JP4741901B2 - リン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物、および、その製造方法 - Google Patents

リン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物、および、その製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、プリント回路基板および半導体封止用などに好ましく用いられる、新規なリン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物に関する。
3C産業の急速な発展により、高周波数および高スピード動作に耐えられ、さらに多方面にわたる多機能を有している電子材料が要求されている。プリント回路基板は、電子製品に必要とされる高い信頼性を維持すると同時に、より薄い配線や絶縁層の採用によってこの傾向を反映する。従って、用いられる絶縁層は、低誘電率、低損失係数、高ガラス転移温度、ならびに優れた高温安定性および難燃性を有していなければならない。
より薄い電子装置や高密度ICsを製造する傾向とともに、ボールグリッドアレイ(BGA)パッケージ技術は発展している。BGAパッケージ用積層ボードは、プリント回路基板によって要求される基本特性に加えて、下記特性を有していなければならない、すなわち、(1)優れた高温安定性、(2)耐湿性、(3)高接合強度、(4)はんだ熱抵抗、(5)難燃性、および(6)低誘電率、である。
P.W.コップおよびE.R.ワーグナーは、1973年に、フェノール樹脂の合成における中間体中にベンゾオキサジンを発見し、同年に、H.シュライバーサイトは、ベンゾオキサジンが、加熱中の自己硬化によって硬くて脆い物質を形成できることを見出した(特許文献1および特許文献2)。その後、特許文献3〜特許文献13など、ベンゾオキサジンに関する多くの特許が公開され、二つの機能および多官能性を有するベンゾオキサジンが合成された。ベンゾオキサジン環含有化合物は、低温で安定であり、優れた機械特性、高転移温度、高弾性率、低吸湿性、低熱膨脹率、高寸法安定度、および優れた電気絶縁性を有する。さらに、それは、副生物の生成がなく促進剤がなくとも自己重合することができる。これらの特性を考慮すると、ベンゾオキサジンは、高性能電子材料に好適に用いられ、コーティング、電気絶縁積層板、および半導体用封止剤などに用いられている。
難燃性は、保障された生活の安全性のために必要不可欠である。難燃性を向上させるために、ハロゲン含有化合物または樹脂が耐燃剤として電子材料中に添加される。テトラブロモビスフェノールAは、エポキシ樹脂の難燃剤として用いられる芳香族ブロム化合物の従来例である。難燃性プリント回路基板(FR−4)の製造には、ガラス繊維に含浸させて加熱して硬化させるなどして、半硬化させたエポキシ樹脂が用いられる。さらに、半硬化させたエポキシ樹脂はマイクロエレクトロニクス素子を封止するために使われ、このとき難燃性を有する封止剤が形成されるように半硬化させたエポキシ樹脂は硬化剤とともに高温で硬化される。半硬化状態のエポキシ樹脂を含有するテトラブロモビスフェノールAは難燃性を示すが、この化合物(system)が有する主要な問題としてダイオキシンとベンゾフランを燃焼させる際に有毒で腐食性の煙霧が生成することである。近年、半導体素子はICsの製造においてIC基板に直接はんだづけされ、このとき、半導体素子とIC基板は短時間、高温(260℃、30秒)に曝される。さらに、車のエンジン付近や夏期などの環境において、高温での計算および制御操作は不可避である。そのため、プリント回路基板および半導体封止剤の製造のため、高温でより安定な電子材料の開発が依然として求められている。
ベンゾオキサジン樹脂は、従来の熱硬化性樹脂よりも多くのアリール基および窒素原子を含むジヒドロベンゾオキサジン化合物の特性を有し、ジヒドロベンゾオキサジン化合物は他の熱硬化性樹脂よりも高い難燃性を有するベンゾオキサジン樹脂を合成するが、それ自身によってUL−94規格の難燃性V−0を備えることはできていない。
一般的なハロゲン含有エポキシ樹脂またはエポキシ樹脂以外の樹脂は、難燃性を向上させるためにベンゾオキサジン樹脂と混合され得るが、ベンゾオキサジン樹脂の最も優れる特性は、しばしば逆の影響を受ける。
米国特許第2,255,504号明細書 米国特許第2,323,936号明細書 米国特許第4,501,864号明細書 米国特許第4,557,979号明細書 米国特許第5,543,516号明細書 特開2001−106813号公報 特開2001−22045号公報 特開2001−240836号公報 特開2001−31095号公報 特開2002−145974号公報 特開2002−167425号公報 特開2003−12894号公報 特開2003−246844号公報
本発明は、上記実情を鑑みてなされたものであり、難燃性、熱安定性、耐熱性、およびガラス転移温度などに優れるリン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物を提供することを目的とする。
