JP4770133B2 - 素子内蔵基板及びその製造方法 - Google Patents
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Description
スクリーン(可撓性を有するメッシュ状の布)を用いた印刷手法においては、印刷の際には、原則として、スクリーンは基板等の印刷対象面に接触している。しかし、実際には、スクリーンが対向する印刷対象領域の近傍に複数の厚みガイド等の突起物が確実に存在するので、このスクリーンは、突起物の高さ分だけ、印刷対象面から浮き上がり、スクリーンと基板等の印刷対象面との間隔が大きくなる。印刷対象面との間隔が大きくなると、結果的に、スクリーンから印刷対象面に移されるペーストの厚みが厚くなる。
図1(a)は本発明の第1実施形態の素子内蔵基板の概略構成を示す上面図であり、図1(b)は図1(a)に示す素子内蔵基板をA―A線で切断したときの側断面図であり、図1(c)は図1(a)に示す素子内蔵基板をB―B線で切断したときの垂直断面図である。図13に示す従来の素子内蔵基板と同一部分には同一符号を付して、重複する部分の詳細説明を省略する。この素子内蔵基板上には電子素子としての抵抗素子が形成されている。
図2(a)は本発明の第2実施形態の素子内蔵基板の概略構成を示す上面図であり、図2(b)は図2(a)に示す素子内蔵基板をA―A線で切断したときの側断面図であり、図2(c)は図2(a)に示す素子内蔵基板をB―B線で切断したときの垂直断面図である。図1に示す第1実施形態の素子内蔵基板と同一部分には同一符号を付して、重複する部分の詳細説明を省略する。この素子内蔵基板上には電子素子としての抵抗素子が形成されている。
図3(a)は本発明の第3実施形態の素子内蔵基板の概略構成を示す上面図であり、図3(b)は図3(a)に示す素子内蔵基板をB―B線で切断したときの垂直断面図である。図2に示す第2実施形態の素子内蔵基板と同一部分には同一符号を付して、重複する部分の詳細説明を省略する。この素子内蔵基板上には電子素子としての抵抗素子が形成されている。
図4は本発明の第4実施形態の素子内蔵基板の概略構成を示す上面図である。図2に示す第2実施形態の素子内蔵基板と同一部分には同一符号を付して、重複する部分の詳細説明を省略する。この素子内蔵基板上には電子素子としての抵抗素子が形成されている。
図5は本発明の第5実施形態の素子内蔵基板の概略構成を示す上面図である。図1に示す第1実施形態の素子内蔵基板と同一部分には同一符号を付して、重複する部分の詳細説明を省略する。この素子内蔵基板上には電子素子としての抵抗素子が形成されている。
図6(a)は本発明の第6実施形態の素子内蔵基板の概略構成を示す上面図であり、図6(b)は図6(a)に示す素子内蔵基板をA―A線で切断したときの側断面図であり、図6(c)は図6(a)に示す素子内蔵基板をB―B線で切断したときの垂直断面図である。図14に示す従来の素子内蔵基板と同一部分には同一符号を付して、重複する部分の詳細説明を省略する。この素子内蔵基板上には電子素子としてのキャパシタ素子が形成されている。
図7は本発明の第7実施形態の素子内蔵基板の概略構成を示す上面図であり、図6に示す第6実施形態の素子内蔵基板と同一部分には同一符号を付して、重複する部分の詳細説明を省略する。この素子内蔵基板上には電子素子としてのキャパシタ素子が形成されている。
図8は本発明の第8実施形態の素子内蔵基板の概略構成を示す上面図であり、図7に示す第6実施形態の素子内蔵基板と同一部分には同一符号を付して、重複する部分の詳細説明を省略する。この素子内蔵基板上には電子素子としてのキャパシタ素子が形成されている。
図9は本発明の第9実施形態の素子内蔵基板の概略構成を示す垂直断面図であり、図1(c)に示す第1実施形態の素子内蔵基板と同一部分には同一符号を付して、重複する部分の詳細説明を省略する。この素子内蔵基板上には電子素子としての抵抗素子が形成されている。
図10は本発明の第10実施形態の素子内蔵基板の製造方法を示す製造工程図である。この第10実施形態においては、第1図に示す第1実施形態の素子内蔵基板の製造方法を説明する。
図11は本発明の第11実施形態の素子内蔵基板の製造方法を示す製造工程図である。この第11実施形態においては、第4図に示す第4実施形態の素子内蔵基板の製造方法を説明する。
図12は本発明の第12実施形態の素子内蔵基板の製造方法を示す製造工程図である。この第12実施形態においては、第6図に示す第6実施形態の素子内蔵基板の製造方法を説明する。
Claims (6)
- 複数の配線パターン相互間又は配線パターン上に機能ペーストを印刷してなる電子素子を基板上に形成した素子内蔵基板において、
前記基板上における第1の方向について互いに対向する電子素子電極を備え、前記電子素子電極及び前記機能ペーストが印刷される予定の位置を挟み、前記第1の方向と直角に交わる第2の方向について互いに対向する位置に複数の厚みガイドを備え、スクリーン印刷手法を用い、かつスキージを前記複数の厚みガイド上を移動させながら前記機能ペーストが印刷されていることを特徴とする素子内蔵基板。 - 前記厚みガイドは配線パターン又は導電性ペーストパターンで形成されたことを特徴とする請求項1記載の素子内蔵基板。
- 前記機能ペーストは抵抗ペーストであり、前記電子素子は抵抗素子であることを特徴とする請求項1又は2記載の素子内蔵基板。
- 前記機能ペーストは誘電体ペーストであり、前記電子素子はキャパシタ素子であることを特徴とする請求項1又は2記載の素子内蔵基板。
- 前記複数の厚みガイドを前記配線パターンに対して電気的に接続されたパターンとしていることを特徴とする請求項1又は2記載の素子内蔵基板。
- 基板の上面に、複数の配線パターンと、この基板上における第1の方向について互いに対向する電子素子電極と、前記電子素子電極及びこの配線パターン相互間又は配線パターン上における機能ペーストが印刷される予定の位置を挟み、前記第1の方向と直角に交わる第2の方向について互いに対向する位置に複数の厚みガイドとを形成するステップと、
前記形成された配線パターン相互間又は配線パターン上に、スクリーン印刷手法を用い、かつスキージを前記複数の厚みガイド上を移動させながら、前記機能ペーストを印刷するステップと
を備えたことを特徴とする素子内蔵基板の製造方法。
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