KR20080112988A - 제어시스템, 리소그래피 투영장치, 지지구조체 제어 방법,및 컴퓨터 프로그램물 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (42)
- 리소그래피 장치에서 지지구조체(2, 12, MT)를 제어하기 위한 제어시스템에 있어서,제 1 좌표계에서 상기 지지구조체에 의하여 지지되는 대상물(W, 18, MA)의 위치를 측정하도록 구성되는 제 1 측정시스템(19, 49);제 2 좌표계에서 상기 지지구조체의 위치를 측정하도록 구성되는 제 2 측정시스템(1, 3, 13, 14, 15, 16, 43a, 44a) -상기 제 1 측정시스템은 상기 제 2 측정시스템에서 추정된 위치를 가짐-; 및상기 제 2 측정시스템에 의한 측정치들에 기초하여 상기 지지구조체의 위치를 제어하고,상기 대상물의 측정된 위치를 상기 제 2 좌표계에서의 상기 지지구조체의 전환된 위치로 전환시키고,상기 전환된 위치에 기초하여 상기 지지구조체를 위치설정하도록 구성되는 제어기(61)를 포함하며,상기 제어기는 또한 상기 제 2 좌표계에서의 상기 제 1 측정시스템(19, 49)의 실제 위치와 상기 추정된 위치 간의 차이를 나타내는 위치 오차 신호를 수신하고, 상기 위치 오차 신호에 종속적인 방식으로 상기 지지구조체 및/또는 에어리얼 이미지의 위치를 제어하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 1 항에 있어서,상기 제어기는 상기 위치 오차 신호에 종속적인 방식으로 기판(18)에 대해 상기 지지구조체(2, 12)를 위치시키도록 구성되는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 1 항에 있어서,상기 제어기는 상기 위치 오차 신호에 종속적인 방식으로 패터닝 디바이스(MA)에 대해 지지구조체(MT)를 위치시키도록 구성되는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 1 항에 있어서,상기 제어기는 상기 위치 오차 신호에 종속적인 방식으로 추가 지지구조체(MT)에 의한 상기 지지구조체(2, 12)의 상대 위치를 제어하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제 2 측정시스템(1, 3, 13, 14, 15, 16, 43a, 44a)은 상기 제 2 좌표계가 커플링되는 기준 구조체(3, 14, 44a)를 포함하는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 5 항에 있어서,상기 제어기(61)는 상기 위치 오차 신호를 사용하여 상기 제 1 측정시스템(19, 49)과 상기 기준 구조체(3, 13, 14, 44a)의 상대 위치를 제어함으로써 상기 위치 오차 신호를 감쇠시키도록 구성되는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,상기 기준 구조체는 0.1×10-6K-1 및 2×10-8K-1 중 적어도 하나 보다 큰 열 팽창 계수를 갖는 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 5 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 기준 구조체는 격자플레이트(grid plate;14)를 포함하는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제 2 측정시스템은 인코더 타입 센서(15, 16)를 포함하는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,상기 제 2 측정시스템은 인크리멘탈 위치 측정 시스템(incremental position measurement system)인 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 9 항에 있어서,상기 제어시스템은 상기 인크리멘탈 위치 측정시스템에 의하여 수행될 측정들을 위한 시작 위치를 제공하도록 구성되는 기준 시스템을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제어기(61)는 상기 제 1 측정시스템과 상기 지지구조체(2, 12, MT)의 목표 상대 위치를 수용하도록 구성되고, 상기 제 1 측정시스템(19, 49)을 이용하여 상기 대상물(W, 18, MA)의 위치를 측정하는 경우 상기 위치 오차 신호 및 상기 목표 상대 위치들에 종속적인 방식으로 상기 지지구조체의 위치를 제어하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제어기(61)는,상기 제 1 측정시스템(19, 49)에 의하여 측정된 대상물의 위치,상기 제 2 좌표계에서의 상기 제 1 측정시스템의 추정된 위치, 및상기 제 2 좌표계에서의 상기 지지구조체의 위치에 기초하여,상기 제 1 좌표계에서의 상기 대상물(W, 18, MA)의 위치를 상기 제 2 좌표계에서의 상기 지지구조체(2, 12, MT)에서의 전환된 위치로 전환시키도록 구성되며,상기 제어기는 또한 상기 위치 오차 신호에 종속적인 방식으로 상기 전환된 위치를 보정하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제어기(61)는 상기 추정된 위치 및 상기 위치 오차 신호를 사용하여 상기 제 2 좌표계에서의 상기 제 1 측정시스템(19, 49)의 실제 