本発明は、化学式G −Hからなるリン含有化合物と、下記化学式(A)、(B)、または(C)からなるベンゾオキサジン樹脂と、を反応させる工程を有する、リン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物の製造方法に関する。
Figure 0004741901
(前記化学式(A)〜(C)において、
前記 は、
Figure 0004741901
あり、この際、Arは
Figure 0004741901
であり、ここでrは、C1〜C6のアルキル基、またはアリール基であり、nは0〜5の整数であり、
前記Xは、
Figure 0004741901
であり、
前記Rは、
Figure 0004741901
(前記式中、Arは上記と同様である)であり、
前記Yは、
Figure 0004741901
(前記式中、Xは前記Xと同様である)である。)
本発明はまた、上記化学式G −Hからなるリン含有化合物と、上記化学式(A)、(B)、または(C)からなるベンゾオキサジン樹脂と、を反応させてなる、リン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物に関する。
本発明では、ベンゾオキサジン樹脂の開環剤(ring-opening reagent)としての役割を有するリン含有化合物により、ベンゾオキサジン樹脂の優れた特性を損なうことなく、高い難燃性を有するベンゾオキサジン樹脂硬化物を提供できる。前記開環剤は、短時間かつ低温でベンゾオキサジン樹脂を硬化させることができる。
前記ベンゾオキサジン樹脂硬化物は、熱安定性、耐熱性、ガラス転移温度、および保存安定性に優れ、環境問題がなく、プリント回路基板および半導体封止剤の製造に好ましく用いられる。前記ベンゾオキシ樹脂硬化物は、ベンゾオキシ樹脂をリン含有開環剤と反応させることによって製造され、窒素原子およびリン原子の相乗効果により1%未満のリン含有量でUL−94規格の難燃性V−0が得られる。
前記リン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物は、好ましくは、下記化学式(I)、(II)、および(III)で示される繰り返し単位のうち少なくとも一つの繰り返し単位を1以上有する。
Figure 0004741901
Figure 0004741901
Figure 0004741901
前記化学式(I)〜(III)において、Gは下記に示すGまたはGが挙げられる。
Figure 0004741901
前記式中、Arは、
Figure 0004741901
であり、rは、C1〜C6のアルキル基、またはアリール基であり、nは0〜5の整数である。
前記化学式(I)〜(III)において、Xとしては下記に示すものが挙げられる。
Figure 0004741901
前記化学式(I)〜(III)において、Rとしては下記に示すものが挙げられる。
Figure 0004741901
前記式中、Arは上記と同様である。
前記化学式(I)〜(III)において、Yとしては下記に示すものが挙げられる。
Figure 0004741901
式中、Xは上述したXと同様である。
前記Gは、GまたはGが好ましい。これにより、難燃性、熱安定性、耐熱性、およびガラス転移温度などに優れるリン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物が得られる。
前記化学式(I)において、Rはフェニル基であり、Xは下記に例示されるものが好ましく挙げられる。
Figure 0004741901
前記化学式(II)において、より好ましくは、Yは―CH―が挙げられる。
上述した本発明のリン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物は、前記化学式(I)〜(III)で示される繰り返し単位を少なくとも一以上有するものである。前記リン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物は、前記化学式(I)〜(III)で示される繰り返し単位のうち一種類のみからなってもよく、二種以上の繰り返し単位がブッロク状またはランダム状に付加されてなるものであってもよい。
また、前記リン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物は、他の繰り返し単位を含んでもよい。この場合、前記化学式(I)〜(III)で示される繰り返し単位が、全繰り返し単位の総数を基準として、0.5質量%以上含まれているのが好ましい。
前記リン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物において、分子鎖の末端は、上述したGの他、水素原子、ハロゲン原子からなるのが好ましいが、特に好ましいのは上述したGである。
