JP4810792B2 - 吸着材及び水処理方法 - Google Patents
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(1) 予め希土類金属化合物を含有する溶液を調製し、この溶液中にベントナイトを浸漬してベントナイト中に希土類金属化合物を含浸させ、次いで乾燥し、焼成する。
(2) ベントナイトの層間にランタンをイオン交換により導入し、電気炉中で加熱処理する。
フッ素イオンを10.0mg−F/L含む電子産業排水を、塩酸を用いてpH3に調整した後、ビーカーに1L採り、20重量%塩化ランタン水溶液を用いて、前述の含浸法にてランタン換算量としてベントナイトに対して約5重量%の酸化ランタンを担持した本発明の吸着材(平均粒径10μm,比重2.7g/cm2)を表1に示す量投入し、マグネチックスターラーで16時間撹拌した。その後、固液分離を行い、得られた処理水のフッ素濃度を測定し、この結果からフッ素吸着量と吸着容量を求め、結果を表1に示した。
ホウ酸(H3BO3)を20.0mg−B/L含む産業排水をpH7に調整した後、ビーカーに1L採り、実施例1で用いたのと同様のランタン/ベントナイト吸着材を表2に示す量投入し、マグネチックスターラーで16時間撹拌した。その後、固液分離を行い、得られた処理水のホウ素濃度を測定し、この結果からホウ素吸着量と吸着容量を求め、結果を表2に示した。
ホウ酸(H3BO3)を5.0mg−B/L添加した市水をpH7に調整した後、ビーカーに1L採り、実施例1で用いたと同様のランタン/ベントナイト吸着材を表3に示す量投入し、マグネチックスターラーで16時間撹拌した。その後、固液分離を行い、得られた処理水のホウ素濃度を測定し、この結果からホウ素吸着量と吸着容量を求め、結果を表3に示した。
ヒ酸(H3AsO4)を5.0mg−As/L添加した市水をpH9に調整した後、ビーカーに1L採り、実施例1で用いたと同様のランタン/ベントナイト吸着材を表4に示す量投入し、マグネチックスターラーで16時間撹拌した。その後、固液分離を行い、得られた処理水のヒ素濃度を測定し、この結果からヒ素吸着量と吸着容量を求め、結果を表4に示した。
実施例1において、吸着材の添加量を1.0gとしたこと以外は同様にして吸着処理を行い、同様に処理水フッ素濃度、及び吸着容量を調べ、結果を表5に示した。
実施例13において、ランタン化合物の代りに、セリウム化合物(実施例14)、イットリウム化合物(実施例15)を各々酸化物として担持した吸着材を用いたこと以外は同様にして吸着処理を行い、同様に処理水フッ素濃度、及び吸着容量を調べ、結果を表5に示した。
実施例1〜3において、ランタン/ベントナイト吸着材の添加量を種々変えて吸着処理を行い、処理水のフッ素濃度からフッ素吸着容量を求め、これらの結果から作成したフッ素吸着等温線を図2に示した(実施例16)。
フッ素イオンを28mg−F/Lを含む調整市水をpH3に調整した後、ビーカーに300mL採り、実施例1で用いたランタン/ベントナイト吸着材を1g添加し、吸着時の温度を変化させて16時間攪拌した。その後、固液分離を行い、処理水のフッ素濃度を測定し、この結果から、フッ素吸着容量を求め、結果を表6に示した。
Claims (6)
- 水中のフッ素、ホウ素又はヒ素を吸着除去するための水処理用吸着材であって、以下の(1)又は(2)の方法で、希土類金属化合物をベントナイトに担持させてなることを特徴とするフッ素、ホウ素又はヒ素の吸着材。
(1) 予め希土類金属化合物を含有する溶液を調製し、この溶液中にベントナイトを浸漬してベントナイト中に希土類金属化合物を含浸させ、次いで乾燥し、焼成する。
(2) ベントナイトの層間にランタンをイオン交換により導入し、電気炉中で加熱処理する。 - 請求項1において、希土類金属がランタンであることを特徴とするフッ素、ホウ素又はヒ素の吸着材。
- 請求項1において、希土類金属がセリウムであることを特徴とするフッ素、ホウ素又はヒ素の吸着材。
- 被処理水を所定のpHにおいて請求項1ないし3のいずれか1項に記載の吸着材と接触させて、該被処理水中のフッ素、ホウ素又はヒ素を吸着除去することを特徴とする水処理方法。
- 請求項4において、フッ素、ホウ素又はヒ素を吸着した吸着材を、前記所定のpHと異なるpHの水と接触させて、該吸着材からフッ素、ホウ素又はヒ素を脱着させることを特徴とする水処理方法。
- 請求項5において、フッ素、ホウ素又はヒ素を脱着させた後の吸着材を前記所定のpHの水と接触させた後、被処理水の処理に再利用することを特徴とする水処理方法。
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