JP4778987B2 - 制御システム、リソグラフィ投影装置、支持構造体を制御する方法、およびコンピュータプログラム製品 - Google Patents
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Description
・第2測定システムによる測定に基づいて支持構造体の位置を制御し、
・対象物の測定位置を、第2座標系の支持構造体の変換位置に変換し、
・変換位置に基づいて支持構造体を位置決めするように構成される。
コントローラは、さらに、第2座標系における第1測定システムの仮定位置と実際位置との差を示す位置エラー信号を受け取るように構成される。コントローラは、さらに、位置エラー信号に依存して支持構造体および/または空間像の位置を制御するように構成される。
・対象物を支持する支持構造体に対して対象物を設けるステップと、
・第1測定システムを使用して、第1座標系において対象物の位置を測定するステップと、
・第2座標系において支持構造体の位置を測定するステップであって、第1測定システムが第2座標系内で仮定位置を有する、測定するステップと、
・対象物の測定位置を、第2座標系の支持構造体の変換位置に変換するステップと、
・支持構造体の測定位置、支持構造体の変換位置、および第2座標系における第1測定システムの仮定位置と実際位置との差を示す位置エラー信号に依存して、支持構造体および/またはエリアルイメージの第1位置決めを実施するステップとを含む。
・対象物を支持する支持構造体に対して対象物を設けるステップと、
・第1測定システムを用いて、第1座標系において対象物の位置を測定するステップと、
・第2座標系において支持構造体の位置を測定するステップであって、第1測定システムが第2座標系内で仮定位置を有する、測定するステップと、
・対象物の測定位置を、第2座標系の支持構造体の変換位置に変換するステップと、
・支持構造体の測定位置、支持構造体の変換位置、および第2座標系における第1測定システムの仮定位置と実際位置との差を示す位置エラー信号に依存して、前記支持構造体および/またはエリアルイメージの第1位置決めを実施するステップとを含む。
・放射ビームB(たとえば、UV放射またはEUV放射)を調節するように構成されたイルミネーションシステム(イルミネータ)ILと、
・パターニングデバイス(たとえば、マスク)MAを支持するように構築され、一定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに接続された支持構造体(たとえば、マスクテーブル)MTと、
・基板(たとえば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、一定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに接続された基板テーブル(たとえば、ウェーハテーブル)WTと、
・パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを、基板Wのターゲット部分C(たとえば、1つまたは複数のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(たとえば、屈折投影レンズ系)PSとを備える。
・第1測定システム(たとえば、アライメントシステム19、49を含む)によって測定された基板の位置、
・第2座標系における第1測定システムの仮定位置、および、
・第2座標系における支持構造体(たとえば、基板テーブル12)の位置
を使用して、第1座標系における基板18の位置を、第2座標系における基板テーブル12の変換位置に変換するように配置され、位置エラー信号に依存して変換位置を補正するようにも配置される。これは、図3に示す例示的な実施形態に関して先に説明されている。
Claims (41)
- リソグラフィ装置内の支持構造体(2,12,MT)を制御する制御システムであって、
前記支持構造体によって支持される対象物(W,18,MA)の位置を、第1座標系で測定するように配置された第1測定システム(19,49)と、
前記支持構造体の位置を、第2座標系で測定するように配置された第2測定システムであって、前記第1測定システムが前記第2座標系内で仮定位置を有する、第2測定システム(1,3,13,14,15,16,43a,44a)と、
前記第1測定システム(19,49)と前記第2測定システム(1,3,13,14,15,16,43a,44a)との相対位置を測定するための位置エラーセンサ(25,45)と、
前記第2測定システムによる測定に基づいて前記支持構造体の位置を制御し、前記対象物の測定位置を、前記第2座標系の前記支持構造体の変換位置に変換し、前記変換位置に基づいて前記支持構造体を位置決めするように構成されたコントローラ(61)と、を備え、
前記コントローラは、前記第2座標系における前記第1測定システム(19,49)の仮定位置と実際位置との差を示す位置エラー信号を前記位置エラーセンサ(25,45)から受け取り、前記位置エラー信号に依存して、前記支持構造体および/または空間像の位置を制御する、制御システム。 - 前記コントローラは、前記位置エラー信号に依存して、基板(18)について前記支持構造体(2,12)を位置決めする、請求項1に記載の制御システム。
