JP4805549B2 - Adhesive sheet - Google Patents
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Description
本発明は、例えば回路が形成されたウエハを回路毎に切断分離(ダイシング)し、ピックアップする工程でウエハを貼着して固定するために用いられる粘着シートに関する。 The present invention relates to an adhesive sheet used for, for example, cutting and separating (dicing) a wafer on which a circuit is formed for each circuit, and sticking and fixing the wafer in a pick-up process.
シリコン、ガリウムヒ素などの半導体ウエハは、大径の状態で製造されたものが素子小片に切断分離(ダイシング)された後に次の工程であるマウント工程に移されている。この際半導体ウエハには、予め粘着シート(ダイシング用粘着シート)に貼着された状態でダイシング、洗浄、乾燥、ピックアップ、マウンティングの各工程を供せられる。 Semiconductor wafers such as silicon and gallium arsenide, which are manufactured in a large diameter state, are cut and separated (diced) into element pieces, and then transferred to the next mounting step. At this time, the semiconductor wafer is subjected to dicing, cleaning, drying, pick-up, and mounting processes in a state of being previously attached to the pressure-sensitive adhesive sheet (pressure-sensitive adhesive sheet for dicing).
このダイシング用粘着シートとしては、基材フィルム上に粘着剤層が設けられた粘着シートが用られてきた。そして、ダイシング用粘着シートの粘着剤層を形成するための粘着剤には、適度な粘着力と弾性率とが求められる。
すなわち、このダイシング用粘着シートには、ウエハのダイシング時には、ウエハを確実に保持するための粘着力が必要であり、保持が完全でないと、ダイシング中にチップが剥がれて飛ぶ「チップ飛散」が生じやすくなる。しかし、粘着力が大きくなると、ダイシングしたチップをピックアップする際に大きな力が必要となり、ピックアップが不能となるか、チップにチップ割れやチップ裏面にダメージを受けパッケージクラックの要因となる。
As this dicing pressure-sensitive adhesive sheet, a pressure-sensitive adhesive sheet provided with a pressure-sensitive adhesive layer on a base film has been used. And the adhesive for forming the adhesive layer of the adhesive sheet for dicing is calculated | required by moderate adhesive force and elastic modulus.
In other words, this dicing adhesive sheet requires an adhesive force to securely hold the wafer when dicing the wafer, and if the holding is not complete, “chip scattering” occurs in which chips are peeled off during dicing. It becomes easy. However, when the adhesive force increases, a large force is required when picking up the diced chip, and picking up becomes impossible, or the chip breaks the chip or damages the back surface of the chip, causing a package crack.
そのため、粘着剤組成物に放射線重合性のモノマーやオリゴマーを配合したり、アクリル系ポリマーの側鎖又は主鎖中に放射線重合性官能基を導入した放射線重合性ポリマーを単独又は他のアクリル系ポリマーと混合して粘着剤として使用し、ダイシング工程から乾燥工程まではウエハに対して十分な接着力を有しており、その後に放射線を照射して粘着剤層を硬化させ、ピックアップ時には容易にピックアップできる程度に粘着力を低下させることのできるダイシング用粘着シートが使用されている。(例えば、特許文献1及び2参照。)
また、一般的に粘着剤は弾性率が低いため、ダイシング用粘着シートの粘着剤層はウエハ(チップ)の微小な振動を抑えることができない。この振動はダイシングブレードとチップの切断面との間に影響し、チップの切断面に欠け(チッピング)を発生させる。この欠けは、チップ自身の折れ曲げ強度を低下させたり、封止されたICのパッケージ内に空気を巻き込んだりして、パッケージクラックを起こしやすくする。
Therefore, radiation-polymerizable monomers and oligomers are blended into the pressure-sensitive adhesive composition, or radiation-polymerizable polymers having a radiation-polymerizable functional group introduced into the side chain or main chain of the acrylic polymer are used alone or other acrylic polymers. It is used as a pressure-sensitive adhesive, and has sufficient adhesive strength to the wafer from the dicing process to the drying process. A dicing pressure-sensitive adhesive sheet capable of reducing the adhesive strength as much as possible is used. (For example, refer to Patent Documents 1 and 2.)
In general, since the adhesive has a low elastic modulus, the adhesive layer of the dicing adhesive sheet cannot suppress minute vibrations of the wafer (chip). This vibration affects between the dicing blade and the cut surface of the chip and causes chipping on the cut surface of the chip. This chipping reduces the bending strength of the chip itself, or entraps air in the package of the sealed IC, and easily causes package cracks.
近来、半導体ウエハの薄膜化が進んでいるが、厚みが薄くなるほど、上記のようなチッピングや割れが生じる可能性が高くなるため、粘着シートの粘着剤層には、更に厳密に調整された弾性率と粘着力とが求められる。
更にまた、チップをチップ用基板に接着する際に用いる接着剤がシート化され、このシート状接着剤もウエハのダイシングと同時に切断したいという要望がある。シート状接着剤を貼着したウエハをダイシングする場合は、ダイシング用粘着シートの粘着剤層が該シート状接着剤に貼着され、ダイシング用粘着シートの粘着剤層とシート状接着剤の界面からチップがピックアップされる。一般的に粘着剤の粘着力は、接着剤のような樹脂膜に対して大きくなる傾向があるため、ダイシング用粘着シートはピックアップ性と粘着力に更に広いマージンが求められている。
In recent years, semiconductor wafers have been made thinner, but the thinner the thickness, the higher the possibility of chipping and cracking as described above. Rate and adhesive strength are required.
Furthermore, there is a demand that an adhesive used for bonding the chip to the chip substrate is formed into a sheet, and that the sheet-like adhesive is cut at the same time as the dicing of the wafer. When dicing a wafer with a sheet adhesive adhered, the adhesive layer of the dicing adhesive sheet is adhered to the sheet adhesive, from the interface between the adhesive layer of the dicing adhesive sheet and the sheet adhesive. A chip is picked up. In general, the adhesive strength of an adhesive tends to increase with respect to a resin film such as an adhesive, and therefore, a dicing adhesive sheet is required to have a wider margin in pick-up properties and adhesive strength.
このように、ダイシング用粘着シートには、ウエハのダイシング時に十分な粘着力でチップを保持してチップ飛散を防止し、ウエハ(チップ)の振動を抑制してチッピングを防止し、さらに、ダイシング用粘着シートがウエハ裏面(研削面)に直接貼着される場合であっても、接着剤のような樹脂膜を介して貼着される場合であっても、ピックアップが確実に行われ、かつピックアップによるチップへのダメージを極小にすることが求められている。
然るに、ダイシング用粘着シートにこれらの性質を共存させることは困難であり、何れかの性質を犠牲とした複数のダイシング用粘着シートが、状況に応じて選択されて使用されている。
In this way, the dicing adhesive sheet holds the chip with sufficient adhesive force when dicing the wafer to prevent chip scattering, suppresses wafer (chip) vibration and prevents chipping, and further dicing Whether the adhesive sheet is directly attached to the back surface (grind surface) of the wafer or the case where the adhesive sheet is attached via a resin film such as an adhesive, the pickup is performed reliably. There is a demand for minimizing the damage to the chips caused by.
