JP4789137B2 - 含金属スクアリリウム化合物を用いた光学記録媒体 - Google Patents
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(式中、Xはハロゲン原子を示し、nは1〜12の自然数、mは1〜25の自然数を示す。)
(1)冷却管を付けた三ッ口フラスコに3,4−ジブトキシ−3−シクロブテン−1,2−ジオン9.2部と、3,5−ジメチル−4−エチルピロール5.0部を入れ、そこに1−ブタノール50部を加え、100℃にて4時間加熱撹拌した。反応終了後、1−ブタノールを減圧留去した。得られた固体を減圧ろ過にて濾取し、ヘキサン洗浄後、減圧乾燥して2−(2−ブトキシ−3,4−ジオキソ−シクロブテ−1−エニル)−3,5−ジメチル−4−エチルピロール6.3部を得た。
実施例1で用いた3,5−ジメチル−4−エチルピロール5.0部に代えて、同じモル数の表1に示した化合物、及び各種金属塩を用いた以外は、実施例1と同様にして表1に記載の含金属スクアリリウム化合物を得た。
(1)冷却管を付けた三ッ口フラスコに、3−ブチルチオフェンを出発原料として、実施例1と同様の操作によって得た2−(2−ブトキシ−3,4−ジオキソ−シクロブテ−1−エニル)−4−ペンチルチオフェン6.0部と2Mアンモニア−メタノール溶液100部を入れ、40℃にて8時間加熱撹拌した。反応後、室温まで冷却し、析出した固体を減圧ろ過にて濾取した。水で洗浄後、減圧乾燥して化合物(21)である2−(2−アミノ−3,4−ジオキソ−シクロブテ−1−エニル)−4−ペンチルチオフェン4.1部を得た。
実施例5で3−ブチルチオフェンを出発原料として用いた2−(2−ブトキシ−3,4−ジオキソ−シクロブテ−1−エニル)−4−ペンチルチオフェン6.0部に代えて、同じモル数の表1に示した3−トリフルオロメチルピロール及びニッケル塩を用いた以外は、実施例5と同様にして表1に記載の含金属スクアリリウム化合物を得た
(1)窒素雰囲気下、冷却管を付けた三ッ口フラスコに、3,4−エチルピロールを出発原料として、実施例5と同様の操作によって得た2−(2−アミノ−3,4−ジオキソ−シクロブテ−1−エニル)−3,4−ジエチルピロール8.0部とトリフルオロメタンスルホン酸無水物10.3部を入れ、70℃にて5時間加熱撹拌した。反応後、室温まで冷却し、析出した固体を減圧ろ過にて濾取した。水で洗浄後、減圧乾燥して化合物(33)であるN−〔2−(3,4−ジエチル−1H−ピロール−2−イル−3,4−ジオキソ−シクロブテ−1−エニル)−C,C,C−トリフルオロメタンスルホンアミド6.5部を得た。
実施例1で得た含金属スクアリリウム化合物のアセトン中での極大吸収波長(以下、「λmax」と略記する)を測定した結果(日立ハイテクノロジーズ、U−3500)350nmであり、λmaxにおけるモル吸光係数(以下、「ε」と略記する)は8.2×104M−1cm−1であった。示差熱分析(セイコーインスツルメンツ、TG/DTA6300)の結果、分解点287℃であった。得られた含金属スクアリリウム化合物をテトラフルオロペンタノールに溶解し、2質量%にし、平坦なポリカーボネート製円盤上にスピンコート法により薄膜を形成した。この塗布膜の吸収スペクトルを透過法により測定した結果、図2に示す通りであり、λmaxは363nmであった。なお参考として透過法により測定した溶液の吸収スペクトルを図1に示す。
比較例として、表1に示した、実施例1及び実施例5で得た金属錯塩化前のスクアリリウム化合物の特性を実施例と同様にして測定し、結果を表2に示した。
前述の実施例1〜8及び比較例1及び2の塗布膜を500Wキセノンランプ、40℃雰囲気下で所定時間照射した。λmaxにおける初期の吸光度を100%とし、所定時間後の吸光度の百分率を色素残存率として算出した。これらの結果を表3に示す。
Claims (2)
- 基板上に、レーザー光による情報の書き込み及び/または読みとりが可能な記録層が形成された光学記録媒体において、該記録層が下記一般式(A)または一般式(B)で示されるスクアリリウム化合物と、Ni、Co、Zn、Cuからなる群から選択された少なくとも1種の金属とからなる金属塩または金属イオンである含金属スクアリリウム化合物を少なくとも1種含有することを特徴とする光学記録媒体。
- 波長350nm〜500nmの波長領域から選ばれたレーザー光により情報の記録及び/または再生することを特徴とする請求項1に記載の光学記録媒体。
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