- 前記コントローラは、前記位置エラー信号に依存して、パターニングデバイス(MA)について支持構造体(MT)を位置決めする、請求項1に記載の制御システム。
- 前記コントローラは、前記位置エラー信号に依存して、さらなる支持構造体(MT)を位置決めすることによって、前記支持構造体(2,12)の相対位置を制御する、請求項1に記載の制御システム。
- 前記第2測定システム(1,3,13,14,15,16,43a,44a)は、前記第2座標系が結合される基準構造(3,14,44a)を備える、請求項1ないし4のいずれかに記載の制御システム。
- 前記コントローラ(61)は、前記位置エラー信号を使用して、前記第1測定システム(19,49)と前記基準構造(3,14,44a)との間の相対運動を減衰させる、請求項5に記載の制御システム。
- 前記基準構造は、0.1×10−6K−1および2×10−8K−1の少なくとも一方より小さい熱膨張係数を有する材料を含む、請求項5または6に記載の制御システム。
- 前記基準構造は、グリットプレート(14)を備える、請求項5、6、または7に記載の制御システム。
- 前記第2測定システムは、エンコーダタイプのセンサ(15,16)を備える請求項1〜8のいずれかに記載の制御システム。
- 前記第2測定システムは、インクリメンタル位置測定システムである、請求項8または9に記載の制御システム。
- 前記制御システムは、前記インクリメンタル位置測定システムによって実施される測定用の開始位置を提供する基準システムをさらに備える、請求項9に記載の制御システム。
- 前記コントローラ(61)は、前記第1測定システムと前記支持構造体(2,12,MT)の標的相対位置を受け取り、また、前記第1測定システム(19,49)を使用して前記対象物(W,18,MA)の位置を測定するときに、前記位置エラー信号および前記標的相対位置に依存して、前記支持構造体の位置を制御する、請求項1ないし11のいずれかに記載の制御システム。
- 前記コントローラ(61)は、
前記第1測定システム(19,49)によって測定された前記対象物の位置、
前記第2座標系における前記第1測定システムの仮定位置、および、
前記第2座標系における前記支持構造体の位置
に基づいて、前記第1座標系における前記対象物(W,18,MA)の位置を、前記第2座標系における前記支持構造体(2,12,MT)の変換位置に変換し、
前記コントローラはさらに、前記位置エラー信号に依存して前記変換位置を補正する、請求項1ないし12のいずれかに記載の制御システム。 - 前記コントローラ(61)は、前記仮定位置および前記位置エラー信号を使用して、前記第2座標系における前記第1測定システム(19,49)の実際の位置を決定し、また、前記第1測定システムの前記実際の位置および前記対象物(W,18)の前記測定位置に依存して、前記変換位置を決定する、請求項1ないし13のいずれかに記載の制御システム。
- 前記第2測定システム(1,3,13,14,15,16,43a,44a)は、前記第2座標系が結合される基準構造(3,14,44a)を備え、前記第1測定システムおよび前記基準構造は、フレーム(11)によって支持される、請求項1ないし14のいずれかに記載の制御システム。
- 前記基準構造は、熱中性点が前記基準構造の平面内に形成されるように、複数の接続部(21)を用いて前記フレーム(11)によって支持される、請求項15に記載の制御システム。
- 前記接続部(21)は板ばねである、請求項16に記載の制御システム。
- 接続部(21)の数は3に等しく、接続部(21)は、前記熱中性点の周りの単一平面内で、互いに対して120°の角度で位置決めされる、請求項16または17に記載の制御システム。
- 前記フレーム(11)は、150Wm−1K−1より大きい熱伝導率を有する材料を含む、請求項16〜18のいずれかに記載の制御システム。
- 前記位置エラーセンサ(24,25)は、前記第1測定システム(19,49)に接続する第1センサ部分(27,29,31,33)と前記第2測定システム(1,3,13,14,15,16,43a,44a)に接続する第2センサ部分(27,29,31,33)との間の相対位置を測定するように配置される、請求項1ないし19のいずれかに記載の制御システム。
- 前記位置エラーセンサ(24,25)は、前記第1センサ部分(27,29,31,33)と前記第2センサ部分(27,29,31,33)との間の相対位置を直接測定するように配置される、請求項20に記載の制御システム。
- 前記第2センサ部分は、前記フレーム(11)に接続される、請求項16および21に記載の制御システム。
- 前記コントローラ(61)は、前記位置エラー信号によって測定された距離の変動を減衰させる減衰システムを備える、請求項6および22に記載の制御システム。
- 前記第1センサ部分と前記第2センサ部分の少なくとも一方は、0.1×10−6K−1より小さい熱膨張係数を有する材料を含む、請求項20ないし23のいずれかに記載の制御システム。
- 前記第1センサ部分と前記第2センサ部分の少なくとも一方は、2×10−8K−1より小さい熱膨張係数を有する材料を含む、請求項20ないし23のいずれかに記載の制御システム。
