JP4741839B2 - 通電されたファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法 - Google Patents
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Description
ある実施形態において、モータ駆動部が同調コンデンサに連結するように構成されており、そのモータ駆動部の制御により、同調コンデンサの調整が行われる。
101…エッチングチャンバ
102…チャンバ壁
104…チャンバ窓
108…チャック
110…半導体ウエハ
112…金属シールド
114…絶縁スペーサ
116…コイル
118…タップ
120…電磁場
122…誘導電流
123…プラズマ
124…堆積
126…浸食
128…入射イオン
130…入射イオン
132…入射イオン
201…入力端子
203…出力端子
204…コンデンサ
205…誘導結合プラズマエッチング装置
206…コンデンサ
207…接続
208…コンデンサ
209…接続
210…コンデンサ
211…接続
212…RF電源
213…接続
214…グランド
215…接続
216a,216b…電気容量
217…接続
218…コンデンサ
219…接続
220…抵抗
221…インダクタンス
222…電気容量
224…インダクタンス
226…抵抗
232…ノード
233…仮想ショート
300…放射状スロット
302…ネジ
304…外リング
306…内リング
308…中央ディスク
310…ネジ
312…取り付けフレーム
314…取り付けスペーサ
318…直線状のコイル部材
322…曲線状のコイル部材
326…十字型コイル搭載板
328…ネジ
330…サポートバネケース
331…ネジ
334…ネジ
336…ネジ
338…入力端子
340…ネジ
342…出力端子
344…ネジ
352…ネジ
353…ネジ
Claims (11)
- 誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、
前記誘導結合プラズマエッチング装置のコイルの出力端子に接続されており、さらにグランドに接続されている可変同調コンデンサの電気容量をその最低動作容量に近い値に設定する動作と、
前記コイル上のノードの位置を決定する動作であって、前記ノードは、前記可変同調コンデンサが前記最低動作容量に近い値に設定された際に前記コイル上に存在する定在RF波のノードに対応しており、前記ノードは、前記コイル上の地点であってゼロ近傍の所定の電圧の地点に対応する、動作と、
ファラデーシールドとしての金属シールドと前記コイルとの間にタップを挿入して、前記コイル上の前記定在RF波の前記ノードの位置に実質的に近い接続位置で、前記コイルを前記金属シールドに電気的に接続する動作であって、前記タップは、導電材料で形成されており、前記コイルと前記金属シールドの間の唯一の導電接続である、動作と、
前記金属シールドに電圧を印加するために、前記可変同調コンデンサを調整する動作であって、前記金属シールドに印加する電圧は、エッチング工程に適した電圧である、動作と、
を備える方法。 - 請求項1に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、
前記可変同調コンデンサの調整は、前記可変同調コンデンサに係合しているモータ駆動を制御することによって実施される、方法。 - 請求項1に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、更に、
前記エッチング工程をモニタして、エッチング副生成物の堆積の存在を検出することを含む、動作と、
前記エッチング副生成物の堆積の前記存在を検出した場合に、前記可変同調コンデンサを調整することにより前記金属シールドに印加する電圧を調整し、前記エッチング副生成物のさらなる堆積を阻止する、動作と、
を備える方法。 - 請求項1に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、更に、
前記エッチング工程をモニタして、エッチング工程の要件が適切であるか否かを決定する、動作と、
前記エッチング工程の要件が適切でない場合に、前記金属シールドに印加する電圧を調整するために、前記可変同調コンデンサを調整し、エッチング工程の要件を満たす、動作と
を備える方法。 - 請求項1に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、
前記誘導結合プラズマエッチング装置は、ウエハをエッチングするためのチャンバを含み、前記チャンバは、上端の開口部に窓を有し、前記窓は、外表面と、前記チャンバの内側の領域に面する内表面とを有し、
前記コイルは、前記窓の前記外表面の上方に配置され、
前記金属シールドは、前記窓の前記外表面の上方に定められ、前記金属シールドは、前記コイルと前記窓の前記外表面との間に両者から離れた状態で配置される、方法。 - 請求項5に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、更に、
複数のエッチング工程段階を実施する動作と、
前記金属シールドに印加する電圧を、後続のエッチング工程段階に応じた値とするために、エッチング工程段階間に前記可変同調コンデンサを調整する動作と
を備える方法。 - 請求項6に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、
前記複数のエッチング工程段階を実施する前記動作およびエッチング工程段階間に前記可変同調コンデンサを調整する前記動作は、所定の設定にしたがって自動的に実施される、方法。 - 請求項7に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、更に、
エッチング副生成物の堆積を検出するために、前記窓の内表面をモニタする動作であって、前記モニタ動作は、前記複数のエッチング工程段階の各段階中に実施される、動作と、
前記金属シールドに印加する電圧を制御するために、前記可変同調コンデンサを自動的に制御する動作であって、前記金属シールドに印加する電圧が前記窓の内表面におけるさらなるエッチング副生成物の堆積を阻止するように、前記可変同調コンデンサを制御する、動作と
を備える方法。 - 請求項8に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、更に、
スパッタリングを検出するために、前記窓の内表面をモニタする動作であって、前記モニタリングは、前記複数のエッチング工程段階の各段階中に実施される、動作と、
前記金属シールドに印加する電圧を制御するために、前記可変同調コンデンサを自動的に制御する動作であって、前記金属シールドに印加する電圧が前記窓の内表面におけるさらなるスパッタリングを阻止するように、前記可変同調コンデンサを制御する、動作と
を備える方法。 - 請求項5に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、更に、
前記エッチング工程を実施する動作と、
エッチング副生成物の堆積を検出するために、前記窓の内表面をモニタする動作であって、前記モニタ動作は、前記エッチング工程中に実施される、動作と、
前記金属シールドに印加する電圧を制御するために、前記可変同調コンデンサを自動的に制御する動作であって、前記金属シールドに印加する電圧が前記窓の内表面におけるさらなるエッチング副生成物の堆積を阻止するように、前記可変同調コンデンサを制御する、動作と
を備える方法。 - 請求項5に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、更に、
前記エッチング工程を実施する動作と、
スパッタリングを検出するために、前記窓の内表面をモニタする動作であって、前記モニタリングは、前記エッチング工程中に実施される、動作と、
前記金属シールドに印加する電圧を制御するために、前記可変同調コンデンサを自動的に制御する動作であって、前記金属シールドに印加する電圧が前記窓の内表面におけるさらなるスパッタリングを阻止するように、前記可変同調コンデンサを制御する、動作と
を備える方法。
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