JP4830104B2 - パターン化ハニカム状多孔質体の製造方法 - Google Patents
パターン化ハニカム状多孔質体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4830104B2 JP4830104B2 JP2005303898A JP2005303898A JP4830104B2 JP 4830104 B2 JP4830104 B2 JP 4830104B2 JP 2005303898 A JP2005303898 A JP 2005303898A JP 2005303898 A JP2005303898 A JP 2005303898A JP 4830104 B2 JP4830104 B2 JP 4830104B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- honeycomb
- mold
- porous body
- water
- shaped porous
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Description
非水溶性ポリマーからなるハニカム状多孔質体(ハニカム構造体あるいはハニカムシートとも呼ばれる)とは、非水溶性の高分子(ポリマー)でできた多孔性の薄膜であって、膜の垂直方向に向けられた微少な孔が膜の平面方向に蜂の巣状に(ハニカム状に)設けられている構造を有するものをいう。孔は膜を垂直方向に貫通していることが好ましく、また平面方向に存在する周囲の孔と膜の内部で連通していてもよい。代表的なハニカム状多孔質体の部分構造を図1に示す。
本発明では、一定の形状を有する固体、好ましくは平板状の固体であって、その表面にレリーフ及び/またはスリットからなる任意のパターンを有する物を鋳型として使用する。
上記1)で説明したハニカム状多孔質体と上記2)で説明したレリーフパターンを有する鋳型の接触によってパターンを転写させるには、ハニカム状多孔質体の鋳型凸部頂部と接触した部分を該凸部で押し潰す方法(インプリント法)と、ハニカム状多孔質体の鋳型ないし凸部頂部と接触した部分をハニカム状多孔質体から剥離する方法(剥離法)とがあり得る。
ポリスチレン:両親媒性ポリアクリルアミド共重合体(Cap)=10:1を濃度5 mg/mlとなるようにクロロホルム溶液に溶解した。Capは下記構造式で示される化合物である。
高分子学会編、「微細加工技術」(基礎編)、2002年、エヌ・ティー・エヌ第173頁〜192頁に記載された方法に従い、シリコンを材質とした下記の2つの鋳型A、Bを光リソグラフィー法によって作製した。
1)で作製したハニカム状多孔質体をアルミ板に載せ、その上から2)で作製した鋳型Aを、レリーフ面をハニカム状多孔質体に向けて被せた。このハニカム状多孔質体と鋳型のサンドイッチをバイスに挟み、10kg/cm2で密着させた後、鋳型を剥がしてパターン化されたハニカム状多孔質体を回収した。このパターン化されたハニカム状多孔質体の電子顕微鏡写真を図2bに示す。鋳型の凸部(100μm四方の立方形)によって膜が押し潰され、ハニカム状に整列した微細な孔という周期構造が破壊されることによって形成されたパターンを確認することができる。
Claims (4)
- 非水溶性ポリマーからなる膜厚が0.01〜100μmの薄膜であって、直径0.01〜100μmの空孔が膜の平面方向に蜂の巣状に配列されている周期構造保持領域と、前記空孔が破壊されている周期構造破壊領域とがパターン化されたハニカム状多孔質体の製造方法であって、
非水溶性ポリマーからなる膜厚が0.01〜100μmの多孔質薄膜であって、直径0.01〜100μmの空孔が膜の平面方向に蜂の巣状に設けられているハニカム状多孔質体を準備するステップと、
所定のパターンで凸部と凹部または貫通部と非貫通部が設けられた鋳型を準備するステップと、
前記鋳型の凸部または非貫通部を前記ハニカム状多孔質体の表面に密着させるか、または前記鋳型の凸部または非貫通部を前記ハニカム状多孔質体の表面に接着した後に剥離することで、前記鋳型の凸部または非貫通部に対応する位置の前記ハニカム状多孔質体の空孔を破壊するステップと、を含み、
前記非水溶性ポリマーは、ポリスチレンと両親媒性ポリアクリルアミド共重合体との組み合わせ、ポリブタジエンと両親媒性ポリアクリルアミド共重合体との組み合わせ、またはポリメタクリル酸メチルと両親媒性ポリアクリルアミド共重合体との組み合わせである、
パターン化されたハニカム状多孔質体の製造方法。 - 前記鋳型は、凸部および凹部を有する鋳型であり、
前記鋳型の凸部の頂部と凹部の底部との高低差は、前記ハニカム状多孔質体の膜厚よりも大きい、
請求項1に記載の製造方法。 - 前記鋳型の凸部または非貫通部と前記ハニカム状多孔質体との接着が融着によって行われる、請求項1に記載の製造方法。
- 前記鋳型の凸部または非貫通部と前記ハニカム状多孔質体との接着が接着剤を介して行われる、請求項1に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005303898A JP4830104B2 (ja) | 2005-10-19 | 2005-10-19 | パターン化ハニカム状多孔質体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005303898A JP4830104B2 (ja) | 2005-10-19 | 2005-10-19 | パターン化ハニカム状多孔質体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007112856A JP2007112856A (ja) | 2007-05-10 |
JP4830104B2 true JP4830104B2 (ja) | 2011-12-07 |
Family
ID=38095345
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005303898A Active JP4830104B2 (ja) | 2005-10-19 | 2005-10-19 | パターン化ハニカム状多孔質体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4830104B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4821674B2 (ja) | 2007-03-28 | 2011-11-24 | 株式会社ニコン | 焦点検出装置および撮像装置 |
JP2009084429A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | フィルム及びその製造方法 |
US8207453B2 (en) * | 2009-12-17 | 2012-06-26 | Intel Corporation | Glass core substrate for integrated circuit devices and methods of making the same |
JP6089298B2 (ja) * | 2012-04-10 | 2017-03-08 | 裕司 清野 | パターン形成方法、スチレン系ポリマー薄膜付き基材、表面撥水性材料、パスワード生成装置、培養器、パターン形成剤、及び反転パターン形成方法。 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0816311B2 (ja) * | 1987-11-24 | 1996-02-21 | 株式会社クラレ | オイル調皮革様シート |
JPH08311231A (ja) * | 1995-05-17 | 1996-11-26 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | ハニカム状多孔質体及びその製造方法 |
