JP2005535117A5 - - Google Patents

Claims (11)

1. 誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、
   前記誘導結合プラズマエッチング装置のコイルに接続されている同調コンデンサの電気容量をゼロ動作容量に近い値に固定する動作と、
   前記コイル上のノードの位置を決定する動作であって、前記ノードは、前記同調コンデンサが前記ゼロ動作容量に近い値に固定された際に前記コイル上に存在する定在ＲＦ波のノードに対応している、動作と、
   前記ノードの位置に実質的に近い接続位置で、前記コイルを金属シールドに電気的に接続する動作と、
   前記金属シールドにおいて所要の電圧を得るために、前記同調コンデンサを調整する動作であって、前記金属シールドにかかる前記所要の電圧は、エッチング工程に適した電圧である、動作と、
   を備える方法。
2. 請求項１に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、
   前記同調コンデンサの調整は、前記同調コンデンサに係合しているモータ駆動を制御することによって実施される、方法。
3. 請求項１に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、更に、
   前記金属シールドにかかる前記電圧の適切さを決定するために、前記エッチング工程をモニタする動作であって、前記モニタ動作は、エッチング副生成物の堆積の存在を検出することを含む、動作と、
   前記金属シールドにかかる適切な電圧を維持するために、前記同調コンデンサを調整する動作であって、前記金属シールドにかかる前記適切な電圧は、エッチング副生成物の堆積を阻止するのに足る、動作と、
   を備える方法。
4. 請求項１に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、更に、
   前記金属シールドにかかる前記電圧の適切さを決定するために、前記エッチング工程をモニタする動作であって、前記電圧の前記適切さは、エッチング工程の要件に基づく、動作と、
   前記金属シールドにかかる適切な電圧を維持するために、前記同調コンデンサを調整する動作であって、前記金属シールドにかかる前記適切な電圧は、エッチング工程の要件を満たすのに足る、動作と
   を備える方法。
5. 請求項１に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、
   前記誘導結合プラズマエッチング装置は、ウエハをエッチングするためのチャンバを含み、前記チャンバは、上端の開口部に窓を有し、前記窓は、外表面と、前記チャンバの内側の領域に面する内表面とを有し、
   前記コイルは、前記窓の前記外表面の上方に配置され、
   前記金属シールドは、前記窓の前記外表面の上方に定められ、前記金属シールドは、前記コイルと前記窓の前記外表面との間に両者から離れた状態で配置される、方法。
6. 請求項５に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、更に、
   複数のエッチング工程段階を実施する動作であって、前記複数のエッチング工程段階は、前記金属シールドにおいてそれぞれ異なる電圧を必要とする可能性がある、動作と、
   前記金属シールドにおいて前記所要の電圧を得るために、エッチング工程段階間に前記同調コンデンサを調整する動作であって、前記所要の電圧は、後続のエッチング工程段階に適した電圧である、動作と
   を備える方法。
7. 請求項６に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、
   前記複数のエッチング工程段階を実施する前記動作およびエッチング工程段階間に前記同調コンデンサを調整する前記動作は、所定の設定にしたがって自動的に実施される、方法。
8. 請求項７に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、更に、
   エッチング副生成物の堆積を検出するために、前記窓の内表面をモニタする動作であって、前記モニタ動作は、前記複数のエッチング工程段階の各段階中に実施される、動作と、
   前記金属シールドにかかる前記電圧を制御するために、前記同調コンデンサを自動的に制御する動作であって、前記金属シールドにかかる前記制御された電圧は、前記窓の内表面におけるさらなるエッチング副生成物の堆積を阻止する、動作と
   を備える方法。
9. 請求項８に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、更に、
   スパッタリングを検出するために、前記窓の内表面をモニタする動作であって、前記モニタリングは、前記複数のエッチング工程段階の各段階中に実施される、動作と、
   前記金属シールドにかかる前記電圧を制御するために、前記同調コンデンサを自動的に制御する動作であって、前記金属シールドにかかる前記制御された電圧は、前記窓の内表面におけるさらなるスパッタリングを阻止する、動作と
   を備える方法。
10. 請求項５に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、更に、
    前記エッチング工程を実施する動作と、
    エッチング副生成物の堆積を検出するために、前記窓の内表面をモニタする動作であって、前記モニタ動作は、前記エッチング工程中に実施される、動作と、
    前記金属シールドにかかる前記電圧を制御するために、前記同調コンデンサを自動的に制御する動作であって、前記金属シールドにかかる前記制御された電圧は、前記窓の内表面におけるさらなるエッチング副生成物の堆積を阻止する、動作と
    を備える方法。
11. 請求項５に記載の、誘導結合プラズマエッチング装置のファラデーシールドにかかる電圧を調整するための方法であって、更に、
    前記エッチング工程を実施する動作と、
    スパッタリングを検出するために、前記窓の内表面をモニタする動作であって、前記モニタリングは、前記エッチング工程中に実施される、動作と、
    前記金属シールドにかかる前記電圧を制御するために、前記同調コンデンサを自動的に制御する動作であって、前記金属シールドにかかる前記制御された電圧は、前記窓の内表面におけるさらなるスパッタリングを阻止する、動作と
    を備える方法。