JP4794562B2 - インプリントポリマー支持体 - Google Patents
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Description
用語「得ることが可能な」は、明細書の記載及び請求の範囲で使用される場合、「得られた」を意味するようにも解釈されることがある。
追加の反応組成物を重合して、形成された1つ又は複数のポリマーインプリントの表面に追加のポリマー層を形成する工程と、を更に含んでもよい。
トキシ)シラン;4−ビニルベンジルクロリド;4−ビニルベンジルブロミド、4−ビニルベンズアルデヒド;4−アミノメチルスチレン、及び2−吉草酸ビニル。
機能性ポリスチレン・ナノ構造体を、シリコンウェーハにインプリントして、ナノインプリントモジュール支持体(NIMS)を形成した。
ナノプリントされたポリマー(14’)は、SPOS用モジュール支持体の新しい種類を提供した。
Claims (20)
- 基板、及び複数のポリマーインプリントの形状を画成するために、画成された表面パターンを有するモールドを用意する工程と、
モールドの画成された表面パターンの第1の部分上に、少なくとも1つの機能性モノマーを有する第1重合性媒体及び遊離基開始剤を供給する工程と、
モールドの画成された表面パターンの第2の部分上に、前記第1重合性媒体の機能性モノマーとは異なる少なくとも1つの機能性モノマーを有する第2の重合性媒体及び遊離基開始剤を供給する工程と、
複数のポリマーインプリントを形成するために、前記重合性媒体を重合させる工程と、
前記基板表面に前記ポリマーインプリントを固着させるために、重合の間、当該基板表面に重合性媒体を接触させる工程と、
モールドと、形成されたポリマーインプリントを含む基板とを分離する工程であって、前記ポリマーインプリントが前記基板に異なる官能基を付与する工程と
を含む、インプリントポリマー支持体の形成方法。 - 前記機能性モノマーを架橋する工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 基板上に互いに空間的に異なるポリマーインプリントの配列を形成する工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 基板上に空間的に異なるドットの配列を形成する工程を含み、前記ドットは、5nm〜1000nm、10nm〜500nm、15nm〜400nm、20nm〜300nm、25nm〜200nm、30nm〜150nm及び30nm〜100nmからなる群から選択された範囲の直径を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記重合性媒体を供給する工程が、架橋剤を選択する工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 架橋剤を選択する工程が、機能性モノマーに対して超過量の架橋剤を選択する工程を含む、請求項5に記載の方法。
- 機能性モノマーに対する架橋剤の超過量が、重量基準で、0.5%〜50%、1%〜45%、5%〜40%、10%〜40%、15%〜35%及び20%〜30%からなる群から選択される、請求項6に記載の方法。
- 基板からモールドを分離した後、モールドに於ける画成された表面パターン上に、追加の重合性媒体を供給する工程と、
前記基板上に固着した、前記形成されたポリマーインプリントの表面に、追加の重合性媒体を接触させる工程と、
前記形成されたポリマーインプリントの表面上に追加のポリマー層を形成するために、前記追加の重合性媒体を重合させる工程とを行う、請求項1に記載の方法。 - 前記追加の重合性媒体を供給する工程が、前記重合性媒体に対して異なる官能基を有する追加の重合性媒体の機能性モノマーを選択する工程を含む、請求項8に記載の方法。
- 前記重合性媒体を供給する工程が、1つ又は複数の紫外線遊離基開始剤又は熱遊離基開始剤を選択する工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記重合工程の前に、前記モールドの画成された表面パターン上に耐摩擦剤を塗布する工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記重合工程の前に、前記基板表面上にプラズマガス洗浄剤を塗布する工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記重合工程の前に、前記基板表面上にカップリング剤を塗布する工程を更に含む、請求項1に記載の方法。
- 圧力、温度及び時間からなる群から選択された重合工程の1つ又は複数の条件を制御する工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 重合の間、1つ又は複数の制御条件を変更する工程を含む、請求項14に記載の方法。
- モールドの画成された表面パターン上に、前記重合性媒体を供給する工程の前に、重合性媒体を部分重合させる工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記形成されたポリマーインプリント間で、残留物を除去する工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 基板、及び複数のポリマーインプリントの形状を画成するために、画成された表面パターンを有するモールドを用意する工程と、
モールドの画成された表面パターンの第1の部分上に、少なくとも1つの機能性モノマーを有する第1重合性媒体及び遊離基開始剤を供給する工程と、
モールドの画成された表面パターンの第2の部分上に、前記第1重合性媒体の機能性モノマーとは異なる少なくとも1つの機能性モノマーを有する第2の重合性媒体及び遊離基開始剤を供給する工程と、
複数のポリマーインプリントを形成するために、前記重合性媒体を重合させる工程と、
前記基板表面に前記ポリマーインプリントを固着させるために、重合の間、当該基板表面に前記重合性媒体を接触させる工程と、
モールドと、形成されたポリマーインプリントを含む基板とを分離する工程であって、前記ポリマーインプリントが前記基板に異なる官能基を付与する工程と
を含む方法から得られるインプリントポリマー支持体。 - 固相有機合成(SPOS)用のナノサイズのポリマーインプリントの配列であって、
ナノ/マイクロサイズのポリマーインプリントの配列が、基板上に支持されており、
基板、及び複数のポリマーインプリントの形状を画成するために、画成された表面パターンを有するモールドを用意する工程と、
モールドの画成された表面パターンの第1の部分上に、少なくとも1つの機能性モノマーを有する第1重合性媒体及び遊離基開始剤を供給する工程と、
モールドの画成された表面パターンの第2の部分上に、前記第1重合性媒体の機能性モノマーとは異なる少なくとも1つの機能性モノマーを有する第2の重合性媒体及び遊離基開始剤を供給する工程と、
ナノサイズのポリマーインプリントを形成するために、前記重合性媒体を重合させる工程と、
前記基板表面にナノ/マイクロサイズのポリマーインプリントの配列を固着させるために、重合の間、当該基板表面に重合性媒体を接触させる工程と、
モールドと、形成されたナノ/マイクロサイズのポリマーインプリントの配列を含む基板とを分離する工程であって、前記ポリマーインプリントが前記基板に異なる官能基を付与する工程と
を含む方法から得られるナノサイズのポリマーインプリントの配列。 - 固相有機合成でのインプリントポリマー支持体の使用であって、前記インプリントポリマー支持体は、基板及び該基板に固着した請求項19に記載のナノサイズのポリマーインプリントの配列を含み、前記ナノサイズのポリマーインプリントは前記基板に異なる官能基を付与する、インプリントポリマー支持体の使用。
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