JP4431233B2 (ja) * | 1999-11-30 | 2010-03-10 | テルモ株式会社 | ハニカム構造体およびその調製方法、ならびにその構造体を用いたフィルムおよび細胞培養基材 |
JP4731044B2 (ja) * | 2001-05-22 | 2011-07-20 | 独立行政法人理化学研究所 | 延伸フィルムおよびそれを用いた細胞培養基材 |
JP2002335949A (ja) * | 2001-05-22 | 2002-11-26 | Inst Of Physical & Chemical Res | ハニカム構造体フィルムを用いた細胞の三次元組織培養法 |
JP4752993B2 (ja) * | 2001-09-10 | 2011-08-17 | 日産化学工業株式会社 | ポリイミド多孔質膜およびその製造法 |
JP2006325534A (ja) * | 2005-05-30 | 2006-12-07 | Hokkaido Univ | 微生物セルロースからなるハニカム状多孔質体とその製造方法 |
-
2005
- 2005-10-19 JP JP2005303898A patent/JP4830104B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007112856A (ja) | 2007-05-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Zhang et al. | Colloidal self‐assembly meets nanofabrication: From two‐dimensional colloidal crystals to nanostructure arrays | |
Bai et al. | Breath figure arrays: unconventional fabrications, functionalizations, and applications | |
KR101174391B1 (ko) | 서브마이크로 허니컴 구조의 제조방법 | |
Zhang et al. | Patterning colloidal crystals and nanostructure arrays by soft lithography | |
Pretzl et al. | A lithography-free pathway for chemical microstructuring of macromolecules from aqueous solution based on wrinkling | |
Ma et al. | Ordered patterns and structures via interfacial self-assembly: superlattices, honeycomb structures and coffee rings | |
Xia et al. | Micromolding of polymers in capillaries: applications in microfabrication | |
US20170363953A1 (en) | Device for carrying out a capillary nanoprinting method, a method for carrying out capillary nanoprinting using the device, products obtained according to the method and use of the device | |
KR101878600B1 (ko) | 광학 바이오센서를 위한 주기적 금속 나노 패턴의 제조 방법 | |
Kölbel et al. | Shadow-mask evaporation through monolayer-modified nanostencils | |
KR101335405B1 (ko) | 용액법 기반의 미세구조 패턴 형성방법 | |
JP2011530803A (ja) | テンプレート、およびリソグラフィ用高アスペクト比テンプレートを製造する方法、ならびにナノスケールで基板を穿孔するためのテンプレートの使用 | |
Asoh et al. | Site-selective chemical etching of silicon using patterned silver catalyst | |
KR101563231B1 (ko) | 나노시트-무기물 적층 다공성 나노구조체 및 이의 제조 방법 | |
Park et al. | Fabrication and applications of stimuli‐responsive micro/nanopillar arrays | |
JP4830104B2 (ja) | パターン化ハニカム状多孔質体の製造方法 | |
Dai et al. | Fabrication of surface-patterned ZnO thin films using sol–gel methods and nanoimprint lithography | |
CN101603177A (zh) | 一种基于超亲-超疏水特性模板的表面图案化微加工方法 | |
JP5078073B2 (ja) | 3次元構造が形成された樹脂フィルムの製造方法 | |
Luo et al. | Breath figure in reactive vapor: A new route to nanopore array | |
Akita et al. | Atomically stepped glass surface formed by nanoimprint | |
KR101886056B1 (ko) | 진공증착에 의한 나노구조체 패턴 형성방법 및 이를 이용한 센서 소자 | |
JP4910193B2 (ja) | 周期的な構造が形成された樹脂フィルムの製造方法 | |
JP4832090B2 (ja) | 金属製薄膜とその製造方法 | |
WO2012131644A1 (fr) | Procede de formation de motifs d'objets sur la surface d'un substrat |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080715 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20090216 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20090216 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090217 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090316 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110222 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110405 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110614 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110801 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110823 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |