JP4826082B2 - プロトン伝導性材料の製造方法 - Google Patents
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Description
また、非特許文献1では、このハイブリッドシリカポリマーをプロトン伝導性材料に供してはおらず、またこの材料を用いてプロトン伝導性を測定しても、低湿度で<10-8S/cmであり、高湿度で<10-3S/cmと、特に低湿度におけるプロトン伝導性が低く、プロトン伝導性材料として用いることはできなかった。
(HO3S-CH2-CH2-CH2-SiO3/2)n(HS-CH2-CH2-CH2-SiO3/2)m(SiO2)z ‥(1)
(式中、n=0.35〜0.57、z=0.57以下(ただし0ではない)、n+m+z=1である。)
で表される無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有シリカポリマーよりなるプロトン伝導性材料の製造方法であって、
前記無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有シリカポリマーは、3−メルカプトプロピルトリアルコキシシランと、テトラエチルオルトシリケートと、酸化剤と、界面活性剤とを0〜60℃で反応させることによって1段階で製造されることを特徴とするプロトン伝導性材料の製造方法である。
CH3−(CH2)n−N+(CH3)3・X− ・・・(2)
(式中、n=7,9,11,13,15,17,19または21であり、X=Br、ClまたはOHである。)
または一般式(3):
CH3−(CH2)n−NH2 ・・・(3)
(式中、n=7,9,11,13,15,17,19または21である。)
で表される化合物を用いることが好ましい。
(HO3S-CH2-CH2-CH2-SiO3/2)n(HS-CH2-CH2-CH2-SiO3/2)m ‥(4)
(式中、n=0.35〜0.57、n+m=1である。)
で表される無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有シリカポリマーよりなるプロトン伝導性材料の製造方法であって、
前記無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有シリカポリマーは、3−メルカプトプロピルトリアルコキシシランと、酸化剤の混合物を20〜80℃で反応させることによって1段階で製造されることを特徴とするプロトン伝導性材料の製造方法が提供される。
前記酸化剤としては、H2O2水溶液を用いることが好ましい。
すなわち、本発明の方法によって得られる無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有シリカポリマーよりなるプロトン伝導性材料は、電気化学素子(例えば、燃料電池)の使用環境(約−20〜130℃)に耐えられる熱安定性(150℃以上:TGA測定)と、機械的、化学的安定性を有し、自己保湿性が良好で低湿度下でもプロトン伝導性が優れたものであり、燃料電池、キャパシター、電解セルなどの電気化学素子へ広く応用することが可能である。
本発明は、下記一般式(1):
(HO3S-CH2-CH2-CH2-SiO3/2)n(HS-CH2-CH2-CH2-SiO3/2)m(SiO2)z ‥(1)
(式中、n=0.35〜0.57、z=0.57以下(ただし0ではない)、n+m+z=1である。)
で表される無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有シリカポリマーよりなるプロトン伝導性材料の製造方法であって、
前記無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有シリカポリマーは、3−メルカプトプロピルトリアルコキシシランと、テトラエチルオルトシリケートと、酸化剤と、界面活性剤とを0〜60℃で反応させることによって1段階で製造されることを特徴とするプロトン伝導性材料の製造方法である。
本発明によって得られた上記一般式(1)で表される無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有メソポーラスシリカポリマーは、一般式(1)中に含有されるチオールおよび/またはスルホン酸によってプロトン伝導性が発現する。
CH3−(CH2)n−N+(CH3)3・X− ・・・(2)
(式中、n=7,9,11,13,15,17,19または21であり、X=Br、ClまたはOHである。)
または一般式(3):
CH3−(CH2)n−NH2 ・・・(3)
(式中、n=7,9,11,13,15,17,19または21である。)
で表される化合物、あるいはPluronic123(Mav=5800、EO20PO70EO17)、Brij58(ノニオン性トリブロックポリマー、C16H33(OCH2CH2)20OH)、Brij76(ノニオン性トリブロックポリマー、C18H37(OCH2CH2)10OH)が挙げられる。
この結果、式、(HO3S-CH2-CH2-CH2-SiO3/2)n(HS-CH2-CH2-CH2-SiO3/2)m(SiO2)z ‥(1)
(式中、n=0.35〜0.57、z=0.57以下(ただし0ではない)、n+m+z=1である。)
で表される無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有シリカポリマーよりなるプロトン伝導性材料がゲルとして得られる。無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有シリカポリマーにおけるnのより好ましい値は、0.47〜0.57である。