However, it is difficult to make these properties coexist in the dicing pressure-sensitive adhesive sheet, and a plurality of dicing pressure-sensitive adhesive sheets that sacrifice any of the properties are selected and used depending on the situation.
本発明は、上記のような従来技術に鑑みてなされたものであって、例えばウエハのダイシング時に十分な粘着力でチップを保持してチップ飛散を防止し、ウエハ(チップ)の振動を抑制してチッピングを防止できる粘着シートを提供することを目的としている。また、ダイシング用粘着シートとしてウエハ裏面(研削面)に直接貼着される場合であっても、接着剤のような樹脂膜を介して貼着される場合であっても、エネルギー線照射で粘着力を低減させた後でのピックアップが確実に行われ、かつピックアップによるチップへのダメージを極小にすることのできる粘着シートを提供することを目的としている。 The present invention has been made in view of the prior art as described above. For example, when a wafer is diced, the chip is held with a sufficient adhesive force to prevent chip scattering and suppress vibration of the wafer (chip). An object of the present invention is to provide an adhesive sheet that can prevent chipping. In addition, even if it is directly attached to the wafer back surface (grind surface) as a pressure-sensitive adhesive sheet for dicing, it is adhered by energy ray irradiation even when it is attached via a resin film such as an adhesive. It is an object of the present invention to provide an adhesive sheet that can be reliably picked up after reducing the force and that can minimize damage to the chip due to the pickup.
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、従来の粘着性のアクリル系共重合ポリマー及びエネルギー線硬化性のモノマー又はオリゴマーを主成分とする粘着剤組成物に、更に酢酸ビニル共重合ポリマーを配合することにより、耐チッピング性に優れるとともにピックアップ力が極めて小さくなることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have developed a pressure-sensitive adhesive composition mainly composed of a conventional adhesive acrylic copolymer and an energy ray-curable monomer or oligomer. Furthermore, it has been found that by adding a vinyl acetate copolymer, the pick-up force is extremely low while the chipping resistance is excellent. The present invention has been completed based on such findings.
すなわち、本発明は、
(1)基材フィルムとその上に形成された粘着剤層からなる粘着シートであって、該粘着剤層が、粘着性の、酢酸ビニルモノマーから導かれる構成単位を含まないアクリル系共重合ポリマー〔成分(A)〕、酢酸ビニルモノマーから導かれる構成単位を50〜99.99質量%含有する酢酸ビニル共重合ポリマー〔成分(B)〕及びエネルギー線硬化性のモノマー又はオリゴマー〔成分(C)〕を主成分とする粘着剤組成物により形成されてなることを特徴とする粘着シート、
(2)成分(A)のガラス転移温度(Tg)が−10℃以下であることを特徴とする上記(1)の粘着シート、
(3)成分(A)と成分(B)の配合比(A)/(B)が5〜70質量部/95〜30質量部であり、成分(C)の配合比が成分(A)と成分(B)との合計100質量部に対して1〜1000質量部であることを特徴とする上記(1)又は(2)の粘着シート、
(4)成分(A)が、アルキル基の炭素数が4以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー〔成分(A1)〕から導かれる構成単位、架橋性官能基含有モノマー〔成分(A2)〕から導かれる構成単位、及び成分(A1)及び(A2)以外の重合性モノマー(A3)から導かれる構成単位を含有するポリマーであり、各構成単位の含有比(A1)/(A2)/(A3)が40〜95質量%/0.01〜30質量%/5〜40質量%であることを特徴とする上記(1)〜(3)のいずれかの粘着シート、
(5)成分(A)が、アルキル基の炭素数が4以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー〔成分(A1)〕から導かれる構成単位及び架橋性官能基含有モノマー〔成分(A2)〕から導かれる構成単位を含有するポリマーであり、各構成単位の含有比(A1)/(A2)が40〜95質量%/0.01〜30質量%であることを特徴とする上記(1)または(2)に記載の粘着シート、
(6)成分(B)が、酢酸ビニル〔成分(B1)〕から導かれる構成単位、架橋性官能基含有モノマー〔成分(B2)〕から導かれる構成単位及び成分(B1)及び(B2)以外の重合性モノマー(B3)から導かれる構成単位を含有するポリマーであり、各構成単位の含有比(B1)/(B2)/(B3)が50〜99.5質量%/0.01〜30質量%/1〜40質量%であることを特徴とする上記(1)〜(3)のいずれかの粘着シート、及び
(7)成分(B)が、酢酸ビニル〔成分(B1)〕から導かれる構成単位及び架橋性官能基含有モノマー〔成分(B2)〕から導かれる構成単位を含有するポリマーであり、各構成単位の含有比(B1)/(B2)が50〜99.5質量%/0.01〜30質量%であることを特徴とする上記(1)〜(3)のいずれかに記載の粘着シート
を提供するものである。
That is, the present invention
(1) A pressure-sensitive adhesive sheet comprising a base film and a pressure-sensitive adhesive layer formed thereon, wherein the pressure-sensitive adhesive layer does not contain a structural unit derived from an adhesive vinyl acetate monomer. [Component (A)], vinyl acetate copolymer [component (B)] containing 50 to 99.99% by mass of structural units derived from vinyl acetate monomer, and energy ray-curable monomer or oligomer [component (C) ], A pressure-sensitive adhesive sheet formed of a pressure-sensitive adhesive composition containing as a main component,
(2) The pressure-sensitive adhesive sheet according to the above (1), wherein the glass transition temperature (Tg) of the component (A) is −10 ° C. or lower,
(3) The compounding ratio (A) / (B) of the component (A) and the component (B) is 5-70 parts by mass / 95-30 parts by mass, and the compounding ratio of the component (C) is the component (A). The pressure-sensitive adhesive sheet according to (1) or (2), wherein the pressure-sensitive adhesive sheet is 1-1000 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total with the component (B),
(4) Component (A) is a structural unit derived from a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer having 4 or more alkyl groups [Component (A1)], a crosslinkable functional group-containing monomer [Component (A2)] And a polymer containing a structural unit derived from a polymerizable monomer (A3) other than components (A1) and (A2), and the content ratio of each structural unit (A1) / (A2) / ( A3) is 40 to 95% by mass / 0.01 to 30% by mass / 5 to 40% by mass, The pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of the above (1) to (3),
(5) Component (A) is a structural unit derived from a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer having an alkyl group having 4 or more carbon atoms [component (A1)] and a crosslinkable functional group-containing monomer [component (A2)]. (1), wherein the content ratio (A1) / (A2) of each structural unit is 40 to 95% by mass / 0.01 to 30% by mass. Or the pressure-sensitive adhesive sheet according to (2),
(6) Component (B) other than structural units derived from vinyl acetate [component (B1)], structural units derived from crosslinkable functional group-containing monomer [component (B2)], and components (B1) and (B2) It is a polymer containing a structural unit derived from the polymerizable monomer (B3), and the content ratio (B1) / (B2) / (B3) of each structural unit is 50 to 99.5% by mass / 0.01 to 30 The pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of the above (1) to (3), wherein the pressure-sensitive adhesive sheet is mass% / 1 to 40 mass%, and
(7) Component (B) is a polymer containing a structural unit derived from vinyl acetate [component (B1)] and a structural unit derived from a crosslinkable functional group-containing monomer [component (B2)], and each structural unit The pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of the above (1) to (3), wherein the content ratio (B1) / (B2) is 50 to 99.5% by mass / 0.01 to 30% by mass <<br/>
本発明によれば、ウエハのダイシング時に十分な粘着力でチップを保持してチップ飛散を防止し、ウエア(チップ)の振動を抑制してチッピングを防止できる粘着シートを提供することができる。また、ダイシング用粘着シートとしてウエハ裏面(研削面)に直接貼着される場合であっても、接着剤のような樹脂膜を介して貼着される場合であっても、エネルギー線照射で粘着力を低減させた後でのピックアップが確実に行われ、かつピックアップによるチップへのダメージを極小にすることのできる粘着シートを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the adhesive sheet which hold | maintains a chip | tip with sufficient adhesive force at the time of dicing of a wafer, prevents chip scattering, suppresses the vibration of a wear (chip | tip), and can prevent a chipping can be provided. In addition, even if it is directly attached to the wafer back surface (grind surface) as a pressure-sensitive adhesive sheet for dicing, it is adhered by energy ray irradiation even when it is attached via a resin film such as an adhesive. It is possible to provide an adhesive sheet that can be reliably picked up after the force is reduced and that can minimize damage to the chip due to the pickup.
