JP2015149323A - プラズマ処理装置及びfsvの制御方法 - Google Patents
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Abstract
Description
1b 第二の誘導結合アンテナ
2 真空容器
2a 放電部
2b 処理部
3 マッチングボックス
4 ガス供給装置
5 試料台
7 排気装置
8 ファラデーシールド
10 第一の高周波電源
11 第二の高周波電源
12 インピーダンスマッチング回路
13 試料
14a 第一の電流センサ
14b 第二の電流センサ
15 アンテナ電流比制御回路
16 第一の可変コンデンサ
17 第二の可変コンデンサ
18 コイル
19 FSV検出・制御回路
21 第一の位置検出器
22 第二の位置検出器
23 制御部
24 FSV検出回路
25 第一のステッピングモータ駆動回路
26 第三の可変コンデンサ
27 第二のステッピングモータ駆動回路
28 第一のステッピングモータ
29 第二のステッピングモータ
Claims (2)
- 試料がプラズマ処理される真空処理室と、
前記真空処理室外に配置された誘導結合アンテナと、
整合器を介して前記誘導アンテナに高周波電力を供給する高周波電源と、
前記真空処理室の上部を気密に封止する誘電体窓と前記誘導アンテナの間に配置されたファラデーシールドとを備え、
前記ファラデーシールドに印加される高周波電圧をFSVとしたとき、前記整合器は、可変コンデンサとインダクタンスから構成された直列共振回路と、前記可変コンデンサを駆動させるモータを制御するモータ制御部と、前記FSVを検出する検出部と、前記検出部により検出されたFSV値が所望のFSV値となるように前記モータ制御部を制御する制御部とを具備し、
前記可変コンデンサは、第一の可変コンデンサと前記第一の可変コンデンサより静電容量が小さい第二の可変コンデンサとを具備し、
前記検出されたFSVと前記所望のFSVとの偏差が所定の値より大きい場合、前記制御装置は、前記第一の可変コンデンサを用いて前記偏差が小さくなるような制御を行うことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 試料がプラズマ処理される真空処理室と、
前記真空処理室外に配置された誘導結合アンテナと、
整合器を介して前記誘導アンテナに高周波電力を供給する高周波電源と、
前記真空処理室の上部を気密に封止する誘電体窓と前記誘導アンテナの間に配置されたファラデーシールドとを備え、
前記ファラデーシールドに印加される高周波電圧をFSVとしたとき、前記整合器は、可変コンデンサとインダクタンスから構成された直列共振回路と、前記可変コンデンサを駆動させるモータを制御するモータ制御部と、前記FSVを検出する検出部と、前記検出部により検出されたFSV値が所望のFSV値となるように前記モータ制御部を制御する制御部とを具備し、
前記可変コンデンサは、第一の可変コンデンサと前記第一の可変コンデンサより静電容量が小さい第二の可変コンデンサとを具備するプラズマ処理装置を用いて前記FSVを制御するFSVの制御方法において、
前記検出されたFSVと前記所望のFSVとの偏差が所定の値より大きい場合、前記第一の可変コンデンサを用いて前記偏差が小さくなるようして前記FSVを制御することを特徴とするFSVの制御方法。
Priority Applications (1)
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CN107801289A (zh) * | 2016-08-31 | 2018-03-13 | 东京毅力科创株式会社 | 等离子体处理装置 |
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