前記リン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物の曲げ弾性率は、好ましくは2.0〜5.0GPaである。また、前記リン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物の曲げ強度は、好ましくは20〜50MPaである。
本発明のリン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物は、上述したものの他に、下記のものも好ましく挙げられる。前記リン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物として具体的には、下記化学式(IV)、下記化学式(V)、および下記化学式(VI)で示される繰り返し単位のうち少なくとも一つの繰り返し単位を一以上有するものが挙げられる。
Figure 0004741901
Figure 0004741901
Figure 0004741901
前記化学式(IV)〜(VI)において、X、RおよびYは上記したのと同様であり、
Figure 0004741901
Figure 0004741901
である。
前記式中、Xは上述したXと同様であり、Rは上述したRと同様であり、Gは上述したGまたはGと同様である。
前記式中、前記Gは好ましくはGである。前記GがGであるとき、
Figure 0004741901
Figure 0004741901
であるのが好ましく挙げられる。
また、前記GがGであるとき、
Figure 0004741901
Figure 0004741901
(前記式中、Xは−C(CH−である)であるのが好ましく挙げられる。
前記式中、前記GはGが好ましく挙げられる。前記GがGであるとき、前記Arは、フェニル基が好ましく、
Figure 0004741901
Figure 0004741901
であるのが好ましく挙げられる。
また、前記GがGであるとき、前記Arは、フェニル基が好ましく、
Figure 0004741901
Figure 0004741901
(前記式中、Xは−C(CH−である)であるのが好ましく挙げられる。
上述した本発明のリン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物は、前記化学式(IV)〜(VI)で示される繰り返し単位を少なくとも一以上有するものである。前記リン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物は、前記化学式(IV)〜(VI)で示される繰り返し単位のうち一種類のみからなってもよく、二種以上の繰り返し単位がブッロク状またはランダム状に付加されてなるものであってもよい。
また、前記リン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物は、他の繰り返し単位を含んでもよい。この場合、前記化学式(IV)〜(VI)で示される繰り返し単位が、全繰り返し単位の総数を基準として、0.5wt%以上含まれているのが好ましい。
前記リン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物において、分子鎖の末端は、上述したGの他、水素原子、ハロゲン原子からなるのが好ましいが、特に好ましいのは上述したGである。
前記リン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物の曲げ弾性率は、好ましくは2.0〜5.0GPaである。また、前記リン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物の曲げ強度は、好ましくは20〜50MPaである。
以下に、リン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物の製造方法について説明する。
上述した化学式(I)〜(III)で示される繰り返し単位を有するリン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物の製造方法は、化学式G−Hからなるリン含有化合物と、下記化学式(A)、(B)、または(C)を有するベンゾオキサジン樹脂と、を反応させる工程を有する方法が好ましく用いられる。
Figure 0004741901
式中、前記G、前記X、および前記Rは、上述した通りである。
前記GはGまたはGが好ましく挙げられる。
前記化学式(A)において、前記Rはフェニル基が好ましく、前記Xは下記に例示されるものが好ましい。
Figure 0004741901
前記化学式(B)において、Yは―CH―が好ましい。
開環剤として用いられる前記G−Hにおいて、前記Gが
Figure 0004741901
であるリン含有化合物としては、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド(DOPD)が商業的に好ましく挙げられる。
開環剤として用いられる前記G−Hにおいて、前記Gが
Figure 0004741901
(式中、前記Arは上記と同様である)であるリン含有化合物としては、Arがフェノキシ基であるジフェニルホスフェート(DPP)、および、Arがフェニル基であるジフェニルホスフィンオキシド(DPPO)が商業的に好ましく挙げられる。
また、前記化学式(IV)、(V)、または(VI)を有するリン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物の製造方法は、化学式HO−Q−OHからなるリン含有化合物と、前記化学式(A)、(B)、または(C)からなるベンゾオキサジン樹脂と、を反応させる工程を有する方法が好ましく用いられる。
前記HO−Q−OHからなるリン含有化合物は、
Figure 0004741901
(式中、前記G、前記X、およびRは上記と同様である)が用いられる。
前記Gとしては、前記GまたはGが好ましく用いられる。
前記Gが前記Gであるとき、前記HO−Q−OHからなるリン含有化合物は、
Figure 0004741901
であるのが好ましい。
前記Gが前記Gであるとき、前記HO−Q−OHからなるリン含有化合物は、
Figure 0004741901
(式中、Xが−C(CH−である)であるのが好ましい。
前記Gが前記Gであるとき、前記Arはフェニル基が好ましく、前記HO−Q−OHは、
Figure 0004741901
であるのが好ましい。
前記Gが前記Gであるとき、前記Arがフェノキシ基であり、前記HO−Q−OHは、
Figure 0004741901
(前記式中、Xが−C(CH−である)であるのが好ましい。
開環剤として用いられる前記HO−Q−OHにおいて、下記で示されるものは商業的には好ましくない。
Figure 0004741901
DOPO−BQおよびDOPO−NQ(G=G)は、米国特許第6,291,626号明細書に順じてDOPOから合成される。
下記構造式で示されるHO−Q−OHで示されるリン含有化合物からなる開環剤として、
Figure 0004741901
(式中、Gは上記と同様である。)で示されるものは、下記構造式で示されるG−CH−OHまたはG−CH−OHと、
Figure 0004741901
下記構造式で示されるビスフェノール化合物またはビフェニル化合物と、を反応させることにより合成される。
Figure 0004741901
(式中、前記G、G、Ar、およびXは、上記したのと同様である。)
具体的な合成方法は、米国特許第6,797,821 B2号明細書に記載の方法が用いられる。
本発明の方法において用いられるベンゾオキサジン樹脂(A)、(B)、および(C)は、下記反応式に示すごとく合成され得る。好ましい具体的な方法としては、特に制限されないが、後述する実施例に記載の方法などが用いられる。
Figure 0004741901
(式中、XおよびRは上記の通りである。)
Figure 0004741901
(式中、Yは上記の通りである。)
本発明の方法では、上記したG−Hで示されるリン含有化合物または上述したHO−Q−OHで示されるリン含有化合物と、前記化学式(A)、(B)、または(C)からなるベンゾオキサジン樹脂とを反応させることにより、前記化学式(I)〜(III)または(IV)〜(VI)で示される繰り返し単位を有するリン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物が得られる。
具体的には、前記リン含有化合物と前記ベンゾオキサジン樹脂とを混合した後に、得られた混合物を熱硬化させる方法が用いられる。
前記混合物において、前記リン含有化合物と前記ベンゾオキサジン樹脂との混合比は、質量比で5:95〜20:80とするのがよい。
また、前記混合を行う際に、前記リン含有化合物、前記ベンゾオキサジン樹脂、および/または前記混合物は、粉砕してもよい。
前記混合物は、加熱下に圧縮成形して、場合によって更に熱処理することにより硬化させ、硬化物成型物が得られる。圧縮成形する際の圧力は、30kg/cm程度とするのが好ましい。また、成形温度は、用いる前記リン含有化合物および前記ベンゾオキサジン樹脂により異なり、特に限定されないが、通常150〜250℃である。
次に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、これらの実施例は何ら本発明を制限するものではない。
1.ベンゾオキサジン樹脂の合成
合成例1
ビスフェノール−A ジヒドロベンズオキサジン(X=−C(CH−))の合成
ビスフェノールA34.2g(0.15モル)、および、37%ホルムアルデヒド溶液48.6g(0.6モル)を、スターラー、温度調節器、および冷却器を有する四つ口反応容器に添加した後、溶媒として1,4−ジオキサン100mlを混合した。混合液を室温で攪拌した後、1,4−ジオキサン30ml中にアニリン27.9g含む溶液を1秒で1滴の速度で攪拌しながら滴下した。前記溶液の滴下が終了した後に加熱し、10時間還流下で反応させた。反応物をロータリーエバポレーター中で真空乾燥させることにより黄色の固形物を得た。前記固形物をエチルエーテルに溶解させ、3N NaOH水溶液を用いて3回洗浄した後、1N塩酸水溶液で数回洗浄し、続いて純水を用いて数回洗浄し、真空下で溶媒を除去した。乾燥させた前記固形物を粉砕することにより、帯黄白色のビスフェノール−A ジヒドロベンズオキサジン粉末を得た。
Figure 0004741901
合成例2
ビスフェノール−F ジヒドロベンズオキサジン(X=−CH−)の合成
ビスフェノールF34.2g(0.15モル)、および、37%ホルムアルデヒド溶液48.6g(0.6モル)を、スターラー、温度調節器、および冷却器を有する四つ口反応容器に添加した後、溶媒として1,4−ジオキサン100mlを混合した。混合液を室温で攪拌した後、1,4−ジオキサン30ml中にアニリン27.9g含む溶液を1秒で1滴の速度で攪拌しながら滴下した。前記溶液の滴下が終了した後に加熱し、10時間還流下で反応させた。反応物をロータリーエバポレーター中で真空乾燥させることにより黄色の固形物を得た。前記固形物をエチルエーテルに溶解させ、3N NaOH水溶液を用いて3回洗浄した後、1N塩酸水溶液で数回洗浄し、続いて純水を用いて数回洗浄し、真空下で溶媒を除去することにより、帯黄白色のビスフェノール−F ジヒドロベンズオキサジンを得た。
Figure 0004741901
合成例3
4,4−ビフェノールジヒドロベンズオキサジン(X=−)の合成
4,4−ビフェノール27.9g、および、37%ホルムアルデヒド溶液48.6gを、スターラー、温度調節器、および冷却器を有する四つ口反応容器に添加した後、溶媒として1,4−ジオキサン80mlを混合した。混合液を室温で攪拌した後、1,4−ジオキサン30ml中にアニリン27.9g含む溶液を1秒で1滴の速度で攪拌しながら滴下した。前記溶液の滴下が終了した後に加熱し、10時間還流下で反応させた。反応物をロータリーエバポレーター中で真空乾燥させることにより淡橙色の固形物を得た。前記固形物をエチルエーテルに溶解させ、3N NaOH水溶液を用いて3回洗浄した後、1N塩酸水溶液で数回洗浄し、続いて純水を用いて数回洗浄し、真空下で溶媒を除去することにより、帯黄白色の4,4−ビフェノールジヒドロベンズオキサジンを得た。
Figure 0004741901
合成例4
DCPDNOヒドロベンズオキサジンの合成
ジシクロペンタジエンノボラック(DCPDNO)33.2(0.2モル)、および、ホルムアルデヒド溶液(37%、0.4モル)32.4gを、スターラー、温度調節器、および冷却器を有する四つ口反応容器に添加した後、溶媒として1,4−ジオキサン100mlを混合した。混合液を室温で攪拌した後、1,4−ジオキサン30ml中にアニリン27.9g含む溶液を1秒で1滴の速度で攪拌しながら滴下した。前記溶液の滴下が終了した後に加熱し、5時間還流下で反応させた。反応物をロータリーエバポレーター中で真空乾燥させることにより濃褐色の固形物を得た。前記固形物をエチルエーテルに溶解させ、3N NaOH水溶液を用いて3回洗浄した後、1N塩酸水溶液で数回洗浄し、続いて純水を用いて数回洗浄し、真空下で溶媒を除去した。乾燥させた前記固形物を粉砕することにより、濃褐色のDCPDNOヒドロベンズオキサジン粉末を得た。軟化点(SP)は、143℃であった。
合成例5
DDMジヒドロベンゾオキサジンの合成
フェノール28.2g(0.3モル)、および、パラホルムアルデヒド溶液18g(0.6モル)を、メタノール30ml中に溶解させ、還流温度に加熱することで懸濁させた後、2時間攪拌した。前記懸濁液の温度を50℃にし、ジアミノジフェニルメタン(DDM)29.7g(0.15モル)をゆっくり添加した。その後、得られた混合液を加熱し、3時間還流下で反応させた。反応物をロータリーエバポレーター中で真空乾燥させることにより黄色の固形物を得た。未反応のフェノールを除去するため、前記固形物をエチルエーテルに溶解させ、3N NaOH水溶液を用いて洗浄した後、純水を用いて数回洗浄し、真空下で溶媒を除去することにより、DDMジヒドロベンゾオキサジンを得た。
Figure 0004741901
合成例6
DDSジヒドロベンゾオキサジンの合成
フェノール28.2g(0.3モル)、および、パラホルムアルデヒド溶液18g(0.6モル)を、メタノール30ml中に溶解させ、還流温度に加熱することで懸濁させた後、2時間攪拌した。前記懸濁液の温度を50℃にし、ジアミノジフェニルスルホン(DDS)37.2g(0.15モル)をゆっくり添加した。その後、得られた混合液を加熱し、3時間還流下で反応させた。反応物をロータリーエバポレーター中で真空乾燥させることにより黄色の固形物を得た。未反応のフェノールを除去するため、前記固形物をエチルエーテルに溶解させ、3N NaOH水溶液を用いて洗浄した後、純水を用いて数回洗浄し、真空下で溶媒を除去することにより、DDSジヒドロベンゾオキサジンを得た。
Figure 0004741901
合成例7
DPPPジヒドロベンゾオキサジンの合成
フェノール28.2g(0.3モル)、および、パラホルムアルデヒド18g(0.6モル)を、メタノール30ml中に溶解させ、還流温度に加熱することで懸濁させた後、2時間攪拌した。前記懸濁液の温度を50℃にし、(ジアミノジフェノキシ)ジフェニルプロパン(DPPP)61.5g(0.15モル)をゆっくり添加した。その後、得られた混合液を加熱し、3時間還流下で反応させた。反応物をロータリーエバポレーター中で真空乾燥させることにより黄色の固形物を得た。未反応のフェノールを除去するため、前記固形物をエチルエーテルに溶解させ、3N NaOH水溶液を用いて洗浄した後、純水を用いて数回洗浄し、真空下で溶媒を除去することにより、DPPPジヒドロベンゾオキサジンを得た。
Figure 0004741901
合成例8
DPDSジヒドロベンゾオキサジンの合成
フェノール28.2g(0.3モル)、および、パラホルムアルデヒド溶液18g(0.6モル)を、メタノール30ml中に溶解させ、還流温度に加熱することで懸濁させた後、2時間攪拌した。前記懸濁液の温度を50℃にし、(ジアミノジフェノキシ)ジフェノキシスルホン(DPDS)64.8g(0.15モル)をゆっくり添加した。その後、得られた混合液を加熱し、3時間還流下で反応させた。反応物をロータリーエバポレーター中で真空乾燥させ、未反応のフェノールを除去するため、前記固形物をエチルエーテルに溶解させ、3N NaOH水溶液を用いて洗浄した後、純水を用いて数回洗浄し、真空下で溶媒を除去することにより、DPDSジヒドロベンゾオキサジンを得た。
Figure 0004741901
合成例9
DDM−ナフタノールジヒドロベンゾオキサジンの合成
1−ナフタノール43.3g(0.3モル)、および、パラホルムアルデヒド18g(0.6モル)を、メタノール30ml中に溶解させ、還流温度に加熱することで懸濁させた後、2時間攪拌した。前記懸濁液の温度を50℃にし、ジアミノジフェニルメタン(DDM)29.7g(0.15モル)をゆっくり添加した。その後、得られた混合液を加熱し、3時間還流下で反応させた。反応物をロータリーエバポレーター中で真空乾燥させ、未反応の1−ナフタノールを除去するため、前記固形物をエチルエーテルに溶解させ、3N NaOH水溶液を用いて洗浄した後、純水を用いて数回洗浄し、真空下で溶媒を除去することにより、DDM−ナフタノールジヒドロベンゾオキサジンを得た。
Figure 0004741901
2.リン含有開環剤の合成
合成例P−1
DOPD−BQ(P−1)の合成
DOPO(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド)216g(1モル)、および、トルエン500mlを、温度調節器、還流冷却器、窒素を通すための管(nitrogen feed)、およびメカニカルスターラを有する1L4つ口フラスコに添加した。得られた混合液を70℃に加熱し、攪拌した。続いて、90℃に加熱し、DOPDが完全に溶解するまで加熱した。その後、1,4−ベンゾキノン(BQ)97g(0.9モル)をゆっくり添加し、温度を110℃まで上げて2時間維持した。前記混合液の温度を室温まで降温した後、ろ過および乾燥させることにより、2−(6−オキシド−6H−ジベンズ[c,e][1,2]オキサホスホリン6−イル)−1,4−ベンゼンジオール(DOPO−BQ)(P−1)を得た。収率98%、融点(m.p.)258〜259℃、リン含有率9.5%。
合成例P−2
DPPO−BQ(P−2)の合成
PO−BQ(P−2)の合成
ジフェニルホスフィンオキシド(DPPO)202g(1モル)、および、キシレン500mlを、温度調節器、還流冷却器、窒素を通すための管(nitrogen feed)、およびメカニカルスターラを有する1L4つ口フラスコに添加した。得られた混合液を70℃に加熱し、攪拌した。続いて、90℃に加熱し、DPPOが完全に溶解するまで加熱した。その後、1,4−ベンゾキノン97g(0.9モル)をゆっくり添加し、温度を110℃まで上げて2時間維持した。前記混合液の温度を室温まで降温した後、ろ過し、THFを用いて精製することにより、DPO−BQ(P−2)を得た。収率92%、融点(m.p.)167〜169℃、リン含有率10%。
合成例P−3
DOPO−NQ(P−3)の合成
合成例P−1と同様の手順に従って、DOPO1モル、および、1,4−ナフトキノン(NQ)0.9モルからビスフェノールDOPO−NQを合成した。収率85%、融点(m.p.)282〜283℃、リン含有率8.28%。
合成例P−4
DPPO−NQ(P−4)の合成
BQに代わって1,4−NQを用いたことを除いては、合成例P−2と同様にしてDPPO−NQ(P−4)を合成した。収率85%、融点(m.p.)172〜174℃、リン含有率8.61%。
合成例P−5
ODOPM−BPA(P−5)の合成
Figure 0004741901
熱電対、温度調節器、還流冷却器、窒素を通すための管(nitrogen feed)、およびメカニカルスターラを有する1L4つ口フラスコに、ビスフェノール−A(BPA)228g(1モル)を添加し、170℃に加熱し、溶解するまで攪拌した。溶融させたBPAに、酢酸カリウム0.7g(0.3wt%)を混合した後、2−(6−オキシド−6H−ジベンズ[c,e][1,2]オキサ−ホスホリン6−イル)メタノール(ODOPM)246g(1モル)をゆっくり添加した。得られた混合物を220℃まで徐々に加熱した。この置換反応を4時間行った。生成物をシクロヘキサノンに溶解させ、水で数回、洗浄し、溶媒を真空下で蒸発させることによりODOPM−BPA(P−5)を得た。収率98%、融点(m.p.)125〜132℃、リン含有率6.79%。
合成例P−6
DPOM−BPA(P−6)の合成
Figure 0004741901
熱電対、温度調節器、還流冷却器、窒素を通すための管(nitrogen feed)、およびメカニカルスターラを有する1L4つ口フラスコに、ビスフェノール−A(BPA)228g(1モル)を添加し、170℃に加熱し、溶融するまで攪拌した。溶融させたBPAに、酢酸カリウム0.7g(0.3wt%)を混合した後、ジフェノキシホスホリルメタノール(DPOM)246g(1モル)をゆっくり添加した。得られた混合物を220℃まで徐々に加熱した。この置換反応を8時間行った。生成物をシクロヘキサノンに溶解させ、水で数回、洗浄し、溶媒を真空下で蒸発させることによりDPOM−BPA(P−6)を得た。収率98%、軟化点118〜124℃、リン含有率6.54%。
3.リン含有開環剤を用いたベンゾオキサジン樹脂硬化物
実施例1〜3、参考例1、3、5、7〜54
上記で合成した種々のリン含有基を有する開環剤(DOPD、DPPO、P1〜P6)を、ジヒドロベンゾオキサジン樹脂(DBR)を硬化させるために用いた。合成例1〜9で合成したDBRおよび上記開環剤を、質量比(DBR:開環剤)1:0.00、1:0.05、1:0.1、1:0.15、および1:0.2で混合した。混合物を、るつぼ中で微粉に粉砕した後に、粉末状混合物を攪拌してよく混合し、型に充填した。型中の粉末状混合物を180℃、50kg/cmで1時間、200℃で2時間、220℃さらに2時間、その後、240℃で1時間、硬化させることにより、硬化物を得た。
比較例1〜9
フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(PN)、メラミン−フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(MPN)、および、テトラブロモビスフェノール−A(TBBA)を、ジヒドロベンゾオキサジン樹脂(DBR)を得るためにそれぞれ用いた。合成例1〜9で合成したDBR、および、上記開環剤を、質量比(DBR:開環剤)1:0.00、1:0.05、1:0.1、1:0.15、および1:0.2で混合した。混合物を、るつぼ中で微粉に粉砕した後に、粉末状混合物を攪拌してよく混合し、型に充填した。型中の粉末状混合物を180℃、50kg/cmで1時間、200℃で2時間、220℃さらに2時間、その後、240℃で1時間、硬化させることにより、硬化物を得た。
表1に、実施例1〜3、参考例1、3、5、7〜54および比較例で合成したベンゾオキサジン樹脂硬化物の動的機械的性質、熱重量分析(TGA)、およびUL−94規格の難燃性を示す。表1から、本発明のリン含有開環剤は高収率(char yield)、高ガラス転移温度(Tg)、および優れた難燃性を有し、燃焼中に発煙および液滴もなく、プリント回路基板および半導体封止用などに特に好ましく用いられることがわかる。また、表1から、(1)本発明の難燃性リン含有硬化オキサゾジン樹脂は、開環剤DOPOおよびDPPOのリン含有量が0.68%よりも低く、リン含有量が約1.20%未満であるとUL−94規格の難燃性V−0を満たし、(2)比較例におけるPNおよび窒素含有MPNからなる開環剤により合成したベンゾオキサジン樹脂硬化物は、難燃性V−0を満たしておらず、(3)4,4−ビスフェノールジヒドロベンゾオキサジン樹脂が、高Tg、高前面抵抗、高収率(char yield)などを有し、最も優れていることがわかる。4,4−ビスフェノールジヒドロベンゾオキサジン樹脂およびDOPO−BQ(P−1、合成例P−1)によって合成した本発明のベンゾオキサジン樹脂硬化物は、難燃性(リン含有量、0.75%、参考例7)を付与するために開環剤(DOPO−BQ)10%を必要としたが、Tgは実質的に低下しなかった。本発明のベンゾオキサジン樹脂硬化物は、優れた難燃性を有するだけでなく、ベンゾオキサジン樹脂から高Tgおよび高耐熱性を実質的に有している。
上記に開示した実施形態は、実験例であり、これに限定されない。本発明の範囲は、上記記載よりも添付した特許請求の範囲によって示され、意味および均等の範囲内の変更は、これらの中に包含されるであろう。
Figure 0004741901
Figure 0004741901
Figure 0004741901
Figure 0004741901
Figure 0004741901
Figure 0004741901
Figure 0004741901
Figure 0004741901
Figure 0004741901
Figure 0004741901
Figure 0004741901
Figure 0004741901
Figure 0004741901
(ベンゾオキサジン)
BPA:ビスフェノール−A ジヒドロベンズオキサジン(合成例1)
BPF:ビスフェノール−F ジヒドロベンズオキサジン(合成例2)
BIP:4,4−ビフェノールジヒドロベンズオキサジン(合成例3)
DCPDNO:DCPDNOヒドロベンズオキサジン(合成例4)
DDM:DDMジヒドロベンゾオキサジン(合成例5)
DDS:DDSジヒドロベンゾオキサジン(合成例6)
DxPPP:DPPPジヒドロベンゾオキサジン(合成例7)
DPDS:DPDSジヒドロベンゾオキサジン(合成例8)
DDM−NA:DDM−ナフタノールジヒドロベンゾオキサジン(合成例9)

(開環剤)
DOPO
DPPO
P−1:DOPO−BQ
P−2:DPPO−BQ
P−3:DOPO−NQ
P−4:DPPO−NQ
P−5: ODOPM−BPA
P−6:DPOM−BPA
PN:フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂
MPN:メラミン−フェノールホルムアルデヒドノボラック
TBBA:テトラブロモビスフェノールA

Claims (8)

  1. 化学式 −Hからなるリン含有化合物と、下記化学式(A)、(B)、または(C)からなるベンゾオキサジン樹脂と、を反応させる工程を有するリン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物の製造方法。
    Figure 0004741901
    (式中、前記G は、
    Figure 0004741901
    であり、この際、Arは
    Figure 0004741901
    であり、ここでrは、C1〜C6のアルキル基、またはアリール基であり、nは0〜5の整数であり、
    前記Xは、
    Figure 0004741901
    であり、
    前記Rは、
    Figure 0004741901
    (前記式中、Arは上記と同様である)であり、
    前記Yは、
    Figure 0004741901
    (前記式中、Xは前記Xと同様である)である。)
  2. 前記リン含有化合物と、前記Rがフェニル基であり、X
    Figure 0004741901
    である前記化学式(A)を有する前記ベンゾオキサジン樹脂と、を反応させる請求項に記載のリン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物の製造方法。
  3. 前記リン含有化合物と、前記Yが−CH−である前記化学式(B)を有する前記ベンゾオキサジン樹脂とを反応させる請求項に記載のリン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物の製造方法。
  4. 前記G において、Arはフェニル基である請求項1〜3のいずれか1項に記載のリン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物の製造方法。
  5. 化学式G −Hからなるリン含有化合物と、下記化学式(A)、(B)、または(C)からなるベンゾオキサジン樹脂と、を反応させてなる、リン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物。
    Figure 0004741901
    (式中、前記G は、
    Figure 0004741901
    であり、この際、Arは
    Figure 0004741901
    であり、ここでrは、C1〜C6のアルキル基、またはアリール基であり、nは0〜5の整数であり、
    前記X は、
    Figure 0004741901
    であり、
    前記Rは、
    Figure 0004741901
    (前記式中、Arは上記と同様である)であり、
    前記Yは、
    Figure 0004741901
    (前記式中、Xは前記X と同様である)である。)
  6. 前記リン含有化合物と、前記Rがフェニル基であり、X
    Figure 0004741901
    である前記化学式(A)を有する前記ベンゾオキサジン樹脂と、を反応させてなる、請求項5に記載のリン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物。
  7. 前記リン含有化合物と、前記Yが−CH −である前記化学式(B)を有する前記ベンゾオキサジン樹脂とを反応させてなる、請求項5に記載のリン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物。
  8. 前記G において、Arはフェニル基である、請求項5〜7のいずれか1項に記載のリン含有ベンゾオキサジン樹脂硬化物。
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