本発明は、下記一般式(4):
(HO3S-CH2-CH2-CH2-SiO3/2)n(HS-CH2-CH2-CH2-SiO3/2)m ‥(4)
(式中、n=0.35〜0.57、n+m=1である。)
で表される無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有シリカポリマーよりなるプロトン伝導性材料の製造方法であって、
前記無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有シリカポリマーは、3−メルカプトプロピルトリアルコキシシランと、酸化剤の混合物を20〜80℃で反応させることによって1段階で製造されることを特徴とするプロトン伝導性材料の製造方法である。
本発明によって得られた上記一般式(1)で表される無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有メソポーラスシリカポリマーは、一般式(1)中に含有されるチオールおよび/またはスルホン酸によってプロトン伝導性が発現する。
この結果、式、(HO3S-CH2-CH2-CH2-SiO3/2)n(HS-CH2-CH2-CH2-SiO3/2)m ‥(4)
(式中、n=0.35〜0.57、n+m=1である。)
で表される無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有シリカポリマーよりなるプロトン伝導性材料がゲルとして得られる。無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有シリカポリマーにおけるnのより好ましい値は、0.42〜0.57である。
出発原料として、テトラエチルオルトシリケート(TEOS)、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン(3−MPTES)または3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(3−MPTMS)、界面活性剤(RX)、過酸化水素水、NH4OHを用い、界面活性剤(RX)の種類を下記のように振り、また出発原料の各成分を振って、水熱反応を、0、20(室温),40及び60℃で1〜4日間実施し、下記モル組成を有する合成ゲル(乾燥条件下)を製造した。
CH3−(CH2)n−N(CH3)3X(n=7,9,11,13,15,17,19;X=Br、Cl、OH)
TEOS+3−MPTES(3−MPTMS):1.0(ただし、このうちTEOSは57モル%以下)
界面活性剤 :0.005〜0.6
H2O2 :25〜32
H2O :30〜180
NH4OH :0〜4
上記各出発原料の各モル成分および合成条件を振って合成したが、代表的な合成例を以下に記載する。
(1)無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有シリカポリマーゲルの合成
6.92gのセチルトリメチルアンモニウムブロマイド(100%、Aldrich Chem.)を25gの水に撹拌しながら10分で投入する。この溶液に、11.76gの3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(3−MPTMS)(Azmax、Japan chem.、95%)及び9.40gのテトラエチルオルトシリケート(Aldrich、98%)を一緒に、撹拌下10分で添加した後、7.0gのアンモニア水(NH4OH)を高速撹拌しながら15分で滴下して加える。次いで、283gの30%H2O2水溶液を撹拌下に加え、2時間撹拌する。最後に、均一なゲルを室温で3日間熟成する。生成物をろ過し、水洗した後、40℃で1日乾燥する。
TEOS 0.44
3−MPTMS 0.56
C16TMABr 0.19
H2O2 25
H2O 126
NH4OH 3.0
合成した生成物の界面活性剤(セチルトリメチルアンモニウムブロマイド)を除去するため、1gのサンプルを100mlのエタノールと1.2mlの塩酸(4M)を用い40℃で8時間処理する。次いで、ろ過し、エタノールで洗浄した後、40℃で1日乾燥する。
出発原料として、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン(3−MPTES)または3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(3−MPTMS)、過酸化水素水を用い、また出発原料の各成分を振って、20(室温),40,60あるいは80℃で15分〜2日間、撹拌下に反応させ、下記モル組成を有する合成ゲル(乾燥条件下)を製造した。
3−MPTES(3−MPTMS):1.0
H2O2 :20〜46
H2O :17〜202
上記各出発原料の各モル成分および合成条件を振って合成したが、代表的な合成例を以下に記載する。
17.37gの3-MPTES(95%、Aldrich)と283gの30%H2O2水溶液をテフロン(登録商標)をライニングしたステンレス製オートクレーブ中に入れて、素早く閉める。混合物を室温で1時間撹拌する。最後に、生成物をろ過し、蒸留水とエタノールで洗浄し、40℃で1日乾燥する。
3−MPTES 1.0
H2O2 36.1
H2O 159
実施例1の(代表的な合成方法)において、13.86gの3−MPTESと、7.264gのTEOSと360gの30%H2O2水溶液を用いたこと以外は実施例1と同様にして(HO3S−CH2−CH2−CH2−SiO3/2)0.50(HS−CH2−CH2−CH2−SiO3/2)0.15(SiO2)0.35・1.74H2Oで表されるハイブリッドシリカポリマーを合成した。