本発明の粘着シートにおいて、粘着剤層は、成分(A)として粘着性のアクリル系共重合ポリマーを、成分(B)として酢酸ビニルモノマーから導かれる構成単位を50〜99.99質量%含有する酢酸ビニル共重合ポリマー及び、成分(C)としてエネルギー線硬化性のモノマー又はオリゴマーを含む粘着剤組成物により形成される。 In the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer contains a tacky acrylic copolymer as the component (A) and 50 to 99.99 mass% of structural units derived from the vinyl acetate monomer as the component (B). It is formed of a pressure-sensitive adhesive composition containing a vinyl acetate copolymer and an energy ray-curable monomer or oligomer as component (C).
成分(A)は、粘着性のアクリル系共重合ポリマーである。
ここで、粘着性とは、ガラス転移温度(Tg)が−10℃以下であることを意味し、成分(A)と成分(B)とが混合された粘着剤層が、ダイシング工程でウエハを保持するのに必要な粘着性を生じさせるためには、このTgを有することが必要である。好ましいTgは、−50〜−10℃である。
ガラス転移温度(Tg)は、Foxの式を用い、共重合するモノマーのモノマー比率とそのモノマーによるホモポリマーのTgの値から算出できる。
かかる粘着性のアクリル系共重合ポリマーは、種々のモノマーの組み合わせにより製造することができるが、アルキル基の炭素数が4以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステル〔成分(A1)〕と架橋性の官能基含有モノマー〔成分(A2)〕とを、必要に応じて、成分(A1)及び(A2)以外の重合性モノマー〔成分(A3)〕と共に共重合することにより得られたものが好ましい。
Component (A) is an adhesive acrylic copolymer.
Here, the adhesive means that the glass transition temperature (Tg) is −10 ° C. or lower, and the adhesive layer in which the component (A) and the component (B) are mixed is used for the wafer in the dicing process. It is necessary to have this Tg in order to produce the necessary tackiness for holding. Preferred Tg is −50 to −10 ° C.
The glass transition temperature (Tg) can be calculated from the monomer ratio of the monomer to be copolymerized and the value of Tg of the homopolymer by the monomer using the Fox equation.
Such an adhesive acrylic copolymer can be produced by a combination of various monomers, and has a crosslinkable property with a (meth) acrylic acid alkyl ester [component (A1)] having an alkyl group having 4 or more carbon atoms. What was obtained by copolymerizing a functional group-containing monomer [component (A2)] with a polymerizable monomer [component (A3)] other than components (A1) and (A2) as necessary is preferable.
ここで、成分(A1)のアルキル基の炭素数が4以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸デシルなどが挙げられる。また、(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル、(メタ)アクリル酸ベンジルエステル等の脂環族基または芳香族基を有するアルキルエステルであってもよい。これらは単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。 Here, (meth) acrylic acid alkyl ester having 4 or more carbon atoms in the alkyl group of component (A1) includes butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, (meth ) 2-ethylhexyl acrylate, isooctyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, and the like. Moreover, the alkyl ester which has alicyclic groups or aromatic groups, such as (meth) acrylic-acid cycloalkyl ester and (meth) acrylic-acid benzyl ester, may be sufficient. These may be used alone or in combination of two or more.
成分(A2)の架橋性の官能基含有モノマーとしては、重合性の二重結合と、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、エポキシ基等の官能基を分子内に有するモノマーであり、好ましくはヒドロキシル基含有不飽和化合物、カルボキシル基含有不飽和化合物が用いられる。
このような官能基含有モノマーの、具体的な例としては、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチルなどの(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル;(メタ)アクリル酸アセトアセトキシメチル;(メタ)アクリル酸モノメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸モノエチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸モノメチルアミノプロピル、(メタ)アクリル酸モノエチルアミノプロピルなどの(メタ)アクリル酸モノアルキルアミノアルキル;アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸などのエチレン性不飽和カルボン酸などが挙げられる。これらの単量体は単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
The crosslinkable functional group-containing monomer of component (A2) is a monomer having a polymerizable double bond and a functional group such as hydroxyl group, carboxyl group, amino group, substituted amino group, and epoxy group in the molecule. Preferably, a hydroxyl group-containing unsaturated compound or a carboxyl group-containing unsaturated compound is used.
Specific examples of such functional group-containing monomers include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic. (Meth) acrylic acid hydroxyalkyl esters such as 2-hydroxybutyl acid, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate; acetoacetoxymethyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid Monoalkylaminoalkyl (meth) acrylates such as monomethylaminoethyl, monoethylaminoethyl (meth) acrylate, monomethylaminopropyl (meth) acrylate, monoethylaminopropyl (meth) acrylate; acrylic acid, methacrylic acid, Crotonic acid, maleic acid, octopus Acid, ethylenically unsaturated carboxylic acids such as citraconic acid. These monomers may be used alone or in combination of two or more.
成分(A3)の共重合性モノマーとしては、アルキル基の炭素数が3以下の(メタ)アクリル酸アルキルエステル、具体的には、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル及び(メタ)アクリル酸プロピルや、アクリロニトリル、アクリルアミド、酢酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステルなどが挙げられる。
これらは単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
As the copolymerizable monomer of the component (A3), a (meth) acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 3 or less carbon atoms, specifically, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate and (meth) ) Vinyl esters such as propyl acrylate, acrylonitrile, acrylamide, vinyl acetate and vinyl butyrate.
