JP4737972B2 - 自己傾斜型光触媒組成物 - Google Patents
自己傾斜型光触媒組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4737972B2 JP4737972B2 JP2004335561A JP2004335561A JP4737972B2 JP 4737972 B2 JP4737972 B2 JP 4737972B2 JP 2004335561 A JP2004335561 A JP 2004335561A JP 2004335561 A JP2004335561 A JP 2004335561A JP 4737972 B2 JP4737972 B2 JP 4737972B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- photocatalyst
- compound
- film
- modified
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 165
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 title claims description 47
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 claims description 395
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 233
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 180
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 126
- -1 difluoromethylene unit Chemical group 0.000 claims description 91
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 89
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 53
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 53
- 239000003607 modifier Substances 0.000 claims description 47
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 42
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 37
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 37
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 30
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 27
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 25
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 24
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 24
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 21
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 17
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 15
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 14
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 13
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 13
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 3
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 214
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 157
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 106
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 106
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 94
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 89
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 57
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 52
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 51
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 49
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 43
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 43
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 40
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 39
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 39
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 38
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 36
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 35
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 description 30
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 29
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 29
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 29
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 28
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 27
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 25
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 25
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000002585 base Substances 0.000 description 23
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 22
- 229910003089 Ti–OH Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 21
- 230000006870 function Effects 0.000 description 21
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 21
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 20
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 20
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 20
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 19
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 19
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 18
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 18
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine group Chemical group NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 18
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 17
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 17
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 16
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 15
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 15
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 15
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 15
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 14
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 14
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 13
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 13
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 12