実施例1の(代表的な合成方法)において、0.42gの3−MPTESと、20.94gのTEOSと45gの30%H2O2水溶液を用いたこととした以外は実施例1と同様にして(HO3S−CH2−CH2−CH2−SiO3/2)0.02(SiO2)0.98で表されるハイブリッドシリカポリマーを合成した。
実施例2の(代表的な合成方法)において、17.37gの3−MPTESと、360gの30%H2O2水溶液を用いたこと以外は実施例2と同様にして(HO3S−CH2−CH2−CH2−SiO3/2)0.52(HS−CH2−CH2−CH2−SiO3/2)0.48・1.5H2Oで表されるハイブリッドシリカポリマーを合成した。
実施例2の(代表的な合成方法)において、17.37gの3−MPTESと、45gの30%H2O2水溶液を用いたこと以外は実施例2と同様にして(HO3S−CH2−CH2−CH2−SiO3/2)0.02(HS−CH2−CH2−CH2−SiO3/2)0.98で表されるハイブリッドシリカポリマーを合成した。
次に、種々のハイブリッドシリカポリマーを、めのう乳鉢でかき混ぜて微粉末化させ、錠剤成型器を用いて、直径13mm、厚さ0.4mmの円柱状ペレットに加圧成形した。作製した円柱状ペレットを金電極に挟持し、導電率を交流法により測定評価した。低湿度(20%未満、25℃)におけるプロトン伝導度、および高湿度(90%以上、25℃)におけるプロトン伝導度を表2に示す。
実施例1の(代表的な合成方法)において、10.08gの3−MPTESと、11.109gのTEOSと250gの30%H2O2水溶液を用いたこととした以外は実施例1と同様にして(HO3S−CH2−CH2−CH2−SiO3/2)0.35(HS−CH2−CH2−CH2−SiO3/2)0.13(SiO2)0.52で表されるメソポーラスシリカポリマーを合成した。得られたハイブリッドシリカポリマーのXRDプロファイルを図1に示す。
Claims (13)
- 下記一般式(1):
(HO3S-CH2-CH2-CH2-SiO3/2)n(HS-CH2-CH2-CH2-SiO3/2)m(SiO2)z ‥(1)
(式中、n=0.47〜0.57、z=0.57以下(ただし0ではない)、n+m+z=1である。)
で表される無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有シリカポリマーよりなるプロトン伝導性材料の製造方法であって、
前記無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有シリカポリマーは、3−メルカプトプロピルトリアルコキシシランと、テトラエチルオルトシリケートと、酸化剤と、界面活性剤とを0〜60℃で1〜4日間反応させることによって1段階で製造されるプロトン伝導性材料の製造方法。 - 前記界面活性剤として、一般式(2):
CH3 −(CH2 )n−N+ (CH3 )3 ・X- ・・・(2)
(式中、n=7,9,11,13,15,17,19または21であり、X=Br、ClまたはOHである。)
または一般式(3):
CH3 −(CH2 )n−NH2 ・・・(3)
(式中、n=7,9,11,13,15,17,19または21である。)
で表される化合物を用いる請求項1に記載のプロトン伝導性材料の製造方法。 - 前記酸化剤として、H2O2水溶液を用いる請求項1または2に記載のプロトン伝導性材料の製造方法。
- さらに塩基を用いる請求項1〜3のいずれか一項に記載のプロトン伝導性材料の製造方法。
- 前記塩基として水酸化アンモニウムを用いる請求項4に記載のプロトン伝導性材料の製造方法。
- 前記3−メルカプトプロピルトリアルコキシシランの配合量は、前記3−メルカプトプロピルトリアルコキシシランと前記テトラエチルオルトシリケートとの合計量に対して43モル%以上である請求項1〜5のいずれか一項に記載のプロトン伝導性材料の製造方法。
-
前記塩基の配合量は、前記3−メルカプトプロピルトリアルコキシシランと前記テトラエチルオルトシリケートとの合計量に対して4モル%以下である請求項4または5に記載のプロトン伝導性材料の製造方法。 - n=0.47〜0.50、m=0.11〜0.15、z=0.35〜0.42である請求項1〜7のいずれか一項に記載のプロトン伝導性材料の製造方法。
- 下記一般式(4):
(HO 3 S-CH 2 -CH 2 -CH 2 -SiO 3/2 ) n (HS-CH 2 -CH 2 -CH 2 -SiO 3/2 ) m ‥(4)
(式中、n=0.35〜0.57、n+m=1である。)
で表される無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有シリカポリマーよりなるプロトン伝
導性材料の製造方法であって、
前記無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有シリカポリマーは、3−メルカプトプロピ
ルトリアルコキシシランと、酸化剤の混合物を20〜80℃で15分間〜2日間反応させることによって1段階で製造されるプロトン伝導性材料の製造方法。 - 前記酸化剤として、H 2 O 2 水溶液を用いる請求項9に記載のプロトン伝導性材料の製造方法。
- 前記酸化剤の配合量は、前記3−メルカプトプロピルトリアルコキシシランに対して20〜46モル%である請求項9または10に記載のプロトン伝導性材料の製造方法。
- n=0.42〜0.57である請求項9〜11のいずれか一項に記載のプロトン伝導性材料の製造方法。
- n=0.42〜0.52、m=0.48〜0.58である請求項9〜12のいずれか一項に記載のプロトン伝導性材料の製造方法。
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