JP4802328B2 - 磁性体の製造方法 - Google Patents
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このように、生体内で用いられる磁石等の磁性体にあっては、高保磁力を有すると同時に生体安全性、高い耐食性が必要となる。
また、高密度磁気記録媒体の磁性層に用いられる磁性体についても、より高密度化の要求から、より高い保磁力を有する磁性層の必要性が高まっている。
この白金系の磁性体例えばFePtは、fcc(面心立方)とfct(面心直方)の2つの構造を有し、fccはFeとPtとの配列が、不規則性を有し殆ど保磁力を有することがなく、fctは、FeとPtとが規則的に配列されることから、きわめて高い保磁力示すことが知られている。
このFePtの合成は、基体上に、スパッタリング法あるいはメッキ法によってfccの不規則相によるFePt層を成膜し、これを熱処理することによって規則化してfctの規則相による高保磁力を有するFePtのハード膜による磁性体の形成がなされる(例えば特許文献1参照)。
これに対し、基体を低温化した状態で、あるいは冷却装置によって冷却するなど基体温度を制御した状態で規則化の熱処理を行なって基体が熱的に損傷されることがないようにする方法の提案がなされている(例えば文献1参照)。
しかしながら、このように基体温度を、規則化温度や、各部の構成による熱伝導を考慮して制御することは、各種使用態様、目的に適用するには制約が生じる。
よって基体上に磁性層を成膜する成膜工程を有し、該成膜工程にあってPLD法のプルームを利用した300℃〜500℃未満による加熱成膜を行って上記基体上に規則相の強磁性層を成膜することを特徴とする。
また、本発明による磁性体の製造方法は、上記磁性体の製造方法にあって、上記磁性層がFePtもしくはCoPtであることを特徴とする。
まず、第1の実施の形態として、本発明による磁性体の製造方法のPLD法によって基体上に不規則相の磁性層を成膜する成膜工程と、その後、熱処理を行って上記不規則相の磁性層を規則化して強磁性層とする熱処理工程とを行って目的とする強磁性層を形成する方法による場合について説明する。
この実施の形態においては、白金系磁性体として代表されるFePt合金磁性体の高保磁力を有するハード磁性体を製造する場合を例示するものである。
この場合、Fe50原子%、Pt50原子%、ないしはこのように、FeとPtがそれぞれ50%原子比の組成と実質的に殆ど同様の磁気的、機械的性状を示す例えばFe48原子%、Pt52原子%の組成とした場合である。
本発明においては、この成膜を、特にレーザアブレーションによるPLD法によって形成する。
そして、このターゲット1に、レーザ光源(図示せず)例えば波長355nmのYAGレーザ、あるいはエキシマレーザ等によるパルスレーザ光3を照射する。
この場合のターゲット1と基体1との距離(以下T−S間距離という)は、例えば50mm以下好ましくは10mm以下とする。
また、このPLDにおける真空度、すなわち真空室内の真空度は、2〜6×10−7Torrとする。
基体2と、ターゲット1からの飛翔原子の照射位置との関係は、必要に応じて、例えば基体2の被成膜面に沿って直交する2方向に相対的に移動することができるように、例えば基体2を図1において直交する2方向x及びy方向に移動する構成として、例えば基体2の全域に渡って一様にターゲット材の被着がなされるようにすることができる。
このように、基体2に成膜した不規則相fcc構造の磁性層4を、熱処理によって規則化して規則相fct構造の目的とする磁性体を形成する。
基体(サブストレイト):Ta基板
ターゲット:Fe(50原子%)−Pt(50原子%)合金ターゲット
成膜時間:60〜120[min]
真空度:2.0×10−5[Torr](すなわち2.67×10−3[Pa])
T−S間距離:5〜30[mm]
レーザ:YAGレーザ
図2は、それぞれfcc構造の磁性層が成膜された多数の試料を用意し、熱処理温度(Temperature[℃])を変えたときの得られた保磁力(Coercivity)Hc[kA/m])の測定結果を示したグラフである。
これによれば、400℃程度で、500 [kA/m]程度の高い保磁力Hcが得られており、規則化開始温度は300℃ないしはそれ以下となる。
図3は、上述した不規則相の磁性層に対して400℃で熱処理を行った場合の面内方向の磁気特性を示す磁化曲線である。この場合、PLDにおけるT−S間距離dを10mmとした場合である。このとき、残留磁化Mrは0.88[T]、Hcが595[kA/m]、最大エネルギー積BHmaxが104[kJ/m3]であった。
したがって、これに伴う規則化の実際の熱処理温度は、規則化開始温度より高い例えば600℃となる。本発明製造方法に比し、かなり高い熱処理を必要とする。
この実施の形態においても、白金系磁性体として代表されるFePt合金磁性体の高保磁力を有するハード磁性体を製造する場合を例示するものである。
この場合、Fe50原子%、Pt50原子%、ないしはこのように、FeとPtがそれぞれ50%原子比の組成と実質的に殆ど同様の磁気的、機械的性状を示す例えばFe48原子%、Pt52原子%の組成とした場合である。
そして、このターゲット1に、レーザ光源(図示せず)例えば波長355nmのYAGレーザ、あるいはエキシマレーザ等によるパルスレーザ光3を照射する。