These may be used alone or in combination of two or more.
成分(A)における、アルキル基の炭素数が4以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー〔成分(A1)〕から導かれる構成単位の含有割合は、ウエハをしっかり固定しダイシングでチップを飛散させないためには40質量%以上が好ましく、粘着力が過大でピックアップが困難にならないようにするためには95質量%以下が好ましい。
即ち、成分(A)における、成分(A1)から導かれる構成単位の含有割合の範囲は、好ましくは40〜95質量%であり、特に好ましくは50〜90質量%である。
In the component (A), the content ratio of the constituent unit derived from the (meth) acrylic acid alkyl ester monomer having 4 or more carbon atoms in the alkyl group [component (A1)] is such that the wafer is firmly fixed and the chips are not scattered by dicing. For this purpose, the content is preferably 40% by mass or more, and preferably 95% by mass or less in order to prevent picking up due to excessive adhesive force.
That is, the range of the content ratio of the structural unit derived from the component (A1) in the component (A) is preferably 40 to 95% by mass, particularly preferably 50 to 90% by mass.
成分(A)における、架橋性の官能基含有モノマーから導かれる構成単位は、架橋剤により三次元状の架橋結合を形成してチッピングの発生頻度の低減やピックアップ力の低減に寄与する。このため架橋性の官能基含有モノマーの含有割合は、好ましくは0.01〜30質量%であり、特に好ましくは0.1〜25質量%である。 The structural unit derived from the crosslinkable functional group-containing monomer in the component (A) forms a three-dimensional cross-linking bond with the cross-linking agent and contributes to a reduction in chipping frequency and a reduction in pick-up force. For this reason, the content rate of a crosslinkable functional group containing monomer becomes like this. Preferably it is 0.01-30 mass%, Most preferably, it is 0.1-25 mass%.
成分(A)に共重合性モノマー〔成分(A3)〕を導入することにより、成分(A)のガラス転移点(Tg)を制御することができ、粘着剤層自身の粘着力や凝集力を変化させ、チップの保持力やピックアップ性を調整することができる。成分(A3)から導かれる構成単位の含有割合は、好ましくは40質量%以下であり、特に好ましくは5〜30質量%である。 By introducing a copolymerizable monomer [component (A3)] into the component (A), the glass transition point (Tg) of the component (A) can be controlled, and the adhesive strength and cohesive strength of the adhesive layer itself can be controlled. By changing, it is possible to adjust the holding force and pick-up property of the chip. The content ratio of the structural unit derived from the component (A3) is preferably 40% by mass or less, and particularly preferably 5 to 30% by mass.
成分(A)の質量平均分子量は、残留モノマーによる臭気や被着体に対する汚染などの悪影響を排除するためには10万以上が好ましく、粘着剤を塗布するために必要な粘度を得るためには200万以下が好ましい。
即ち、成分(A)の質量平均分子量は、好ましくは10〜200万であり、特に好ましくは20〜150万である。
The mass average molecular weight of the component (A) is preferably 100,000 or more in order to eliminate adverse effects such as odor due to residual monomers and contamination on the adherend, and in order to obtain the viscosity necessary for applying the adhesive. 2 million or less is preferable.
That is, the mass average molecular weight of the component (A) is preferably 10 to 2 million, particularly preferably 200 to 1.5 million.
成分(B)は、酢酸ビニルモノマー〔成分(B1)〕と架橋性の官能基含有モノマー〔成分(B2)〕とを、必要に応じて、成分(B1)及び(B2)以外の重合性モノマー〔成分(B3)〕と共に共重合することにより得ることができる。
成分(B2)の架橋性の官能基含有モノマーとしては、上記で成分(A)の製造に使用する架橋性の官能基含有モノマー〔成分(A2)〕として例示したものが使用できる。
Component (B) comprises a vinyl acetate monomer [component (B1)] and a crosslinkable functional group-containing monomer [component (B2)], if necessary, polymerizable monomers other than components (B1) and (B2) It can be obtained by copolymerizing with [Component (B3)].
As the crosslinkable functional group-containing monomer of the component (B2), those exemplified above as the crosslinkable functional group-containing monomer [component (A2)] used for the production of the component (A) can be used.
成分(B3)の、成分(B1)及び(B2)以外の重合性モノマーは、成分(A)との相溶性を向上させるために使用するものであり、(メタ)アクリル酸エステル、アクリロニトリル、アクリルアミド、酢酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステルなどが挙げられる。
これらの中では、特に(メタ)アクリル酸アルキルエステルが好ましく、具体的には、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸デシルなどが挙げられる。
これらは単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
The polymerizable monomer other than the components (B1) and (B2) in the component (B3) is used for improving the compatibility with the component (A), and is a (meth) acrylic acid ester, acrylonitrile, acrylamide. And vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl butyrate.
Among these, (meth) acrylic acid alkyl esters are particularly preferable. Specifically, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, ( Examples include pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, and decyl (meth) acrylate.
These may be used alone or in combination of two or more.
成分(B)における、酢酸ビニルモノマー〔成分(B1)〕から導かれる構成単位の含有割合は、50質量%以上であれば、チップのピックアップ力の低減やチッピングの発生頻度の低減が期待できるようになるが、成分(A)との相溶性の低下やゲル分率の低下を防ぐために99.99質量%が上限値となる。
即ち、成分(B)における、成分(B1)から導かれる構成単位の含有割合の範囲は、50〜99.99質量%である必要があり、好ましくは50〜99.5質量%であり、特に好ましくは60〜95質量%である。
If the content ratio of the structural unit derived from the vinyl acetate monomer [component (B1)] in the component (B) is 50% by mass or more, a reduction in chip pick-up force and a reduction in chipping frequency can be expected. However, in order to prevent the compatibility with the component (A) and the gel fraction from decreasing, the upper limit is 99.99% by mass.
That is, the range of the content ratio of the structural unit derived from the component (B1) in the component (B) needs to be 50 to 99.99% by mass, preferably 50 to 99.5% by mass, Preferably it is 60-95 mass%.
成分(B)における、架橋性の官能基含有モノマーから導かれる構成単位は、成分(A)と同様に、架橋剤により三次元状の架橋結合を形成して、チッピングの発生頻度の低減やピックアップ力の低減に寄与する。このため架橋性の官能基含有モノマー含有割合は、好ましくは0.01〜30質量%であり、特に好ましくは0.1〜25質量%である。 In the component (B), the structural unit derived from the crosslinkable functional group-containing monomer forms a three-dimensional cross-linking with a cross-linking agent in the same manner as the component (A), thereby reducing the frequency of chipping and picking up. Contributes to reducing power. For this reason, the crosslinkable functional group-containing monomer content is preferably 0.01 to 30% by mass, and particularly preferably 0.1 to 25% by mass.
成分(B)における共重合性モノマー〔成分(B3)〕は、成分(A)と成分(B)との相溶性を充足するため、好ましくは0〜40質量%の含有割合であり、特に好ましくは1〜30質量%の含有割合である。 The copolymerizable monomer [component (B3)] in the component (B) is preferably a content of 0 to 40% by mass, particularly preferably, in order to satisfy the compatibility between the component (A) and the component (B). Is a content ratio of 1 to 30% by mass.
成分(B)のガラス転移温度(Tg)は、粘着力が過大でピックアップが困難にならないようにするためには−10℃以上が好ましく、ウエハをしっかり固定しダイシングでチップを飛散させないためには100℃以下が好ましい。
即ち、成分(B)のガラス転移温度(Tg)は、好ましくは−10〜+100℃であり、特に好ましくは0〜+50℃である。
The glass transition temperature (Tg) of the component (B) is preferably −10 ° C. or higher in order to prevent picking up due to excessive adhesive force, and in order to prevent the chips from being scattered by dicing and fixing the wafer firmly. 100 degrees C or less is preferable.
That is, the glass transition temperature (Tg) of the component (B) is preferably −10 to + 100 ° C., particularly preferably 0 to + 50 ° C.
成分(B)の質量平均分子量は、残留モノマーによる臭気や被着体に対する汚染などの悪影響を排除するためには1万以上が好ましく、粘着剤を塗布するために必要な粘度を得るためにはためには100万以下が好ましい。
即ち、成分(B)の質量平均分子量は、好ましくは1〜100万であり、特に好ましくは10〜80万である。
The mass average molecular weight of the component (B) is preferably 10,000 or more in order to eliminate adverse effects such as odor due to residual monomers and contamination to the adherend, and in order to obtain a viscosity necessary for applying the adhesive. Therefore, 1 million or less is preferable.
That is, the mass average molecular weight of the component (B) is preferably 1 to 1,000,000, particularly preferably 100 to 800,000.
成分(C)のエネルギー線硬化性のモノマー及びオリゴマーは、分子内に炭素−炭素二重結合を少なくとも1個以上有する重合性化合物、例えばアクリレートモノマーやアクリレートオリゴマーであり、アクリレートモノマーの具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートあるいは1,4−ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレートなどが挙げられ、アクリレートオリゴマーの具体例としては、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレートなどが挙げられる。 The energy ray-curable monomer and oligomer of component (C) are polymerizable compounds having at least one carbon-carbon double bond in the molecule, such as acrylate monomers and acrylate oligomers. Specific examples of acrylate monomers include , Trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate or 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,6- Hexanediol diacrylate and the like can be mentioned. Specific examples of the acrylate oligomer include urethane acrylate and polyester acrylate. Epoxy acrylate, and polyethylene glycol diacrylate.
粘着剤組成物における、成分(A)と成分(B)の配合比(A)/(B)は、5〜70質量部/95〜30質量部であることが望ましい。
成分(A)の配合比が過大になれば、チッピング性が劣るようになるとともに、粘着力が大きくなりピックアップが困難になるおそれがある。成分(B)が過大になれば、粘着性に劣りウエハをしっかり固定できずチップが飛散しやすくなる。
特に好ましい配合比(A)/(B)は、10〜60質量部/90〜40質量部である。
As for the compounding ratio (A) / (B) of a component (A) and a component (B) in an adhesive composition, it is desirable that it is 5-70 mass parts / 95-30 mass parts.
When the compounding ratio of the component (A) is excessive, the chipping property becomes inferior, and the adhesive force is increased, which may make it difficult to pick up. If the component (B) is excessive, the adhesiveness is inferior and the wafer cannot be fixed firmly, and the chips are likely to be scattered.
A particularly preferable blending ratio (A) / (B) is 10 to 60 parts by mass / 90 to 40 parts by mass.
粘着剤組成物における、成分(C)の配合比は、成分(A)と成分(B)との合計100質量部に対して1〜1000質量部であることが望ましい。
成分(C)の配合比がこの範囲未満の場合はエネルギー線照射を行っても粘着力が低下せずピックアップができなくなるおそれがあり、この範囲を超えるとエネルギー線照射した後の硬化した粘着剤層が脆くなりすぎ、ピックアップを行うためのエキスパンドができなくなるおそれがある。
成分(C)の特に好ましい配合比は、成分(A)と成分(B)との合計100質量部に対して10〜200質量部である。
As for the compounding ratio of a component (C) in an adhesive composition, it is desirable that it is 1-1000 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of a component (A) and a component (B).
If the blending ratio of the component (C) is less than this range, there is a risk that the adhesive force does not decrease even if energy beam irradiation is performed and pickup may not be possible. There is a possibility that the layer becomes too brittle and an expansion for picking up cannot be performed.
A particularly preferable blending ratio of the component (C) is 10 to 200 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the component (A) and the component (B).
粘着剤組成物には、前記成分(A)、成分(B)及び成分(C)と共に、凝集力を付加するために架橋剤を配合する。
該架橋剤としては、例えばイソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、金属キレート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、アミン樹脂などが挙げられる。
A crosslinking agent is mix | blended with an adhesive composition in order to add cohesion force with the said component (A), a component (B), and a component (C).
Examples of the crosslinking agent include isocyanate crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, metal chelate crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, and amine resins.
ここで、イソシアネート系架橋剤の例としては、トリレンジイソシアネート(TDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート(HMDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、キシリレンジイソシアネート(XDI)、水素化トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネートなどの多価イソシアネート及びこれらの多価イソシアネートと多価アルコールの付加物、例えば、トリメチロールプロパン変性TDI(TDI−TMP)、トリメチロールプロパン変性XDI(XDI−TMP)などが挙げられる。 Here, examples of the isocyanate-based crosslinking agent include tolylene diisocyanate (TDI), hexamethylene diisocyanate (HMDI), isophorone diisocyanate (IPDI), xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate and the like. And polyhydric isocyanates and adducts of these polyisocyanates and polyhydric alcohols such as trimethylolpropane-modified TDI (TDI-TMP), trimethylolpropane-modified XDI (XDI-TMP), and the like.
エポキシ系架橋剤の例としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルアミンなどが挙げられる。金属キレート系架橋剤の例としては、アルミニウム、銅、鉄、スズ、亜鉛、チタン、ニッケル、アンチモン、マグネシウム、バナジウム、クロム、ジルコニウムなどの二価以上の金属のアセチルアセトンやアセトン酸エステルからなるキレート化合物が挙げられる。 Examples of the epoxy-based crosslinking agent include ethylene glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane diglycidyl ether, diglycidyl aniline, diglycidyl amine and the like. Examples of metal chelate crosslinking agents include chelate compounds composed of acetylacetone and acetone esters of divalent or higher metals such as aluminum, copper, iron, tin, zinc, titanium, nickel, antimony, magnesium, vanadium, chromium, and zirconium. Is mentioned.