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZBKFYXZXZJPWNQ-UHFFFAOYSA-N isothiocyanate group Chemical group [N-]=C=S ZBKFYXZXZJPWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 12
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 12
- 150000005676 cyclic carbonates Chemical group 0.000 description 11
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 11
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 11
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000009471 action Effects 0.000 description 10
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 10
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 9
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 101100427174 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) mus-8 gene Proteins 0.000 description 9
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 9
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 9
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 9
- 230000003100 immobilizing effect Effects 0.000 description 9
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 9
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 9
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 9
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 9
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 9
- 101100422634 Postia placenta (strain ATCC 44394 / Madison 698-R) STS-02 gene Proteins 0.000 description 8
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 8
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000002339 acetoacetyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C(=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 8
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 8
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 8
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N anhydrous diethylene glycol Natural products OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 7
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 2,2,5,8-tetramethyl-3,4-dihydrochromen-6-ol Chemical compound C1CC(C)(C)OC2=C1C(C)=C(O)C=C2C MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KNDQHSIWLOJIGP-UHFFFAOYSA-N 826-62-0 Chemical compound C1C2C3C(=O)OC(=O)C3C1C=C2 KNDQHSIWLOJIGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Natural products CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 6
- 125000002344 aminooxy group Chemical group [H]N([H])O[*] 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 6
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 6
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 6
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 6
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 6
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 5
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 5
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 5
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 5
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 5
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 5
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 5
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical class OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- YXDMEWZJQPYVEC-UHFFFAOYSA-N ClC=1C(C=CC=1)([Pt]C1C=CC=C1)Cl Chemical compound ClC=1C(C=CC=1)([Pt]C1C=CC=C1)Cl YXDMEWZJQPYVEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 4
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 4
- 150000004687 hexahydrates Chemical class 0.000 description 4
- 238000010335 hydrothermal treatment Methods 0.000 description 4
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 4
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003544 oxime group Chemical group 0.000 description 4
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 4
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical compound CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical class [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 3
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 3
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical class [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007540 photo-reduction reaction Methods 0.000 description 3
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trifluoro-5-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC(F)=C(F)C=C1F SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methylpropane Chemical compound CC(C)COC=C OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HORQAOAYAYGIBM-UHFFFAOYSA-N 2,4-dinitrophenylhydrazine Chemical compound NNC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O HORQAOAYAYGIBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYPKRALMXUUNKS-UHFFFAOYSA-N 2-Hexene Natural products CCCC=CC RYPKRALMXUUNKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RNDVGJZUHCKENF-UHFFFAOYSA-N 5-hexen-2-one Chemical compound CC(=O)CCC=C RNDVGJZUHCKENF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical compound C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYJHVEDILOKZCG-UHFFFAOYSA-N Allyl benzoate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 LYJHVEDILOKZCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CGBFEZOPOFSTTA-UHFFFAOYSA-L Cl[Pt](C1C=CC=C1)(C1C=CC=C1)Cl Chemical compound Cl[Pt](C1C=CC=C1)(C1C=CC=C1)Cl CGBFEZOPOFSTTA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930194542 Keto Natural products 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC(=O)C=C RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000008360 acrylonitriles Chemical class 0.000 description 2
- YKIOKAURTKXMSB-UHFFFAOYSA-N adams's catalyst Chemical compound O=[Pt]=O YKIOKAURTKXMSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HXBPYFMVGFDZFT-UHFFFAOYSA-N allyl isocyanate Chemical compound C=CCN=C=O HXBPYFMVGFDZFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOJBYZNEUISWFT-UHFFFAOYSA-N allyl isothiocyanate Chemical compound C=CCN=C=S ZOJBYZNEUISWFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 2
- 125000005587 carbonate group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- VPUGDVKSAQVFFS-UHFFFAOYSA-N coronene Chemical compound C1=C(C2=C34)C=CC3=CC=C(C=C3)C4=C4C3=CC=C(C=C3)C4=C2C3=C1 VPUGDVKSAQVFFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical class C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKGZHELIUYCPTO-UHFFFAOYSA-N dicesium;oxygen(2-);titanium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Cs+].[Cs+] UKGZHELIUYCPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 2
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N hydrazine hydrate Chemical compound O.NN IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLSMFKSTNGKWQX-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetone Chemical compound CC(=O)CO XLSMFKSTNGKWQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 2
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- JFNLZVQOOSMTJK-UHFFFAOYSA-N norbornene Chemical compound C1C2CCC1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 description 2
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M pent-4-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 2
- PKELYQZIUROQSI-UHFFFAOYSA-N phosphane;platinum Chemical compound P.[Pt] PKELYQZIUROQSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- NFOHLBHARAZXFQ-UHFFFAOYSA-L platinum(2+);dihydroxide Chemical compound O[Pt]O NFOHLBHARAZXFQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- KVERJCFPWMYIII-UHFFFAOYSA-J platinum(4+);tetrachloride;hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Pt+4] KVERJCFPWMYIII-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 2
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- POSICDHOUBKJKP-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoxybenzene Chemical compound C=CCOC1=CC=CC=C1 POSICDHOUBKJKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003349 semicarbazides Chemical class 0.000 description 2
- 150000007659 semicarbazones Chemical class 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PGAPATLGJSQQBU-UHFFFAOYSA-M thallium(i) bromide Chemical compound [Tl]Br PGAPATLGJSQQBU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical compound O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AJOJTMNIQSTBAP-UHFFFAOYSA-N (1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound CN1C(C)(C)CCC(OC(=O)C=C)C1(C)C AJOJTMNIQSTBAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIIUJJXXMYYQQD-UHFFFAOYSA-N (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl) prop-2-enoate Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1OC(=O)C=C GIIUJJXXMYYQQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C1=CC=CC=C1 QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- SAHQQCUQWHJOCV-SNAWJCMRSA-N (e)-2-ethenylbut-2-enoic acid Chemical compound C\C=C(/C=C)C(O)=O SAHQQCUQWHJOCV-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- 0 *c1ccc(*)cc1 Chemical compound *c1ccc(*)cc1 0.000 description 1
- SNUXIIWZWKDULZ-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCC=C SNUXIIWZWKDULZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQUROMIGLUXXNW-UHFFFAOYSA-N 1-triethoxysilylpropan-2-ol Chemical compound CCO[Si](CC(C)O)(OCC)OCC ZQUROMIGLUXXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-difluorophenoxy)pyridin-3-amine Chemical compound NC1=CC=CN=C1OC1=CC=C(F)C=C1F LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBDVWXAVKPRHCU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OCCOC(=O)C(C)=C IBDVWXAVKPRHCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- MHNNAWXXUZQSNM-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-1-ene Chemical compound CCC(C)=C MHNNAWXXUZQSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMADMUIDBVATJT-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enamide;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.CC(C)=O.CC(=C)C(N)=O JMADMUIDBVATJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 2-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHSYGCXKWUUKIK-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OCCOC(=O)C=C YHSYGCXKWUUKIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOSZBTFBHSYELP-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylethanol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCO BOSZBTFBHSYELP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKAMGQZDVMQEJL-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodec-1-ene Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C=C NKAMGQZDVMQEJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJPSFJLSZZTSDF-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxyprop-1-ene Chemical group CCOCC=C OJPSFJLSZZTSDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN=C=O FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FASUFOTUSHAIHG-UHFFFAOYSA-N 3-methoxyprop-1-ene Chemical compound COCC=C FASUFOTUSHAIHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSDZSLGMRRSAHD-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutan-2-ylcyclopropane Chemical compound CC(C)C(C)C1CC1 JSDZSLGMRRSAHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJPRLNWUNMBNBZ-UHFFFAOYSA-N 3-phenylprop-2-enal Chemical compound O=CC=CC1=CC=CC=C1 KJPRLNWUNMBNBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 3-propoxypropan-1-ol Chemical compound CCCOCCCO LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMUBRRLYMADSGF-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropan-1-ol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCO NMUBRRLYMADSGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YATIYDNBFHEOFA-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-ol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCO YATIYDNBFHEOFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropylurea Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC(N)=O LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQBCQEDMLHHOMQ-UHFFFAOYSA-N 4-methoxycyclohexa-1,5-diene-1,4-diol Chemical compound COC1(O)CC=C(O)C=C1 WQBCQEDMLHHOMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZAJOEGTZDUSKS-UHFFFAOYSA-N 5-aminofluorescein Chemical compound C12=CC=C(O)C=C2OC2=CC(O)=CC=C2C21OC(=O)C1=CC(N)=CC=C21 GZAJOEGTZDUSKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAPCXGFREZPNHK-UHFFFAOYSA-N 9-phenyl-9h-xanthene Chemical group C12=CC=CC=C2OC2=CC=CC=C2C1C1=CC=CC=C1 JAPCXGFREZPNHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003934 Aciplex® Polymers 0.000 description 1
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical class N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003860 C1-C20 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- HETCEOQFVDFGSY-UHFFFAOYSA-N Isopropenyl acetate Chemical compound CC(=C)OC(C)=O HETCEOQFVDFGSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000557 Nafion® Polymers 0.000 description 1
- OGUGJMXLOBKUNS-UHFFFAOYSA-N OC(C[Si](OC)(OC)OC)C.OCC[Si](OCC)(OCC)OCC Chemical compound OC(C[Si](OC)(OC)OC)C.OCC[Si](OCC)(OCC)OCC OGUGJMXLOBKUNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical class [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N [3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-ylmethyl)-1-oxa-2,8-diazaspiro[4.5]dec-2-en-8-yl]-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]methanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CC1=NOC2(C1)CCN(CC2)C(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPFYNOGVFGQCTI-UHFFFAOYSA-N [F].CCOC(N)=O Chemical compound [F].CCOC(N)=O QPFYNOGVFGQCTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- IBVAQQYNSHJXBV-UHFFFAOYSA-N adipic acid dihydrazide Chemical compound NNC(=O)CCCCC(=O)NN IBVAQQYNSHJXBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 235000016720 allyl isothiocyanate Nutrition 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 description 1
- 229910052586 apatite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940072107 ascorbate Drugs 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- GOOXRYWLNNXLFL-UHFFFAOYSA-H azane oxygen(2-) ruthenium(3+) ruthenium(4+) hexachloride Chemical compound N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.[O--].[O--].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3].[Ru+3].[Ru+4] GOOXRYWLNNXLFL-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane;platinum Chemical compound [Pt].C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014121 butter Nutrition 0.000 description 1
- XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N butyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OCC)(OCC)OCC XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N butyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)OC SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000805 composite resin Substances 0.000 description 1
- ATGKAFZFOALBOF-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1CCCCC1 ATGKAFZFOALBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEWFSXFFGFDHGV-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1CCCCC1 MEWFSXFFGFDHGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 description 1
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 description 1
- 239000002781 deodorant agent Substances 0.000 description 1