위치를 결정하도록 구성되고, 상기 제 1 측정시스템의 실제 위치와 상기 대상물(W, 18)의 측정된 위치에 종속적인 방식으로 상기 전환된 위치를 결정하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제 2 측정시스템(1, 3, 13, 14, 15, 16, 43a, 44a)은 상기 제 2 좌표계가 커플링되는 기준구조체(3, 14, 44a)를 포함하며, 상기 제 1 측정시스템 및 상기 기준 구조체는 프레임(11)에 의하여 지지되는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 15 항에 있어서,상기 기준 구조체는 열적 중립 포인트가 상기 기준 구조체의 평면 내에 형성되도록 복수의 연결부(connection;21)에 의하여 상기 프레임(11)에 의해 지지되는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 16 항에 있어서,상기 연결부들(21)은 판 스프링들인 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 16 항 또는 제 17 항에 있어서,상기 연결부들(21)의 수는 3개이며, 상기 연결부들(21)은 상기 열적 중립 포인트 주위의 단일 평면에서 서로에 대해 120°의 각도로 위치설정되는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 16 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 프레임(11)은 150 Wm-1K-1 보다 큰 열 전도 계수를 갖는 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 1 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서,제 1 센서 부분(27, 29, 31, 33)과 제 2 센서 부분(27, 29, 31, 33) 간의 거리를 측정하도록 구성되는 위치 오차 센서(25, 45)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 20 항에 있어서,상기 제 1 센서 부분은 상기 제 1 측정시스템과 상기 제 2 측정시스템 중 1 이상의 측정시스템에 연결되는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 21 항에 있어서,상기 제 1 측정시스템과 상기 제 2 측정시스템 간의 거리가 직접적으로 측정될 수 있도록, 상기 제 2 센서 부분은 상기 제 1 측정시스템과 상기 제 2 측정시스템 중 하나에 연결되는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 16 항 또는 제 22 항에 있어서,상기 제 2 센서 부분은 상기 프레임(11)에 연결되는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 6 항 또는 제 23 항에 있어서,상기 제어기(61)는 상기 위치 오차 신호에 의해 측정되는 거리의 변화들을 감쇠시키기 위한 감쇠 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 20 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제 1 센서 부분 및 상기 제 2 센서 부분 중 1 이상의 센서 부분은 0.1×10-6K-1 보다 작은 열 팽창 계수를 갖는 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 20 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제 1 센서 부분 및 상기 제 2 센서 부분 중 1 이상의 센서 부분은 2×10-8K-1 보다 작은 열 팽창 계수를 갖는 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 20 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 위치 오차 센서는 간섭계를 포함하는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 20 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 위치 오차 센서는 인코더 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 1 항 내지 제 28 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 위치 오차 신호는 상기 제 2 좌표계에서의 상기 제 1 측정시스템의 실제 위치와 상기 추정된 위치 간의 차이를 2 차원 이상의 차원으로 나타내는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 1 항 내지 제 29 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제 1 측정시스템은 정렬 센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 1 항 내지 제 30 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제 1 측정시스템은 레벨 센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 제어시스템.