金属キレート系架橋剤の例としては、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピオネート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)などが挙げられる。 Examples of the metal chelate crosslinking agent include ethyl acetoacetate aluminum diisopropionate, aluminum tris (ethyl acetoacetate) and the like.
アジリジン系架橋剤の例としては、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、ビスイソフタロイル−1−(2−メチルアジリジン)などが挙げられる。 Examples of the aziridine-based crosslinking agent include trimethylolpropane-tri-β-aziridinylpropionate, bisisophthaloyl-1- (2-methylaziridine), and the like.
これらの架橋剤は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
架橋剤の量は、成分(A)及び成分(B)の合計量100質量部に対して0.1〜20質量部が好ましく、特に0.5〜10質量部が好ましい。
These crosslinking agents may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more types.
0.1-20 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of total amounts of a component (A) and a component (B), and, as for the quantity of a crosslinking agent, 0.5-10 mass parts is especially preferable.
本発明の粘着シートの粘着剤層は、エネルーギ線を照射により硬化して、粘着力を失うものであり、エネルギー線としては、紫外線、電子線等が用いられる。
その照射量は、エネルギー線の種類によりに異なり、例えば紫外線の場合は50〜200mJ/cm2 程度が好ましく、電子線を用いる場合は、10〜1000krad程度が好ましい。
The pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention cures the energy line by irradiation and loses the adhesive force, and ultraviolet rays, electron beams, etc. are used as the energy rays.
The amount of irradiation varies depending on the type of energy beam, for example, about 50 to 200 mJ / cm 2 is preferable in the case of ultraviolet rays, and about 10 to 1000 krad is preferable when an electron beam is used.
エネルギー線として紫外線を用いる場合には、光重合開始剤を混入することにより、重合硬化時間ならびに光線照射量を少なくすることができる。
このような光重合開始剤としては、具体的には、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンジル、ジベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノン、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルホスフィンオキサイドなどが挙げられる。
When ultraviolet rays are used as energy rays, the polymerization curing time and the amount of light irradiation can be reduced by mixing a photopolymerization initiator.
Specific examples of such photopolymerization initiators include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyldiphenyl sulfide, tetramethylthiuram monosulfide, azobisisobutyrate. Ronitrile, benzyl, dibenzyl, diacetyl, β-chloranthraquinone, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) ) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide.
光重合開始剤の配合量は、成分(C)100質量部に対して、十分な硬化性を得るためには0.1質量部以上が好ましく、十分な保存性を得るためには10質量部以下が好ましい。
即ち、光重合開始剤の配合量の範囲は、成分(C)100質量部に対して、好ましくは0.1〜10質量部であり、特に好ましくは0.5〜5質量部である。
The blending amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 parts by mass or more for obtaining sufficient curability with respect to 100 parts by mass of the component (C), and 10 parts by mass for obtaining sufficient storage stability. The following is preferred.
That is, the range of the blending amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 10 parts by mass, particularly preferably 0.5 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (C).
粘着剤組成物には、本発明の目的が損なわれない範囲で、所望により、従来アクリル系粘着剤組成物に慣用されている各種添加成分を含有させることができる。 In the pressure-sensitive adhesive composition, various additive components conventionally used in acrylic pressure-sensitive adhesive compositions can be contained as desired within a range that does not impair the object of the present invention.
本発明の粘着シートは、基材フィルムと、その一方の面に、前述の粘着剤組成物を用いて形成された粘着剤層を有している。
基材フィルムとしては特に制限はなく、従来、粘着シートの基材フィルムとして慣用されているものの中から任意のものを適宜選択して用いることができるが、プラスチックシート、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルムなどのポリオレフィン系フィルム;ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンナフタレートフィルムなどのポリエステル系フィルム;エチレン・酢酸ビニル共重合体フィルム、エチレン・(メタ)アクリル酸共重合体フィルム、エチレン・(メタ)アクリル酸エステル共重合体フィルムなどのエチレン共重合体系フィルム;ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリウレタンフィルム、アイオノマー樹脂フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、フッ素樹脂フィルムなどが用いられる。
基材フィルムは、これらのプラスチックシートの複層フィルムであってもよいし、架橋されたフィルムであってもよい。また、使用するエネルギー線に対し透過性を有していれば、基材フィルムは有色でも無色でもよい。
The pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention has a base film and a pressure-sensitive adhesive layer formed on the one surface using the pressure-sensitive adhesive composition described above.
The base film is not particularly limited, and any one conventionally used as a base film for an adhesive sheet can be appropriately selected and used. However, a plastic sheet such as a polyethylene film or a polypropylene film can be used. Polyolefin film such as polybutene film, polybutadiene film and polymethylpentene film; Polyester film such as polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polybutylene terephthalate film and polybutylene naphthalate film; Ethylene / vinyl acetate copolymer film , Ethylene / (meth) acrylic acid copolymer film, ethylene / (meth) acrylic acid ester copolymer film, etc .; Cycloalkenyl film, vinyl chloride copolymer film, polyurethane film, ionomer resin film, polystyrene film, polycarbonate film, fluorine resin film is used.
The base film may be a multilayer film of these plastic sheets or a crosslinked film. Further, the base film may be colored or colorless as long as it has transparency to the energy rays to be used.
前記基材フィルムの厚さは、使用目的や状況に応じて適宜定めればよいが、通常40〜300μm、好ましくは60〜200μmの範囲である。
また、この基材フィルムとしてプラスチックシートを用いる場合には、その上に設けられる粘着剤層との接着性を向上させる目的で、所望により、サンドブラストや溶剤処理などによる凹凸化処理、あるいはコロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン・紫外線照射処理、火炎処理、クロム酸処理、熱風処理などの酸化処理などを施すことができる。また、プライマー処理を施すこともできる。
The thickness of the base film may be appropriately determined according to the purpose of use and the situation, but is usually in the range of 40 to 300 μm, preferably 60 to 200 μm.
In addition, when using a plastic sheet as the base film, for the purpose of improving the adhesiveness with the pressure-sensitive adhesive layer provided on the plastic sheet, it is possible to perform unevenness treatment by sandblasting or solvent treatment, or corona discharge treatment, as desired. , Oxidation treatment such as plasma treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment, flame treatment, chromic acid treatment, and hot air treatment can be performed. Moreover, primer treatment can also be performed.
本発明の粘着シートにおいては、基材フィルムの一方の面に、前記の粘着剤組成物を用い、厚さが通常1〜100μm、好ましくは2〜60μm、特に好ましくは3〜30μmの範囲にある粘着剤層が設けられる。
この粘着剤層を設ける方法としては、例えば基材フィルムの一方の面に、当該粘着剤組成物を、公知の方法で直接塗布して粘着剤層を設ける方法、あるいは剥離シート上に当該粘着剤組成物を、公知の方法で塗布して粘着剤層を設けたのち、これを基材フィルムの片面に貼着し、該粘着剤層を転写する方法などを用いることができる。
なお、粘着剤組成物の塗布方法としては、例えばグラビヤロールコーター、リバースロールコーター、キスロールコーター、ディップロールコーター、バーコーター、ナイフコーター、スプレーコーターなどを用いる方法を挙げることができる。
In the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention, the above pressure-sensitive adhesive composition is used on one surface of the base film, and the thickness is usually in the range of 1 to 100 μm, preferably 2 to 60 μm, particularly preferably 3 to 30 μm. An adhesive layer is provided.
