JP4807850B2 - Rfプラズマ印加用の改良型rf電力制御デバイス - Google Patents
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Description
本発明は、概してRF電力を用いたプラズマ処理の適用に関し、より詳しくは、電力送達特性を改善するために回路を有するプラズマ処理の適用において用いられるRF電力生成器に関する。
従来、プラズマ印加に用いられるRF電力生成器は、プラズマに送達される電力をモニタリングするために、指向性結合器の出力から動作する比較的シンプルなダイオードピーク検出器に依存していた。しかし、この方法は、生成器の出力周波数の電圧とプラズマが引き起こしたスプリアスな周波数の電圧とを区別することができないために、プラズマが引き起こしたスプリアスな周波数の存在下では信頼がおけなくなる。スプリアスな周波数の効果を取り除くために同期式検出方法が用いられてきたが、そのような設計のコストおよび複雑さは、一般的には、プラズマ生成器の用途には好ましくはない。熱応答に依存する別の電力検出器も用いられてきた。スプリアスな周波数を取り除くために、種々のバンドパスフィルタが用いられてきた。しかし、これらのフィルタにおける挿入による損失の制御は、困難であり、邪魔をする周波数が生成器の出力周波数に非常に近い場合において特に困難である。
本発明によって、非線形のプラズマに作用する複数の生成器間の相互作用によって生じた調和および非調和なスプリアスの存在下においてフィードバック制御電圧を最適化するプラズマアプリケーション用の改良されたRF電力制御方法が提供される。このシステムでは、プラズマ点火のために用いられる固体RF供給源のサンプリングされた出力に発信器と混合器とが配置される。サンプリングされた出力は、中間周波数にミキシングされ、フィルタリングすることによって非線形のプラズマにおいて生成されたスプリアスな周波数を取り除く。このようにして、フィードバック電力制御は、基本的にスプリアスな周波数を無視する。このアプリケーションでは、発信器および混合器は、別の所望なシステム特性と干渉せず、プラズマのスプリアスな周波数成分の変化からフィードバック制御電圧を効率的に分離する。これによって、従来の電力制御方法で可能な精度よりも高い精度でRF電力がプラズマに送達されることが可能になる。
図2において、図1に示されたようなプラズマ処理システム内のプラズマに送達された電力を検出およびモニタリングする本発明の原理を取り込んだVHF生成器10’が示されている。この好適な実施形態では、162MHzのrf供給源12が電力増幅器14に接続されており、指向性結合器16に電力を送る。サンプリングされた162MHzの前進および反射された信号は、指向性結合器16から取得され、それらの信号がベース周波数とミキシングされる検出器回路に入れられる。検出器回路は、バンドパスフィルタ20’および22’と、ミキサ24’および26’と、ヘテロダイン発振器28からなる。ミキシングされた周波数は、ローパスフィルタ30’および32’を通過させられ、そこで、それらは増幅器34および36によって増幅され、検出器38および40によって検出される。検出された信号は、生成器制御回路42にフィードバックされる。このヘテロダイン検出回路は、プラズマの状態を変更するために、18における生成器の出力の定常的な調節を可能にする。検出器回路は、フィルタリングにおける適切な変更とともに発振器周波数に対する幾つかのオプションをとることができる。
f0は、基本周波数(この場合では、162MHz)であり、
2f0は、基本周波数の二次高調波であり、
3f0は、基本周波数の三次高調波であり、
f1は、第2の周波数(この場合では、2MHz)である。
Claims (19)
- プラズマにRF電力を送達するVHF生成器であって、
a)電力増幅器に接続された可変周波数RF信号生成器と、
b)指向性結合器に接続された少なくとも1つの出力を有する該電力増幅器と、
c)処理チャンバにおいて電力がプラズマに送達される整合ネットワークに接続された1つの出力を有する該指向性結合器と
を備え、
d)該指向性結合器の少なくとも1つの出力が、該可変周波数RF信号生成器の前進電力信号をサンプリングするように配置されており、該指向性結合器の少なくとも1つの出力が、該可変周波数RF信号生成器の反射電力信号をサンプリングするように配置されており、
e)該サンプリングされた前進信号および反射信号の各々が、第1のミキサに接続されており、
f)該可変周波数RF信号生成器のサンプリングされた出力を第1の中間周波数とミキシングする第2のミキサに接続された第1の発振器を備え、
g)該第2のミキサの出力が、第1のバンドパスフィルタに接続されており、該第1のバンドパスフィルタの出力が、第2の発振器の第2の中間周波数とミキシングする第3のミキサに接続されており、
h)該第3のミキサの出力が、第2のバンドパスフィルタに接続されており、該第2のバンドパスフィルタの出力が、該第1のミキサに接続されており、
i)該ミキシングされた前進信号および反射信号が、ローパスフィルタを通過させられ、
j)該フィルタリングされた前進信号および反射信号が、増幅器および検出器に接続されており、
k)該検出された前進信号および反射信号が、電力制御回路にフィードバックされ、該プラズマに送達された電力が、該プラズマによって生成されたスプリアスな周波数の信号からの干渉なしに、モニタリングされる、
VHF生成器。 - 高調波とスプリアスな低周波数の信号を除去するために、前進バンドパスフィルタと反射バンドパスフィルタとが前記指向性結合器の出力と前記第1のミキサとの間に接続されている、請求項1に記載のプラズマにRF電力を送達するVHF生成器。
- 前記検出器がダイオード検出器である、請求項2に記載のプラズマにRF電力を送達するVHF生成器。
- 前記検出器がRMS検出器である、請求項2に記載のプラズマにRF電力を送達するVHF生成器。
- プラズマにRF電力を送達する装置であって、
a)処理チャンバ内のプラズマに電力を送達する可変周波数RF電源と、
b)発振器周波数を生成する発振器回路であって、
該発振器回路が、第1の発振器と、第1のミキサと、第1のバンドパスフィルタと、第2のミキサと、第2の発振器と、第2のバンドパスフィルタとを含み、
該第1の発振器が、該可変周波数RF電源の第1のサンプリングされた出力信号を該第1の発振器の第1の中間周波数とミキシングする該第1のミキサに接続されており、
該第1のミキサの出力が、該第1のバンドパスフィルタに接続されており、
該第1のバンドパスフィルタの出力が、該第2の発振器の第2の中間周波数とミキシングする該第2のミキサに接続されており、
該第2のミキサの出力が、該第2のバンドパスフィルタに接続されており、これにより、該発振器周波数が出力される、発振器回路と、