- DGPFXVBYDAVXLX-UHFFFAOYSA-N dibutyl(diethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OCC)(OCC)CCCC DGPFXVBYDAVXLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPENMAABQGWRBR-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)CCCC YPENMAABQGWRBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGYGEZLIGMBRKL-UHFFFAOYSA-N dicyclohexyl(diethoxy)silane Chemical compound C1CCCCC1[Si](OCC)(OCC)C1CCCCC1 CGYGEZLIGMBRKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVMRWPHIZSSUKP-UHFFFAOYSA-N dicyclohexyl(dimethoxy)silane Chemical compound C1CCCCC1[Si](OC)(OC)C1CCCCC1 ZVMRWPHIZSSUKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)OCC ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRMUHDACMQEQMT-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diheptyl)silane Chemical compound CCCCCCC[Si](OCC)(OCC)CCCCCCC NRMUHDACMQEQMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDFQIGODCFRNJY-UHFFFAOYSA-N diethoxy(dihexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)CCCCCC UDFQIGODCFRNJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YETKAVVSNLUTEQ-UHFFFAOYSA-N diethoxy(dioctyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCC YETKAVVSNLUTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDXFKFNGIDWIQQ-UHFFFAOYSA-N diethoxy(dipentyl)silane Chemical compound CCCCC[Si](OCC)(OCC)CCCCC VDXFKFNGIDWIQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZLIIKNXMLEWPA-UHFFFAOYSA-N diethoxy(dipropyl)silane Chemical compound CCC[Si](CCC)(OCC)OCC HZLIIKNXMLEWPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSYLGGHSEIWGJV-UHFFFAOYSA-N diethyl(dimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(OC)OC VSYLGGHSEIWGJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYICXDQJFWXGTC-UHFFFAOYSA-N dihexyl(dimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)CCCCCC CYICXDQJFWXGTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- TYXIAHKLJMLPIP-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dioctyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)CCCCCCCC TYXIAHKLJMLPIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXAPXYULCIKKNK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dipentyl)silane Chemical compound CCCCC[Si](OC)(OC)CCCCC LXAPXYULCIKKNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVUVKQDVTIIMOD-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dipropyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)CCC JVUVKQDVTIIMOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 1
- IDGUHHHQCWSQLU-UHFFFAOYSA-N ethanol;hydrate Chemical compound O.CCO IDGUHHHQCWSQLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylpropanoate Chemical compound CC(C)(C)C(=O)OC=C YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGBZOHMCHDADGY-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-ethylhexanoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OC=C IGBZOHMCHDADGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBVWCAOHSBLHRP-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-tert-butylbenzoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1C(=O)OC=C ZBVWCAOHSBLHRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N ethenyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OC=C GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N ethenyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC=C AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 229960002089 ferrous chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N hepta-1,6-dien-4-one Chemical compound C=CCC(=O)CC=C PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRINOTYEGADLMW-UHFFFAOYSA-N heptyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCC[Si](OC)(OC)OC VRINOTYEGADLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008131 herbal destillate Substances 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920013821 hydroxy alkyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002540 isothiocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFZUABNDWZQLIJ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(2-chloroacetyl)amino]benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1NC(=O)CCl JFZUABNDWZQLIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000693 micelle Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000004219 molecular orbital method Methods 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N oxopalladium Chemical compound [Pd]=O HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);titanium(4+);sulfate Chemical compound [O-2].[Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VSIIXMUUUJUKCM-UHFFFAOYSA-D pentacalcium;fluoride;triphosphate Chemical group [F-].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O VSIIXMUUUJUKCM-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 1
- 238000001935 peptisation Methods 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005009 perfluoropropyl group Chemical group FC(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L peroxydisulfate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000007146 photocatalysis Methods 0.000 description 1