As a method of providing this pressure-sensitive adhesive layer, for example, a method of providing the pressure-sensitive adhesive layer by directly applying the pressure-sensitive adhesive composition on one surface of a base film by a known method, or the pressure-sensitive adhesive on a release sheet. A method of applying the composition by a known method to provide a pressure-sensitive adhesive layer, sticking it to one surface of a substrate film, and transferring the pressure-sensitive adhesive layer can be used.
In addition, as a coating method of an adhesive composition, the method of using a gravure roll coater, a reverse roll coater, a kiss roll coater, a dip roll coater, a bar coater, a knife coater, a spray coater etc. can be mentioned, for example.
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
なお、各例で得られた粘着シートの性能は、以下に示す要領に従って評価した。
(1)粘着力(SUS面)
粘着シートを、鏡面処理したステンレス板(SUS304)に、23℃、50%RH環境下にて、2kgのゴムローラを用いて貼着し、20分間放置後、万能型引っ張り試験機(株式会社オリオンテック社製、テンシロンUTM−4−100)を用いて、JIS Z 0237の粘着力の測定法に準じて、剥離速度300mm/minで、180度剥離強度を測定した。
紫外線照射(照射量70mJ/cm2 )後の粘着シートについても、同様に粘着力を測した。
EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited at all by these examples.
In addition, the performance of the adhesive sheet obtained in each example was evaluated according to the following procedure.
(1) Adhesive strength (SUS surface)
The adhesive sheet was attached to a mirror-finished stainless steel plate (SUS304) using a 2 kg rubber roller in an environment of 23 ° C. and 50% RH, left for 20 minutes, and then a universal tensile tester (Orion Tech Co., Ltd.). 180 degree peel strength was measured at a peel rate of 300 mm / min in accordance with JIS Z0237 adhesive strength measurement method using Tensilon UTM-4-100).
The adhesive strength of the adhesive sheet after ultraviolet irradiation (irradiation amount 70 mJ / cm 2 ) was similarly measured.
(2)粘着力(樹脂面)
ステンレス板を、ダイアタッチ用のシート状接着剤(日立化成工業社製DF−400)が裏面にラミネートされた6インチシリコンウエハに変え、その接着剤面に接して粘着シートを貼着した以外は上記(1)と全く同様にして、180度剥離強度を測定した。
紫外線照射(照射量70mJ/cm2 )後の粘着シートについても、同様に粘着力を測した。
(2) Adhesive strength (resin surface)
Except for changing the stainless steel plate to a 6-inch silicon wafer with a die attach sheet adhesive (DF-400 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) laminated on the back, and sticking the adhesive sheet in contact with the adhesive surface The 180 degree peel strength was measured in exactly the same manner as (1) above.
The adhesive strength of the adhesive sheet after ultraviolet irradiation (irradiation amount 70 mJ / cm 2 ) was similarly measured.
(3)ピックアップ力(研削面)
#2000の砥石で研削した6インチシリコンウエハを、当該研削面と粘着剤層とが接するように、粘着シート上にマウントし、リングフレームに固定しダイサー(東京精密社製、AWD−4000、Disco社製ダイシングブレード27HECC装着)を用いて、カット速度80mm/sec、回転数40,000rpm、粘着シートへの切り込み量25μmの条件で、5mm×5mmにダイシングした。
次に、プッシュプルゲージの先端に針を装着し、裏返した粘着シートの背面からチップを突き下げ、チップを剥離するのに要する力を、10点測定し、その平均値をピックアップ力とした。
(3) Pickup force (grinding surface)
A 6-inch silicon wafer ground with a # 2000 grindstone was mounted on an adhesive sheet so that the ground surface and the adhesive layer were in contact with each other, fixed to a ring frame, and dicer (Tokyo Seimitsu Co., Ltd., AWD-4000, Disco). Using a dicing blade 27HECC manufactured by the company), dicing was performed to 5 mm × 5 mm under the conditions of a cutting speed of 80 mm / sec, a rotational speed of 40,000 rpm, and a cutting depth of 25 μm into the adhesive sheet.
Next, a needle was attached to the tip of the push-pull gauge, the tip was pushed down from the back side of the adhesive sheet turned upside down, and the force required to peel the tip was measured at 10 points, and the average value was taken as the pick-up force.
(4)ピックアップ力(樹脂面)
6インチウエハの研削面にダイアタッチ用のシート状接着剤(日立化成工業社製DF−400)がラミネートされたウエハを、当該接着剤面と粘着剤層とが接するように、粘着シート上にマウントした以外は、上記(4)と全く同様にして、ピックアップ力を測定した。
(4) Pickup force (resin surface)
A wafer in which a die attach sheet adhesive (DF-400 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is laminated on the ground surface of a 6 inch wafer is placed on the adhesive sheet so that the adhesive surface and the adhesive layer are in contact with each other. The pick-up force was measured in the same manner as in (4) above except that it was mounted.
(5)チップ飛散
上記の(4)ピックアップ力(研削面)の測定におけると同様の操作でダイシングした際に、ダイシング中に粘着剤層から剥がれて飛んだチップの数を数え、全体の中の割合(%)をチップ飛散とした。
(5) Chip scattering When dicing is performed in the same manner as in the above (4) pickup force (grinding surface) measurement, the number of chips that are peeled off from the adhesive layer during dicing is counted. The percentage (%) was chip scattering.
(6)チッピング
上記の(4)ピックアップ力(研削面)の測定におけると同様の操作でピックアップしたチップについて目視し、四辺に中心に向かった深さ方向の長さが50μm以上の欠けの生じたチップの数を数え、全体の中の割合(%)をチッピングとした。
(6) Chipping Chips picked up by the same operation as in (4) Pickup force (grinding surface) measurement were observed, and chipping with a length of 50 μm or more in the depth direction toward the center on four sides occurred. The number of chips was counted, and the ratio (%) in the whole was defined as chipping.
また、以下の実施例及び比較例において、成分(A)、成分(B)、成分(C)、光重合開始剤及び架橋剤として以下のものを用いた。
粘着性のアクリル系共重合ポリマー〔成分(A)〕
(a1):アクリル酸ブチル75質量%、メタクリル酸メチル10質量%、アクリル酸10質量%及びアクリル酸2−ヒドロキシエチル5質量%を反応させて得られた、質量平均分子量が50万(Tg:−32℃)のポリマー。
In the following Examples and Comparative Examples, the following were used as the component (A), the component (B), the component (C), the photopolymerization initiator, and the crosslinking agent.