c)該可変周波数RF電源と該プラズマとの間に配置された出力サンプラーであって、該出力サンプラーは、該可変周波数RF電源の少なくとも1つの出力特性をサンプリングし、それによって、少なくとも1つの第2のサンプリングされた出力信号を生成するように配置されており、該第2のサンプリングされた出力信号は、第3のミキサにおいて発振器周波数とミキシングされて、ミキシングされた信号を生成し、該ミキシングされた信号は、処理されて、ミキシングされてフィルタリングされた信号を生成し、該ミキシングされてフィルタリングされた信号は、該可変周波数RF電源を制御する制御回路にフィードバックされる、出力サンプラーと
を備える、装置。 - 前記出力サンプラーは、指向性結合器である、請求項5に記載の装置。
- 前記出力特性は、前進電力または反射電力の一方である、請求項5に記載の装置。
- 前記出力サンプラーと前記プラズマとの間に配置された整合ネットワークをさらに備える、請求項5に記載の装置。
- 前記可変周波数RF電源は、VHF生成器である、請求項5に記載の装置。
- 前記指向性結合器の出力に配置された前進バンドパスフィルタおよび反射バンドパスフィルタであって、高調波とスプリアスな低周波数の信号を除去する前進バンドパスフィルタおよび反射バンドパスフィルタをさらに備える、請求項6に記載の装置。
- 前記前進バンドパスフィルタおよび前記反射バンドパスフィルタは、前記プラズマに送達される電力をモニタリングする検出器に接続されている、請求項10に記載の装置。
- 前記検出器は、RMS検出器である、請求項11に記載の装置。
- プラズマにRF電力を送達する方法であって、
a)処理チャンバ内のプラズマに電力を送達する可変周波数RF電源を提供することと、
b)該可変周波数RF電源の第1のサンプリングされた出力信号を第1の中間周波数とミキシングすることにより、第1のミキシングされた信号を生成することと、
c)該第1のミキシングされた信号をフィルタリングすることにより、第1のミキシングされてフィルタリングされた信号を生成することと、
d)該第1のミキシングされてフィルタリングされた信号を第2の中間周波数とミキシングすることにより、第2のミキシングされた信号を出力することと、
e)該第2のミキシングされた信号をフィルタリングすることにより、発振器周波数を出力することと、
f)該可変周波数RF電源と該プラズマとの間に出力サンプラーを提供することと、
g)該出力サンプラーを使用して該可変周波数RF電源の少なくとも1つの出力特性をサンプリングすることであって、それによって、少なくとも1つの第2のサンプリングされた出力信号を生成することと、
h)該第2のサンプリングされた出力信号を該発振器周波数とミキシングすることにより、第3のミキシングされた信号を生成することと、
i)該第3のミキシングされた信号を処理することにより、第2のミキシングされてフィルタリングされた信号を生成することと、
j)該第2のミキシングされてフィルタリングされた信号を使用して、該可変周波数RF電源を制御することと
を包含する、方法。 - 前記出力サンプラーは、指向性結合器である、請求項13に記載の方法。
- 前記出力特性は、前進電力または反射電力の一方である、請求項13に記載の方法。
- 前記可変周波数RF電源は、VHF生成器である、請求項13に記載の方法。
- 前記指向性結合器の出力に配置された前進バンドパスフィルタおよび反射バンドパスフィルタであって、高調波とスプリアスな低周波数の信号を除去する前進バンドパスフィルタおよび反射バンドパスフィルタを提供することをさらに包含する、請求項14に記載の方法。
- 前記前進バンドパスフィルタおよび前記反射バンドパスフィルタは、前記プラズマに送達される電力をモニタリングする検出器に接続されている、請求項17に記載の方法。
- 前記検出器は、RMS検出器である、請求項18に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US10/620,129 | 2003-07-15 | ||
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JP4807850B2 true JP4807850B2 (ja) | 2011-11-02 |
Family
ID=32927881
Family Applications (1)
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Country | Link |
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US (2) | US6791274B1 (ja) |
JP (1) | JP4807850B2 (ja) |
WO (1) | WO2005010913A2 (ja) |
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- 2004-07-14 JP JP2006520335A patent/JP4807850B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6791274B1 (en) | 2004-09-14 |
JP2007532028A (ja) | 2007-11-08 |
WO2005010913A2 (en) | 2005-02-03 |
USRE42917E1 (en) | 2011-11-15 |
WO2005010913A3 (en) | 2005-03-31 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070912 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091218 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100312 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100611 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100909 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100916 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20101008 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20101018 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101111 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110810 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |