JP4742958B2 - 熱電変換素子の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、２電極間の温度差を起電力に変換する熱電変換素子の製造方法に関する。

一般に、熱電変換素子は、半導体の両端に温度差を生じさせることで電気を発生させるゼーベック効果を利用したものとして知られている。このような熱電変換素子の構造は、例えば２枚の電極プレート間に複数の熱電変換材料が接続されたものになっている。

上記熱電変換素子の性能は、熱電変換の性能指数Ｚとして求めることができる。すなわち、熱電変換の性能指数Ｚは、Ｚ＝Ｓ^２σ／κで表される。Ｓは熱電変換材料のゼーベック係数、σは熱電変換材料の電気伝導率、κは熱電変換材料の熱伝導率である。また、ゼーベック係数Ｓは近似的に、Ｓ＝π^２ｋ_Ｂ ^２Ｔ［∂Ｄ（ε）／∂ε］／３ｅＤ（ε_Ｆ）で表される。ｋ_Ｂはボルツマン定数、Ｄ（ε）は熱電変換材料の状態密度、ｅは素電荷である。εはエネルギーであり、ε_Ｆはフェルミエネルギーである。

上記ゼーベック係数Ｓは、フェルミエネルギー近傍の状態密度の変化（∂Ｄ（ε＝ε_Ｆ）／∂ε）が急峻であるほど大きな値となる。また、ゼーベック係数Ｓの値が大きいほど、熱電変換の性能指数Ｚの値も大きくなる。一方、熱電変換材料をナノスケールのワイヤ形状にすることで状態密度に量子効果を発現させ、急峻な状態密度を実現できることが知られている。これにより、ゼーベック係数Ｓ、ひいては熱電変換の性能指数Ｚを高めることができると考えられる。

そこで、量子効果を発現させるため、ナノスケールのワイヤであるナノワイヤを作製する試みが発表されている（例えば、非特許文献１参照）。図６は、従来のナノワイヤ作製の様子を示した図である。

まず、図示しない加圧槽にヒータＪ１が備えられた炉Ｊ２を用意し、この炉Ｊ２の中に液状Ｂｉ（ビスマス）の熱電材料Ｊ３を入れる。そして、ナノサイズ（４〜１５ｎｍ）の孔が形成された厚さ数十μｍの陽極酸化アルミナ層Ｊ４が設置された基板Ｊ５を、陽極酸化アルミナ層Ｊ４が炉Ｊ２側に向くように炉Ｊ２に設置する。

この後、ヒータＪ１で炉Ｊ２を加熱して炉Ｊ２内に熱電材料Ｊ３の蒸気を発生させると共に、陽極酸化アルミナ層Ｊ４の下部（炉Ｊ２側；温度Ｔ１）と上部（基板Ｊ５側；温度Ｔ２）とに温度差を生じさせ、下部が高温となる条件（Ｔ１＞Ｔ２）で順次、温度を低下させる。これにより、熱電材料Ｊ３の蒸気が陽極酸化アルミナ層Ｊ４の孔から基板Ｊ５側に向けて順次、凝縮・析出し、Ｂｉのナノワイヤが陽極酸化アルミナ層Ｊ４の孔の中に形成される。
Joseph P. Heremans、"Thermoelectric power, electrical and thermal resistance, and magnetoresistance of nanowire composites." Mat. Res. Soc. Symp. Pros.、Vol. 793、S1.1.1-S1.1.12

しかしながら、上記従来の技術では、陽極酸化アルミナ層Ｊ４に形成された孔のサイズがナノサイズであるので、蒸発したＢｉがこの孔に進入しない可能性がある。このため、陽極酸化アルミナ層Ｊ４に形成された多数の孔のうち、陽極酸化アルミナ層Ｊ４を貫通するナノワイヤが形成される数が極めて少なく、歩留まりが低下してしまう。

なお、各ワイヤの両端に電極を設置して熱電変換素子を形成しても、ワイヤの数が少ないため、両電極間の抵抗が高くなってしまう。

また、上記陽極酸化アルミナ層Ｊ４の厚みは数十μｍであるため、形成されるワイヤの長さも数十μｍとなる。このため、ナノワイヤの両端に設置される２電極間の温度差が得られず、熱電変換素子として電気を発生させられない可能性がある。さらに、ナノワイヤの母材となる陽極酸化アルミナ層Ｊ４の熱伝導率が良いため、熱の大部分は熱電変換能力を持たない陽極酸化アルミナ層Ｊ４を通過してしまい、熱損失を生じさせて熱電変換素子の性能を下げてしまう。

なお、Ｓｉ基板上にＡｌとＳｉ（あるいはＧｅ）の混合膜をスパッタ成膜し、Ａｌナノ柱を形成した後、濃硫酸でＡｌナノ柱をエッチングして多孔体を形成し、電着にて多孔体にＢｉ_２Ｔｅ_３を充填する方法が報告されている（特開２００４−１９３５２６号公報）。しかしながら、この電着によってワイヤを形成する方法においても、上記と同様に、歩留まり良くワイヤを形成できない、薄膜の母材（混合膜）でしかワイヤを形成できない、そして母材の熱伝導率が高い、という問題がある。

本発明は、上記点に鑑み、ナノサイズのワイヤを確実に形成してなる熱電変換素子の製造方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成するため、本発明の特徴では、多数の貫通孔（２２）が形成されてなるガラスの母材（２１）を用意し（図２（ａ））、多数の貫通孔に熱電変換材を充填する（図２（ｂ））。そして、母材が軟化する温度以上、かつ、熱電変換材の融点以上の温度に母材を加熱した後、母材を貫通孔の軸方向に引き伸ばすことで、母材の中にナノワイヤ（１０）を形成する（図２（ｃ）、（ｄ））。この後、引き伸ばした母材をチップ（２３）状に切断する（図２（ｅ））。

このようにすれば、ガラスの母材に設けられた多数の貫通孔の中に熱電変換材を充填して引き伸ばしているので、母材の中に確実にワイヤを形成することができる。さらに、母材を引き伸ばすだけで自発的にナノワイヤを形成することができるため、ナノワイヤを歩留まり良く、確実に形成することができる。そして、引き伸ばす母材の長さを制御することで、ナノワイヤの径を制御することができる。

また、母材として熱伝導率が低いガラス（約１Ｗ／ｍＫ）を用いているため、母材を通した熱損失による性能低下を抑制することができる。さらに、引き伸ばした母材をチップにする際、切断する長さを自由に決めることができるので、例えばｍｍオーダの長さのチップを容易に形成することができる。

上記のようにして母材の中にナノワイヤを形成する際、母材のうち貫通孔から熱電変換材が露出する面とその面とは反対側の面にそれぞれ固定部材（５１、５２）を固定し、固定部材に引っ張り部材（６１、６２）を固定する。そして、母材が軟化する温度以上、かつ、熱電変換材の融点以上に母材を加熱した後、引っ張り部材を移動させて母材を引き伸ばす。

このようにして、母材を引き伸ばすことで、固定部材が変形することで母材において熱電変換材を含有した部位を直線状に引き伸ばすことができる。また、母材のうち熱電変換材が充填された貫通孔を固定部材で密封しているので、母材を加熱したときに熱電変換材の蒸散を防止することができる。

また、固定部材を固定する際、固定部材として、母材と同一材質のものを用いることが好ましい。

このようにすれば、母材を引き伸ばす際、母材および固定部材は同じ熱膨張率で伸びるので、固定部材のみ引き伸ばされることを防止でき、母材を確実に引き伸ばすことができる。

そして、母材をチップ状に切断した後、チップにおいてナノワイヤの端面が露出する両端面に電極（３１、３２）を形成することができる。

このように、チップに電極を形成することで、この熱電変換素子を例えば半導体素子に容易に接続することができるようになる。

また、上記電極を形成した後、チップを熱電変換材の溶融温度以上、かつ、母材が軟化する温度以下まで加熱してその後徐冷する。

このようにして、チップをアニール処理することにより、母材中の熱電変換材の結晶性を向上させることができ、ひいては熱電変換素子の特性を高めることができる。

さらに、母材を引き伸ばした後、母材を貫通孔の軸方向に対して垂直に切断した断面が四角形状となるように、引き伸ばした後の母材の側面に成型部材（９１〜９４）を押し当てて成型することもできる。

このようにして、チップの断面が四角形状のものを形成することができる。このような成型によって、チップを横方向に多数並べてモジュールを作成する場合、断面が円形のチップよりも四角形のものの方がチップを高密度に配置することができ、熱電変換素子のモジュールとしての単位面積当たりのパワーを向上させることができる。

また、チップにおいてナノワイヤの端面が露出する両端面を溶解させるエッチング処理を行うこともできる。

これにより、チップの両端部からナノワイヤを露出させることができるので、このようにナノワイヤの端部が露出したチップに電極を形成すると、電極とナノワイヤとを確実に電気的に接続することができる。

さらに、加圧槽（４０）内に加熱槽（４１）を設置し、雰囲気圧力を大気圧から低下させた状態で加熱槽の中で熱電変換材を溶融させて融液（４３）を用意する。続いて、多数の貫通孔が形成された母材を、多数の貫通孔が融液に覆われるように融液中に浸す。この後、加圧槽内を大気圧に戻すと共に、当該加圧槽内に不活性ガスを導入して加圧槽内を加圧状態とし、母材に形成された多数の貫通孔の中に融液を充填する。

このような方法により、圧力によって融液を孔の中に押し込むことができる。このようにして、母材に形成された多数の孔の中に熱電変換材を充填することができる。

なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。

以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、図中、同一符号を付してある。

（第１実施形態）
以下、本発明の第１実施形態について図を参照して説明する。本実施形態で示される熱電変換素子は、２電極間に温度差を生じさせることで電気を発生させるゼーベック効果を利用した素子として用いられるものである。

図１は、本発明の第１実施形態に係る熱電変換素子の概略斜視図である。図１に示されるように、熱電変換素子Ｓ１は、ナノワイヤ１０と、ガラス部材２０と、電極３１、３２と、を備えて構成されている。

ナノワイヤ１０は、各電極３１、３２を電気的に接続する配線であり、熱電変換材として例えばＢｉ（ビスマス）を含む金属で構成される。本実施形態では、熱電変換材としてＢｉにＴｅ（テルル）を数％ドープした合金が用いられている。このようにＢｉにキャリアとして機能するＴｅをドープすることにより、ナノワイヤ１０の熱電変換特性を調整することができる。このようなナノワイヤ１０の径は例えば１０ｎｍになっており、長さは１ｍｍである。

なお、Ｂｉを含む金属とは、上記のようにＢｉを含有した合金を指すだけでなく、Ｂｉ単体で構成される金属も指す。また、以下でＢｉというときには、ＢｉにＴｅがドープされたものを指す。

ガラス部材２０は、熱電変換素子Ｓ１の外形をなすものであり、多数のナノワイヤ１０を内部に固定するものである。このようなガラス部材２０は円柱形状になっており、ガラスで構成されている。また、ガラス部材２０の熱伝導率は約１Ｗ／ｍＫであり、ガラス部材２０の径は例えば１ｍｍである。上記ガラス部材２０のうちナノワイヤ１０の軸方向の断面において、ガラス部材２０とナノワイヤ１０との断面積比は例えば３０％になっている。

電極３１、３２は、ナノワイヤ１０の両端に電気的に接続されるものである。本実施形態では、各電極３１、３２はイオンプレーティングの方法によりガラス部材２０の両端面、すなわちナノワイヤ１０の両端に形成される。このような電極３１、３２として、例えばＣｕ（銅）、Ａｕ（金）、Ａｌ（アルミニウム）等が採用される。以上が、熱電変換素子Ｓ１の構成である。

次に、図１に示される熱電変換素子Ｓ１の製造工程を、図を参照して説明する。図２は、図１に示される熱電変換素子Ｓ１の製造工程を示した図である。また、図３は、図２に続く製造工程を示した図である。

図２（ａ）に示す工程では、ガラステンプレート２１を用意する。このガラステンプレート２１は、図２（ａ）に示されるように、φ１μｍの貫通孔２２を多数有するφ１００ｍｍ、厚さ１ｍｍのサイズのものである。

このようなガラステンプレート２１は、以下のようにして形成することができる。すなわち、酸に不溶と可溶の二重構造ガラス棒を加熱して引き伸ばし、これを横方向に並べて更に引き伸ばす。そして、引き伸ばしたものを引き伸ばした方向に対して垂直に切断し、切断後に酸で可溶ガラスを溶解する。このようにして、ミクロンサイズの貫通孔２２が多数設けられたガラステンプレート２１を形成することができる。

なお、ガラステンプレート２１は本発明の母材に相当する。また、図２（ａ）では、ガラステンプレート２１の貫通孔２２を表現するため、ガラステンプレート２１の一部をカットしたものを描いてあるが、実際にはカットされていない。

図２（ｂ）に示す工程では、ガラステンプレート２１の各貫通孔２２内部に熱電変換材であるＢｉを充填する。まず、加圧槽４０中に設置された加熱槽４１中にＢｉの塊を設置し、このＢｉの塊の上にガラステンプレート２１を設置する。次に、真空ポンプ４２により加圧槽４０の内部を真空排気しながら、加熱槽４１をＢｉの融点（２７１．４℃）以上（例えば３００℃まで）に加熱し、Ｂｉの塊を溶融させたＢｉ融液４３中にガラステンプレート２１を浸漬する。

この後、真空排気バルブ４４を閉じて加圧ポンプバルブ４５を開け、加圧ポンプ４６によって加圧槽４０の内部にＡｒ（アルゴン）等の不活性ガスを数百気圧まで加圧・導入することで貫通孔２２中にＢｉを充填する。そして、加熱槽４１の温度を室温まで下げた後、Ｂｉの塊からガラステンプレート２１を切り出す。こうして、ガラステンプレート２１の貫通孔２２内にＢｉを充填したものを得る。

図２（ｃ）に示す工程では、各貫通孔２２にＢｉを充填したガラステンプレート２１を加圧槽４０から取り出し、図示しない引張機に取り付ける。具体的には、まず、Ｂｉを充填したガラステンプレート２１の両端面にダミーガラス５１、５２を接着剤等で貼り付ける。さらに、各ダミーガラス５１、５２を引張機の各ワーク６１、６２に接着剤等により貼り付ける。

このダミーガラス５１、５２は、自分自身が変形することでガラステンプレート２１の端面近傍を直線状に引き伸ばす役割を果たすものであり、ガラステンプレート２１と同じ材質のガラス材が用いられる。また、ワーク６１、６２とダミーガラス５１、５２との接続部でダミーガラス５１、５２が変形することによって、ダミーガラス５１、５２は、ガラステンプレート２１の各貫通孔２２内の充填物の流出を防止する機能、各貫通孔２２の内圧を維持することで貫通孔２２の閉塞を維持する機能、充填物の蒸散防止の機能を果たす。

これら各機能のうち、蒸散防止機能について説明すると、Ｂｉの蒸気圧は、１０２１℃で１３３Ｐａ、１１３６℃で１３３０Ｐａであり、６００℃ではそれほど高くないが、Ｔｅは６００℃で７５８Ｐａの蒸気圧を有することから、加熱によりドープ濃度が変化しないように上記のようにしてダミーガラス５１、５２にて各貫通孔２２を封止することが必要となる。

そして、Ｂｉが溶融し、かつ、ガラステンプレート２１が流動化する温度以上（例えば約６００℃）にガラステンプレート２１を加熱すると共に、ダミーガラス５１、５２を引き離させるように少なくとも一方のワーク６１、６２を移動させてガラステンプレート２１を貫通孔２２の軸方向に引き伸ばす。なお、ダミーガラス５１、５２は本発明の固定部材に相当し、ワーク６１、６２は本発明の引っ張り部材に相当する。

図２（ｄ）に示す工程では、ガラステンプレート２１を引き伸ばす。具体的には、ガラステンプレート２１をＢｉが溶融し、ガラスが軟化する温度（例えば６００℃）に加熱した状態で、引張機の各ワーク６１、６２を引き離させるように少なくとも一方のワーク６１、６２を移動させてガラステンプレート２１を引き伸ばす。

このようにしてガラステンプレート２１を引き伸ばすと、ガラステンプレート２１の両面に貼り付けられたダミーガラス５１、５２において、ガラステンプレート２１に接着された面がガラステンプレート２１と共に引き伸ばされて変形する。これにより、ガラステンプレート２１の端面付近の貫通孔２２を直線的に引き伸ばすことができる。

上述のように、ガラステンプレート２１の貫通孔２２のサイズは１μｍであるので、この貫通孔２２のサイズを例えば１０ｎｍにするためには、ガラステンプレート２１の径が１ｍｍになるまでガラステンプレート２１を引き伸ばすこととなる。こうしてガラステンプレート２１を引き伸ばすと、ガラステンプレート２１の長さは１ｍになる。この状態になると、ガラステンプレート２１は円柱状になり、その内部には、多数のナノワイヤ１０が形成された状態になる。

図２（ｅ）に示す工程では、上記のようにして引き伸ばされたガラステンプレート２１をチップ状に切断する。すなわち、引き伸ばされたガラステンプレート２１をナノワイヤ１０の軸方向に所望の長さ（例えば１ｍｍ）ごとに切断してナノワイヤアレイチップ２３を形成する。

この後、図３（ａ）に示す工程では、ナノワイヤアレイチップ２３の両端面に電極３１、３２を形成する。本実施形態では、イオンプレーティング装置７１を用いて各チップ２３の両端面に電極３１、３２となる金属膜を形成する。

まず、イオンプレーティング装置７１について説明する。このイオンプレーティング装置７１は、図３（ａ）に示されるように、チャンバ７２内に金属ターゲット７３や高周波放電用コイル７４が設置されたものとして構成されている。チャンバ７２内は、真空ポンプ７５によりチャンバ７２内のガスが吸引され、真空バルブ７６によって真空状態が維持される。また、ナノワイヤアレイチップ２３は、当該チップ２３の径と同じ径の穴が設けられた固定プレート７７にはめ込まれて固定された状態になっている。

本実施形態では、金属ターゲット７３として、電極３１、３２の原料となるＣｕ、Ａｕ、Ａｌ等を採用する。

このようなイオンプレーティング装置７１では、真空ポンプ７５にてチャンバ７２内を真空状態とし、図示しない電子銃から放出した電子線を金属ターゲット７３に照射することで金属ターゲット７３を蒸気化する。そして、高周波放電用コイル７４にてチャンバ７２内にプラズマを発生させることで、蒸気化した金属材料をイオン化する。固定プレート７７にバイアスを印加することにより、イオン化した金属ターゲット７３を固定プレート７７側に加速させて金属ターゲット７３に対向するチップ２３の端面に金属膜を堆積（蒸着）する。同様に、チップ２３の反対側の端面にも金属膜を形成する。このようにして、電極３１、３２を形成する。

このような方法によると、イオン化した金属ターゲット７３をエネルギーの高い状態でチップ２３の端面に付着させることができるため、金属膜とチップ２３の端面との高い密着性を得ることができる。

また、ナノワイヤアレイチップ２３の両端面に金属膜である電極３１、３２を形成することにより、チップ２３内のナノワイヤ１０が各電極３１、３２によって密閉された状態となる。すなわち、電極３１、３２は、図３（ｂ）に示す工程におけるナノワイヤの蒸散防止機能も果たす。

図３（ｂ）に示す工程では、ナノワイヤ１０の結晶性を向上させる加熱／徐冷処理を行う。すなわち、図２（ｄ）に示される工程では、Ｂｉの溶融温度以上、かつ、ガラステンプレート２１の軟化温度以上（ガラステンプレート２１が流動化する温度以上）でガラステンプレート２１を加熱しているため、重力によって変形等が起こりやすくなっている。したがって、図２（ｄ）に示す工程では、ガラステンプレート２１の加熱後、素早くガラステンプレート２１を引き伸ばしたことによって、ナノワイヤ１０がアモルファス状態になっている可能性がある。そこで、本工程により、チップ２３を加熱して徐冷することにより、ナノワイヤ１０の結晶性を向上させる。

具体的には、図３（ｂ）に示されるように、加熱／徐冷装置８１を用意する。この加熱／徐冷装置８１は、ヒータ８２を備え、このヒータ８２によって各チップ２３を加熱できるようになっている。すなわち、電極３１、３２を形成したナノワイヤアレイチップ２３を加熱／徐冷装置８１内に設置する。そして、Ｂｉの溶融温度以上、かつ、ガラス軟化温度以下（例えば３００℃〜４３０℃）まで一旦加熱した後、例えば約２４時間かけて室温まで徐冷する。これにより、ナノワイヤ１０の結晶性を向上させることができる。以上により、図１に示される熱電変換素子Ｓ１が完成する。

続いて、上記のようにして得られた熱電変換素子Ｓ１の熱電材料としての性能について説明する。上述のように、熱電変換材料の性能は、無次元性能指数ＺＴで評価される。ここで、Ｔは絶対温度（Ｋ）、ＺはＳ^２σ／κとして表され、Ｓはゼーベック係数（Ｖ／Ｋ）、σは電気伝導率（／Ωｍ）、そしてκは熱伝導率（Ｗ/ｍＫ）である。

ナノワイヤ１０のゼーベック係数Ｓは、その径がナノサイズであることからバルク材料に比べて極めて高い値となり、φ１０ｎｍのものでバルク材料のものと比較して１０倍以上のゼーベック係数が得られ、具体的にゼーベック係数として約７００μＶ／Ｋ（バルクは約５０μＶ／Ｋ）が得られる。

一方、Ｂｉの熱伝導率は７．８７Ｗ／ｍＫ（室温付近）、ガラスの熱伝導率は約１Ｗ／ｍＫであり、上述のように断面積比３０％の場合を考えると、ナノワイヤアレイチップ２３の全体的な熱伝導率κは約３．１Ｗ／ｍＫである。また、Ｂｉの電気伝導率は０．８４×１０^６／Ωｍ（１８℃）であるが、ガラスは絶縁体であり、断面積比３０％の場合を考えると、ナノワイヤアレイチップ２３の電気伝導率は０．２５×１０^６／Ωｍである。これにより、Ｚは約０．０４、３００Ｋにおける無次元性能指数ＺＴは１２となり、通常、１程度のＺＴしか得られないバルク熱電材料より高い値を得ることができる。

以上説明したように、本実施形態では、ガラステンプレート２１の貫通孔２２に熱電変換材であるＢｉ；Ｔｅを充填し、このガラステンプレート２１を加熱して引き伸ばすことにより、ガラステンプレート２１内にナノワイヤ１０を形成することが特徴となっている。

したがって、ガラステンプレート２１に設けられたミクロンサイズの多数の貫通孔２２の中にＢｉを充填して引き伸ばしているので、ガラステンプレート２１の中に確実にナノサイズのワイヤを形成することができる。さらに、ガラステンプレート２１を引き伸ばすだけで自発的にナノワイヤ１０を形成することができるため、ナノワイヤ１０を歩留まり良く、そして確実に形成することができる。このようにしてナノワイヤ１０を形成する際、引き伸ばすガラステンプレート２１の長さを制御することで、ナノワイヤ１０の径を制御することもできる。

また、ガラステンプレート２１がガラスであるので、形成されたチップ２３のガラス部材２０の熱伝導率が低く（約１Ｗ／ｍＫ）、ガラス部材２０を通した熱損失による性能低下を抑制することができる。さらに、引き伸ばしたガラステンプレート２１を切断する長さを自由に設定できるので、例えばｍｍオーダの長さのチップ２３を容易に形成することができる。すなわち、電極３１、３２間の距離を大きくすることができ、温度差を大きくすることができるので、熱電変換特性を向上できる。

なお、上記のように、引き伸ばしてナノワイヤ１０を形成する方法であるので、製造プロセスも簡便であり、低コストな熱電変換素子Ｓ１を提供することができる。

（第２実施形態）
本実施形態では、第１実施形態と異なる部分についてのみ説明する。本実施形態では、図２（ｄ）に示す工程の後、引き伸ばされた円柱状のガラステンプレート２１を直方形状に整えることが特徴となっている。

図４は、本発明の第２実施形態に係る熱電変換素子Ｓ１の製造工程を示した図である。この図は、図２（ｄ）の工程において引き伸ばしたガラステンプレート２１を、貫通孔２２の軸に対して垂直な断面を示している。さらに、図４（ａ）は変形前のガラステンプレート２１の断面図、図４（ｂ）は変形後のガラステンプレート２１の断面図である。

すなわち、図２（ｄ）の工程を終えた後、図４（ａ）に示される工程では、四角形状の各辺に対応した４つの金型９１〜９４（本発明の成型部材に相当）を用意し、それぞれをガラステンプレート２１の側面に配置する。

そして、図４（ｂ）に示す工程は、各金型９１〜９４をそれぞれ対向する側にそれぞれ移動させて各金型９１〜９４をガラステンプレート２１の側面に押し当てる。これにより、ガラステンプレート２１の断面が四角形状となるようにガラステンプレート２１を成型することができる。

この後、図２（ｅ）に示す工程以降の工程を行うことにより、断面が四角形状のナノワイヤアレイチップ２３を形成することができる。

このようにして、断面を四角形状としたナノワイヤアレイチップ２３を製造することにより、ナノワイヤアレイチップ２３を横方向に多数並べてモジュールを作成する場合、断面が円形のチップ２３よりも四角形のものの方が、チップ２３を高密度に配置することができる。これにより、熱電変換素子Ｓ１を多数用いたモジュールとして得られる単位面積当たりのパワーを、断面が円形のものよりも大きくすることができる。

以上のように、引き伸ばしたガラステンプレート２１の外形を金型９１〜９４にて押し込んで、断面が四角形状のナノワイヤアレイチップ２３を製造することもできる。

（第３実施形態）
本実施形態では、上記各実施形態と異なる部分についてのみ説明する。本実施形態では、図２（ｅ）に示す工程の後、ナノワイヤ１０の両端をガラス部材２０から露出させることが特徴となっている。

図５は、本発明の第３実施形態に係る熱電変換素子Ｓ１の製造工程を示した図である。本実施形態では、図２（ｅ）に示す工程を終えた後、各チップ２３に対してエッチング処理を施す。具体的には、各チップ２３を緩衝フッ酸中に浸漬する。これにより、ガラス部材２０であるガラスをわずかにエッチングし、ガラス部材２０から突き出したナノワイヤ１０を有するナノワイヤアレイチップ２３を形成する。

このようにして、ガラス部材２０からナノワイヤ１０の両端１０ａ、１０ｂを露出させた後、ナノワイヤ１０の両端１０ａ、１０ｂが露出したガラス部材２０の両端面に各電極３１、３２を形成する（図３（ａ）参照）。これにより、各電極３１、３２とナノワイヤ１０の両端１０ａ、１０ｂとの電気的接続特性をより高めることができる。

（他の実施形態）
上記各実施形態において、熱電変換素子Ｓ１に用いられる材質やサイズは、用いられる状況に合わせて変更しても構わない。同様に、ガラステンプレート２１のサイズやガラス部材２０中のナノワイヤ１０の含有量等については、上記各実施形態に限定されるものではない。

上記実施形態では、電極３１、３２を形成する方法として、イオンプレーティング装置７１を用いた方法が採用されているが、この方法に限らず、スパッタや蒸着の方法を採用しても構わない。

また、ダミーガラス５１、５２として、ガラステンプレート２１と同じ材質のものを用いているが、他の材料で固定しても構わない。しかしながら、熱膨張率の異なる２つのものを引き伸ばしたとき、ガラステンプレート２１側にストレス等が生じる場合が考えられるため、ダミーガラス５１、５２としてガラステンプレート２１と同じ素材のものを採用することが好ましい。

本発明の第１実施形態に係る熱電変換素子の概略斜視図である。 図１に係る熱電変換素子の製造工程を示した図である。 図２に続く製造工程を示した図である。 本発明の第２実施形態に係る熱電変換素子の製造工程を示した図である。 本発明の第３実施形態に係る熱電変換素子の製造工程を示した図である。 従来のナノワイヤ作製の様子を示した図である。

符号の説明

１０…ナノワイヤ、２０…ガラス部材、２１…母材としてのガラステンプレート、２２…貫通孔、２３…ナノワイヤアレイチップ、３１、３２…電極、４０…加圧槽、４１…加熱槽、４３…Ｂｉ融液、５１、５２…固定部材としてのダミーガラス、６１、６２…引っ張り部材としてのワーク、９１〜９４…成型部材としての金型。

Claims (9)

1. ガラスで構成されると共に、多数の貫通孔（２２）が形成されてなる母材（２１）を用意する工程と、
   前記多数の貫通孔に熱電変換材を充填する工程と、
   前記母材が軟化する温度以上、かつ、前記熱電変換材の融点以上に前記母材を加熱すると共に、前記母材を前記貫通孔の軸方向に引き伸ばすことで、前記母材の中にナノワイヤ（１０）を形成する工程と、
   前記引き伸ばした母材を、前記貫通孔の軸方向に対して垂直方向に切断してチップ（２３）を形成する工程と、を含むことを特徴とする熱電変換素子の製造方法。
2. 前記母材の中に前記ナノワイヤを形成する工程では、
   前記母材において、前記貫通孔から前記熱電変換材が露出する面とその面とは反対側の面に、それぞれ固定部材（５１、５２）を固定する工程と、
   前記固定部材において前記母材が固定された面とは反対の面にそれぞれ引っ張り部材（６１、６２）を固定する工程と、
   前記母材が軟化する温度以上、かつ、前記熱電変換材の融点以上に前記母材を加熱すると共に、前記引っ張り部材を引き離させるように少なくとも一方の前記引っ張り部材を移動させて前記母材を引き伸ばす工程と、を含んでいることを特徴とする請求項１に記載の熱電変換素子の製造方法。
3. 前記固定部材を固定する工程では、前記固定部材として、前記母材と同一材質のものを用いることを特徴とする請求項２に記載の熱電変換素子の製造方法。
4. 前記チップを形成する工程では、前記母材を切断した後、前記チップにおいて前記ナノワイヤの端面が露出する両端面に電極（３１、３２）を形成する工程を含んでいることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１つに記載の熱電変換素子の製造方法。
5. 前記チップを形成する工程では、前記電極を形成した後、前記チップを、前記熱電変換材の溶融温度以上、かつ、前記母材が軟化する温度以下まで加熱し、その後徐冷することを特徴とする請求項４に記載の熱電変換素子の製造方法。
6. 前記母材の中に前記ナノワイヤを形成する工程では、前記母材を前記貫通孔の軸方向に引き伸ばした後、前記母材を前記貫通孔の軸方向に対して垂直に切断した断面が四角形状となるように、前記引き伸ばした母材の側面に成型部材（９１〜９４）を押し当てて成型することを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１つに記載の熱電変換素子の製造方法。
7. 前記チップを形成する工程では、前記チップにおいて前記ナノワイヤの端面が露出する両端面を溶解させるエッチング処理を行う工程を含んでいることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１つに記載の熱電変換素子の製造方法。
8. 前記多数の貫通孔に熱電変換材を充填する工程では、
   加圧槽（４０）内に加熱槽（４１）を設置し、雰囲気圧力を大気圧から低下させた状態で前記加熱槽の中で前記熱電変換材を溶融させて融液（４３）を用意する工程と、
   前記多数の貫通孔が形成された前記母材を、前記多数の貫通孔が前記融液に覆われるように前記融液中に浸す工程と、
   前記加圧槽内を大気圧に戻すと共に、当該加圧槽内に不活性ガスを導入して前記加圧槽内を加圧状態とし、前記母材に形成された前記多数の貫通孔の中に前記融液を充填する工程と、を含んでいることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１つに記載の熱電変換素子の製造方法。
9. 前記多数の貫通孔に前記熱電変換材を充填する工程では、前記熱電変換材としてＢｉを含む金属を用いることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１つに記載の熱電変換素子の製造方法。

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