Adhesive acrylic copolymer (component (A))
(A1): The weight average molecular weight obtained by reacting 75% by mass of butyl acrylate, 10% by mass of methyl methacrylate, 10% by mass of acrylic acid and 5% by mass of 2-hydroxyethyl acrylate was 500,000 (Tg: -32 ° C) polymer.
酢酸ビニル共重合ポリマー〔成分(B)〕
(b1):酢酸ビニル80質量%、アクリル酸2−エチルヘキシル18質量%、アクリル酸1質量%及びメタクリル酸2−ヒドロキシエチル1質量%を反応させて得られた、質量平均分子量が44万(Tg:+5℃)のポリマー。
(b2):酢酸ビニル60質量%、アクリル酸2−エチルヘキシル38質量%、アクリル酸1質量%及びメタクリル酸2−ヒドロキシエチル1質量%を反応させて得られた、質量平均分子量が48万(Tg:−7℃)のポリマー。
Vinyl acetate copolymer [component (B)]
(B1): 80 mass% vinyl acetate, 18 mass% 2-ethylhexyl acrylate, 1 mass% acrylic acid and 1 mass% 2-hydroxyethyl methacrylate were reacted, and the mass average molecular weight was 440,000 (Tg : + 5 ° C) polymer.
(B2): 60 mass% vinyl acetate, 38 mass% 2-ethylhexyl acrylate, 1 mass% acrylic acid and 1 mass% 2-hydroxyethyl methacrylate were reacted, and the mass average molecular weight was 480,000 (Tg : -7 ° C) polymer.
エネルギー線硬化性オリゴマー〔成分(C)〕
(c1):ウレタン系アクリレート(日本合成化学工業社製、商品名:紫外UV1700B)
Energy ray curable oligomer [component (C)]
(C1): Urethane acrylate (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name: ultraviolet UV1700B)
光重合開始剤
(d1):1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバスペシャリティーケミカルズ社製、商品名:イルガキュア184)
架橋剤
(e1):ポリイソシアネート系架橋剤(日本ポリウレタン工業社製、商品名:コロネートL)
Photopolymerization initiator (d1): 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name: Irgacure 184)
Cross-linking agent (e1): Polyisocyanate-based cross-linking agent (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., trade name: Coronate L)
実施例1
上記成分(a1)20質量部、成分(b1)80質量部、成分(c1)30質量部、光重合開始剤0.28質量部及び架橋剤3質量%を混合し、粘着剤組成物を得た。
この粘着剤組成物を、剥離処理した厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの剥離処理面に、乾燥後の塗布厚が10μmになるように塗布して、粘着剤層を形成した。この粘着剤層を厚さ80μmのエチレン・メタクリル酸共重合体フィルムに転写し、粘着シートを得た。
得られた粘着シートを用いて、粘着力(SUS面)、粘着力(樹脂面)、ピックアップ力(研削面)、ピックアップ力(樹脂面)、チップ飛散、及びチッピングを評価し、その結果を表2に示す。
Example 1
20 parts by mass of the component (a1), 80 parts by mass of the component (b1), 30 parts by mass of the component (c1), 0.28 parts by mass of the photopolymerization initiator and 3% by mass of the crosslinking agent are mixed to obtain a pressure-sensitive adhesive composition. It was.
This pressure-sensitive adhesive composition was applied to a release-treated surface of a peeled 38 μm-thick polyethylene terephthalate film so that the coating thickness after drying was 10 μm to form a pressure-sensitive adhesive layer. This pressure-sensitive adhesive layer was transferred to an 80 μm thick ethylene / methacrylic acid copolymer film to obtain a pressure-sensitive adhesive sheet.
Using the obtained adhesive sheet, adhesive force (SUS surface), adhesive force (resin surface), pickup force (grind surface), pickup force (resin surface), chip scattering, and chipping were evaluated, and the results are shown. It is shown in 2.
実施例2〜5及び比較例1
成分(A)〜(E)の種類及び配合量を表1に示す如くに変えた以外は実施例1と同様にして粘着シートを得た。得られた粘着シートを用いて、実施例1と同様に評価し、その結果を表2に示す。
Examples 2 to 5 and Comparative Example 1
A pressure-sensitive adhesive sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the types and blending amounts of the components (A) to (E) were changed as shown in Table 1. Using the obtained adhesive sheet, it evaluated similarly to Example 1, and shows the result in Table 2.
本発明の粘着シートは、ダイシング時にウエハの微小な振動を抑えて、ウエハの切断面に欠け(チッピング)を防止でき、半導体ウエハ自体及び樹脂膜を有する半導体ウエハの樹脂膜の両方に対して、ダイシング時には十分な粘着力を有してウエハを保持してチップ飛散を防止し、しかも、エネルギー照射によって粘着力を十分に低減して、ピックアップ時にチップ割れが生じるを防止するのに適当な粘着力を有するものであり、ダイシング用の粘着シートとして使用するのに適するものである。
また、本発明の粘着シートはピックアップ性に優れているため、ピックアップ工程にのみ使用するピックアップ用シートとして利用することにも適している。すなわち、リングフレームが使用されずにチップ化が行われたウエハは、ピックアップ装置によるピックアップが不可能な形態であるため、ピックアップ用シートが用いられる。ピックアップ用シートをウエハ全面に貼着すると共にその外周をリングフレームに固定し、全てのチップをピックアップ用シートに転着することによりピックアップ装置への供給が可能となる。このような用途においても、本発明の粘着シートは適している。
また、本発明の粘着シートは、被着体としてガラス、セラミック、グリーンセラミック、一括で樹脂封止されたICパッケージ等、半導体ウエハに限らずダイシングやピックアップを行う素材、材料に適用できる。さらに、本発明の粘着シートは、ダイシング用、ピックアップ用に限定されず、最終的に粘着シートを剥離除去する工程を含む用途に適している。
The pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention suppresses minute vibrations of the wafer during dicing and can prevent chipping (chipping) on the cut surface of the wafer, both for the semiconductor wafer itself and the resin film of the semiconductor wafer having a resin film, Adhesive strength is sufficient to hold the wafer while dicing and prevent the chips from scattering, and to reduce the adhesive strength sufficiently by energy irradiation to prevent chip cracking during pick-up It is suitable for use as a pressure-sensitive adhesive sheet for dicing.
Further, since the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention is excellent in pick-up property, it is also suitable for use as a pick-up sheet used only in the pick-up process. That is, since a wafer that has been chipped without using a ring frame is in a form that cannot be picked up by a pickup device, a pickup sheet is used. The pickup sheet is attached to the entire surface of the wafer, the outer periphery thereof is fixed to the ring frame, and all chips are transferred to the pickup sheet, so that supply to the pickup device is possible. Even in such applications, the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention is suitable.
The pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention can be applied not only to semiconductor wafers such as glass, ceramics, green ceramics, and lump-sealed IC packages as adherends, but also to materials and materials for dicing and pickup. Furthermore, the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention is not limited to dicing and pickup, and is suitable for applications including a step of finally peeling and removing the pressure-sensitive adhesive sheet.
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