この場合のターゲット1と基体1との距離すなわちT−S間距離dは、例えば10mm〜20mmとする。真空度は、2〜6×10−7Torrする。レーザ光源としては、6W〜9Wとする。成膜時間は60分とする。
例えば、上述した第1の実施形態においてT−S間距離dを10mmとし、2〜4WのYAGレーザを用いる場合において、同一PLD装置にあってこの第2の実施の形態においてT−S間距離を10mm〜20mmにおいて、6〜9WのYAGレーザの高いエネルギー照射とする。
また、図12は、図11の符号aを付して示したプロット点に関する試料についての磁化曲線であり、これによれば高い保磁力を有することがわかる。
例えば各種磁気特性を利用したメモリや、高密度磁気記録媒体への適用ができる。
そして、例えば磁気記録媒体において非磁性フィルムベースを耐熱性の低い樹脂フィルムを用いて、高保磁力、したがって、高記録密度の磁気記録媒体を構成することができる。
また、本発明製造方法によれば、成膜速度が速いこと、低温化によって、生産性の向上がはかられるものである。
また、液体中、例えば血管の血液中に外部磁場によって泳動させる例えば医療用の泳動マイクロマシンを構成することができる。
図14AおよびBは、この医療用の泳動マイクロマシンの一例の斜視図および断面図であり、この場合、例えば直径20μmのコイル状の芯材5の表面に、本発明製造方法によって被覆磁性体層6を被着した場合である。
この芯材5は、タングステングW線によることもできるが、例えば使用態様によっては、より柔軟性を有する樹脂のコイルの表面に本発明製造方法によるハード磁性膜6の被服磁性体層6を被着形成し、これを所要パターンに着磁することによって、泳動マイクロマシンを構成することができる。
この構成によれば、泳動マイクロマシンを所要の粘性を有するオイル、水等の液体、ある血液中において、外部から所要磁界強度および回転速度をもって回転する回転磁場を印加することによって、コイルを回転させて、このコイルの回転によって、スクリュウの作用によってその軸方向に推進泳動させることができる。
したがって、本発明の適用によって医療用として求められているより微小なすぐれた泳動マイクロマシンを構成することができるものである。
しかしながら、本発明はfct規則構造となる他の磁性体、例えばCoPt等に適用することもできるなど、上述した例に限られるものではない。
Claims (3)
- 磁性層を構成するターゲットにパルスレーザ光を照射してレーザアブレーション成膜を行うPLD(Pulsed Laser Deposition)法によって基体上に磁性層を成膜する成膜工程を有し、
該成膜工程にあってPLD法のプルームを利用した300℃〜500℃未満による加熱成膜を行って上記基体上に規則相の強磁性層を成膜することを特徴とする磁性体の製造方法。 - 上記磁性層が白金系磁性層であることを特徴とする請求項1に記載の磁性体の製造方法。
- 上記磁性層がFePtもしくはCoPtであることを特徴とする請求項1に記載の磁性体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006067783A JP4802328B2 (ja) | 2006-03-13 | 2006-03-13 | 磁性体の製造方法 |
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JP2007250574A JP2007250574A (ja) | 2007-09-27 |
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---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4802328B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102658076B (zh) * | 2012-05-11 | 2015-06-03 | 中山大学 | 一种微纳米材料及其制备方法、装置、应用 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3730518B2 (ja) * | 2001-01-19 | 2006-01-05 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体 |
JP2004047924A (ja) * | 2002-05-13 | 2004-02-12 | Japan Science & Technology Corp | 磁性薄膜の形成方法、磁気記録媒体およびその製造方法、ならびに熱処理装置 |
JP3886859B2 (ja) * | 2002-07-30 | 2007-02-28 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 鉄Siからなる基板上への単結晶薄膜生成方法及びその単結晶薄膜装置 |
JP4074181B2 (ja) * | 2002-11-28 | 2008-04-09 | 株式会社東芝 | 垂直磁気記録媒体 |
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2006
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007250574A (ja) | 2007-09-27 |
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