- 前記位置エラーセンサは干渉計を備える、請求項20ないし25のいずれかに記載の制御システム。
- 前記位置エラーセンサはエンコーダシステムを備える、請求項20ないし25のいずれかに記載の制御システム。
- 前記位置エラー信号は、少なくとも2次元で、前記第2座標系における前記第1測定システムの仮定位置と実際の位置との差を示す、請求項1ないし27のいずれかに記載の制御システム。
- 前記第1測定システムは、アライメントセンサを備える、請求項1ないし28のいずれかに記載の制御システム。
- 前記第1測定システムは、レベルセンサを備える、請求項1ないし29のいずれかに記載の制御システム。
- 請求項1ないし30のいずれかに記載の制御システムを備えるリソグラフィ投影装置。
- フレームを備えており、前記測定システムの一方が前記フレームに固定される、請求項31に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記第2測定システム(1,3,13,14,15,16,43a,44a)は、前記第2座標系が結合される基準構造(3,14,44a)を備え、前記基準構造は前記フレームに固定される、請求項32に記載のリソグラフィ投影装置。
- 投影システム(PS)をさらに備え、前記コントローラ(61)は、
前記第2座標系における、マスク(MA)用のさらなる支持構造体(MT)などのさらなる対象物または空間像の仮定位置と実際位置との差を示すさらなる位置エラー信号を受け取り、
前記さらなる位置エラー信号に依存して、前記基板(W)用の前記支持構造体(2,12)、前記マスク(MA)用の前記支持構造体(MT)、または両方の支持構造体(2,12,MT)を位置決めする、請求項31ないし33のいずれかに記載のリソグラフィ投影装置。 - リソグラフィ装置内の支持構造体を制御する方法であって、
対象物(W,18,MA)を支持する支持構造体(2,12,MT)に対して前記対象物を設けるステップと、
第1測定システム(19,49)を使用して、第1座標系において前記対象物の位置を測定するステップと、
第2座標系において前記支持構造体の位置を測定するステップであって、前記第1測定システムは前記第2座標系内で仮定位置を有する、測定するステップと、
前記対象物の前記測定位置を、前記第2座標系の前記支持構造体の変換位置に変換するステップと、
前記第1測定システム(19,49)と第2測定システム(1,3,13,14,15,16,43a,44a)との相対位置を測定するための位置エラーセンサ(25,45)から、前記第2座標系における前記第1測定システムの仮定位置と実際位置との差を示す位置エラー信号を受け取るステップと、
前記支持構造体の前記測定位置、前記支持構造体の前記変換位置、および、前記位置エラー信号に依存して、前記支持構造体(2,12,MT)の第1位置決めを実施するステップと、を含む方法。 - 前記第1位置決めは、空間像およびさらなる対象物(MA)を含む群のメンバに対して前記支持構造体(2,12,MT)の相対的な第1位置決めを含む、請求項35に記載の方法。
- 前記第1位置決めは、前記測定された支持構造体(2,12,MT)に対して別の支持構造体(MT,2,12)を位置決めすることによって実施される、請求項36に記載の方法。
- 前記第1位置決めは、前記第2座標系における投影システム(PS)のイメージ面の位置にも依存するように実施される、請求項35ないし37のいずれかに記載の方法。
- プロセッサによって実行されるとリソグラフィ装置内の支持構造体を制御する方法を実施するための命令でエンコードされている、機械読取可能媒体に具体化されたコンピュータプログラムであって、前記方法は、
対象物を支持する支持構造体に対して前記対象物を設けるステップと、
第1測定システム(19,49)を用いて、第1座標系において前記対象物の位置を測定するステップと、
第2座標系において前記支持構造体の位置を測定するステップであって、前記第1測定システムは前記第2座標系内で仮定位置を有する、測定するステップと、
前記対象物の前記測定位置を、前記第2座標系の前記支持構造体の変換位置に変換するステップと、
前記第1測定システム(19,49)と第2測定システム(1,3,13,14,15,16,43a,44a)との相対位置を測定するための位置エラーセンサ(25,45)から、前記第2座標系における前記第1測定システムの仮定位置と実際位置との差を示す位置エラー信号を受け取るステップと、
前記支持構造体の前記測定位置、前記支持構造体の前記変換位置、および前記位置エラー信号に依存して、前記支持構造体の第1位置決めを実施するステップとを含む、コンピュータプログラム。 - 前記第1位置決めは、空間像およびさらなる対象物(MA)を含む群のメンバに対して前記支持構造体(2,12,MT)の相対的な第1位置決めを含む、請求項39に記載のコンピュータプログラム。
- 前記命令は、プロセッサによって実行されると、前記第1位置決めが前記第2座標系における投影システムのイメージ面の位置にさらに依存するように実施されるように、エンコードされる、請求項39または40に記載のコンピュータプログラム。
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