面のガスハイドレートの分解による吸熱反応により、該ガスハイドレートペレットの温度が低下することによって、ガスハイドレートペレット自体が、ガスハイドレートの分解条件領域から生成条件領域に変化する条件であることを特徴とする、ガスハイドレートペレットの製造方法。
- 請求項1または2において、前記ガスハイドレートの構成ガス成分は単一のガス種であることを特徴とする、ガスハイドレートペレットの製造方法。
- 請求項1から3のいずれか1項において、前記ガスハイドレートペレットの表面のガスハイドレート分解量が、該ガスハイドレートペレットの0.1〜5wt%であることを特徴とする、ガスハイドレートペレットの製造方法。
- ガスハイドレートが生成する低温および高圧条件下において、粉粒体状のガスハイドレートを圧縮成形してペレット状に加工されたガスハイドレートペレットが導入され、主に圧力を調整することによって、前記ガスハイドレートが分解する条件を達成し、前記ガスハイドレートペレットの表面のガスハイドレートを分解させ、水とガスとを生成させる表面分解装置と、
前記表面分解装置において分解されてペレット表面に水が生成されたガスハイドレートペレットが導入され、該ガスハイドレートが分解せず、且つ、水が氷る温度および圧力条件下で、前記ガスハイドレートペレット表面に生成された水を氷らせて氷膜を形成させる氷膜形成装置と、
を備えていることを特徴とする、ガスハイドレートペレット製造装置。 - 請求項5において、前記表面分解装置においてガスハイドレートが分解する条件は、ガスハイドレートペレット表面のガスハイドレートの分解による吸熱反応により、該ガスハイドレートペレットの温度が低下することによって、ガスハイドレートペレット自体が、ガスハイドレートの分解条件領域から生成条件領域に変化する条件に設定されていることを特徴とする、ガスハイドレートペレット製造装置。
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