- 제 1 항 내지 제 31 항 중 어느 한 항의 제어시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
- 제 32 항에 있어서,상기 장치는 프레임을 포함하고, 상기 측정시스템들 중 하나는 상기 프레임에 대해 고정되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
- 제 33 항에 있어서,상기 제 2 측정시스템(1, 3, 13, 14, 15, 16, 43a, 44a)은 상기 제 2 좌표계가 커플링되는 기준 구조체(3, 14, 44a)를 포함하고, 상기 기준 구조체는 상기 프레임에 대해 고정되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
- 제 32 항 내지 제 34 항 중 어느 한 항에 있어서,투영시스템(PS)을 더 포함하고,상기 제어기(61)는 또한:상기 제 2 좌표계에서의, 마스크(MA)를 위한 추가 지지구조체(MT)와 같은 추가 대상물 또는 에어리얼 이미지의 실제 위치와 추정된 위치 간의 차이를 나타내는 추가 위치 오차 신호를 수신하고,상기 기판(W)을 위한 지지구조체(2, 12), 상기 마스크(MA)를 위한 지지구조체(MT) 또는 상기 구조체 둘 모두(2, 12, MT)를 상기 추가 위치 오차 신호에 종속적인 방식으로 위치설정하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
- 리소그래피 장치에서의 지지구조체 제어 방법에 있어서,대상물(W, 18, MA)을 지지하도록 구성되는 지지구조체(2, 12, MT)에 상기 대상물을 제공하는 단계;제 1 측정시스템(19, 49)을 이용하여 제 1 좌표계에서의 상기 대상물의 위치를 측정하는 단계;제 2 좌표계에서의 상기 지지구조체의 위치를 측정하는 단계 -상기 제 1 측정시스템은 상기 제 2 좌표계에서 추정되는 위치를 가짐-;상기 대상물의 측정된 위치를 상기 제 2 좌표계에서의 상기 지지구조체의 전환된 위치로 전환시키는 단계;상기 지지구조체의 측정된 위치, 상기 지지구조체의 전환된 위치, 및 상기 제 2 좌표계에서의 상기 제 1 측정시스템의 실제 위치와 상기 추정된 위치 간의 차 이를 나타내는 위치 오차 신호에 종속적인 방식으로 상기 지지구조체(2, 12, MT)의 제 1 위치설정을 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 제어 방법.
- 제 36 항에 있어서,상기 제 1 위치설정 단계는 추가 대상물(MA) 및 에어리얼 이미지를 포함하는 그룹의 부재에 대한 상기 지지구조체(2, 12, MT)의 상대적인 제 1 위치설정을 포함하는 것을 특징으로 하는 제어 방법.
- 제 37 항에 있어서,상기 제 1 위치설정 단계는 상기 측정된 지지구조체(2, 12, MT)에 대해 또 다른 지지구조체(MT, 2, 12)를 위치설정함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 제어 방법.
- 제 36 항 내지 제 38 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제 1 위치설정 단계는 또한 상기 제 2 좌표계에서의 투영시스템(PS) 이미지 평면의 위치에 종속적인 방식으로 수행되는 것을 특징으로 하는 제어 방법.
- 기계-판독가능 매체(machine-readable medium)에서 구현되는 컴퓨터 프로그램물에 있어서,프로세서에 의해 실행되는 경우 리소그래피 장치에서의 지지구조체 제어 방 법을 수행하기 위한 명령어들로 인코딩되고,상기 방법은:대상물을 지지하도록 구성되는 지지구조체에 상기 대상물을 제공하는 단계;제 1 측정시스템을 이용하여 제 1 좌표계에서의 상기 대상물의 위치를 측정하는 단계;제 2 좌표계에서의 상기 지지구조체의 위치를 측정하는 단계 -상기 제 1 측정시스템은 상기 제 2 좌표계에서 추정되는 위치를 가짐-;상기 대상물의 측정된 위치를 상기 제 2 좌표계에서의 상기 지지구조체의 전환된 위치로 전환시키는 단계;상기 지지구조체의 측정된 위치, 상기 지지구조체의 전환된 위치, 및 상기 제 2 좌표계에서의 상기 제 1 측정시스템의 실제 위치와 상기 추정된 위치 간의 차이를 나타내는 위치 오차 신호에 종속적인 방식으로 상기 지지구조체의 제 1 위치설정을 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 프로그램물.
- 제 40 항에 있어서,상기 제 1 위치설정 단계는 추가 대상물(MA) 및 에어리얼 이미지를 포함하는 그룹의 부재에 대한 상기 지지구조체(2, 12, MT)의 상대적인 제 1 위치설정을 포함하는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 프로그램물.
- 제 40 항 또는 제 41 항에 있어서,상기 명령어들은, 프로세서에 의해 실행되는 경우 상기 제 1 위치설정 단계가 상기 제 2 좌표계에서의 투영시스템의 이미지 평면의 위치에 종속적인 방식으로 수행되도록 인코딩되는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 프로그램물.
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