- 230000001443 photoexcitation Effects 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- CDXZRBLOGJXGTN-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoxycyclohexane Chemical compound C=CCOC1CCCCC1 CDXZRBLOGJXGTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEDLAAYLXASWJO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-ethylhexanoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OCC=C ZEDLAAYLXASWJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl prop-2-enoate Chemical compound C=CCOC(=O)C=C QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000518 rheometry Methods 0.000 description 1
- XWGJFPHUCFXLBL-UHFFFAOYSA-M rongalite Chemical compound [Na+].OCS([O-])=O XWGJFPHUCFXLBL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003303 ruthenium Chemical class 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 238000005464 sample preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- DUIOPKIIICUYRZ-UHFFFAOYSA-N semicarbazide Chemical class NNC(N)=O DUIOPKIIICUYRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229940001607 sodium bisulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L sodium persulfate Substances [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XFTALRAZSCGSKN-UHFFFAOYSA-M sodium;4-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 XFTALRAZSCGSKN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBEIPJNQGITEBL-UHFFFAOYSA-J tetrachloroplatinum Chemical compound Cl[Pt](Cl)(Cl)Cl FBEIPJNQGITEBL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910000348 titanium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013518 transcription Methods 0.000 description 1
- 230000035897 transcription Effects 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)F ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HILHCDFHSDUYNX-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(pentyl)silane Chemical compound CCCCC[Si](OC)(OC)OC HILHCDFHSDUYNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940094989 trimethylsilane Drugs 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N vinyl methyl ketone Natural products CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000001018 xanthene dye Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Chemical class 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Chemical class 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
また本発明は、上記の自己傾斜型光触媒組成物を用いて形成された皮膜、並びに該皮膜およびそれによって被覆された基材からなる機能性複合体、並びに上記の変性光触媒組成物を用いて形成された成形体にも関する。
この光触媒によって促進される化学反応の例としては、種々の有機物の酸化分解反応を挙げることができる。従って、この光触媒を種々の基材の表面に固定化させれば、基材の表面に付着した種々の有機物を、光エネルギーを利用して酸化分解することができることになる。
一方、光触媒に光を照射すると、その光触媒の表面の親水性が高まることが知られている。従って、この光触媒を種々の基材の表面に固定化させれば、光の照射によりその基材の表面の親水性を高めることができるようになる。
光触媒を固定化する方法については、これまでに種々の提案がなされている。例えば、特許文献1では、光触媒をスパッタリング法により基材の表面に薄膜状にして固定化する方法が開示されている。
それらの方法のうち特に有用な方法の1つとして、光触媒を含む組成物によって基材の表面をコーティングし、光触媒を含む皮膜を形成させることにより、光触媒を基材の表面に固定する方法が注目されている。
(1) 光触媒の活性を損なうことなく、光触媒を基材の表面に強固に固定化できること、および
(2) 形成される皮膜およびその皮膜によって被覆された基材が、光触媒の作用で劣化しないこと
が要求される。
さらに、この方法の適応範囲を広げる上で、
(3) 穏和な条件下(例えば、温度の条件として室温〜100℃程度)で固定化を行うことができること
(4) 形成される皮膜が、透明性、耐久性、耐汚染性、硬度等に優れていることなどが望まれる。
例えば、特許文献2では、光触媒の前駆体、例えば有機チタネートを含有するゾルを基材の表面に塗布した後、焼成によって光触媒の前駆体をゲル化させ、光触媒に変換すると共に、生成した光触媒を基材の表面に固定化する方法が提案されている。しかしこの方法は、光触媒の微粒子状結晶を基材の表面で生成させる工程を含んでおり、この工程には高温での焼成が必要である。そのため、基材の表面積が広い場合には光触媒の固定化が困難になる、という欠点がある。
すなわち、コーティングによって光触媒を基材の表面に固定化する方法において、上記(1)〜(4)の条件を全て満足するものは未だ知られていない。
その結果、意外にも、本発明者は、光触媒粒子を、モノオキシジオルガノシラン単位、ジオキシオルガノシラン単位およびジフルオロメチレン単位よりなる群から選ばれる少なくとも1種の構造単位を含む化合物類よりなる群から選ばれる少なくとも1種の変性剤化合物を用いて変性処理することによって得られらる変性光触媒粒子と、該変性光触媒粒子より表面エネルギーが大きい単量体及び/又は樹脂を含む自己傾斜型光触媒組成物を用いて、基材の表面に変性光触媒を含む皮膜を形成させると、上記(1) 〜(4) の条件が全て満足され、変性光触媒が皮膜の中に埋没することもなく、皮膜の表面で十分な効果を示すことを見出した。
また、上記の自己傾斜型光触媒組成物を用いて形成された皮膜、並びに該皮膜およびそれによって被覆された基材からなる機能性複合体、並びに上記の自己傾斜型光触媒組成物を用いて形成された成形体は、その表面において変性光触媒が十分な効果を示すため、表面への汚れの付着や曇りが効果的に防止されることを見出した。
以上の新たな知見に基づき、本発明を完成するに至った。
本発明の他の目的は、表面への汚れの付着や曇りが効果的に防止される皮膜、並びに該皮膜およびそれによって被覆された基材からなる機能性複合体、並びに表面への汚れの付着や曇りが効果的に防止される成形体を提供することにある。 本発明の上記及びその他の諸目的、諸特徴ならびに諸利益は、添付の図面を参照しながら行なう以下の詳細な説明及び請求の範囲の記載から明らかになる。
−(R1 R2 SiO)− (1)
(式中、R1 、R2 は各々独立して水素原子、直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、又は置換されていないか又は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基を表す)、及び
−(CF2 )− (3)
1.光触媒粒子を、式(1)で表されるモノオキシジオルガノシラン単位、式(2)で表されるジオキシオルガノシラン単位、及び式(3)で表されるジフルオロメチレン単位よりなる群から選ばれる少なくとも1種の構造単位を有する化合物類よりなる群から選ばれる少なくとも1種の変性剤化合物を用いて変性処理することによって得られる変性光触媒粒子と、該変性光触媒粒子より表面エネルギーが2ダイン/cm以上大きい単量体及び/又は樹脂を含む光触媒組成物であって、該光触媒組成物から形成される皮膜または成形体が該変性光触媒粒子の分布に関して異方性を有することを特徴とする自己傾斜型光触媒組成物。
−(R1 R2 SiO)− (1)
(式中、R1 、R2 は各々独立して水素原子、直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、又は置換されていないか又は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基を表す)、
−(CF2 )− (3)
3.該変性剤化合物が、分光増感基を含有することを特徴とする前項1又は2に記載の自己傾斜型光触媒組成物。
4.該変性剤化合物が、Si−H基、アルコキシシリル基、ヒドロキシシリル基、ハロゲン化シリル基、アセトキシシリル基、アミノキシシリル基、アセトアセチル基、チオール基、酸無水物基、エポキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイル基、ケト基、カルボキシル基、ヒドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、水酸基、アミノ基、環状カーボネート基、エステル基からなる群より選ばれる少なくとも1つの反応性基を含有することを特徴とする前項1〜3のいずれかに記載の自己傾斜型光触媒組成物。
6.該変性剤化合物が、少なくとも1つの水素原子が結合した少なくとも1つのケイ素原子を包含する化合物であることを特徴とする前項1〜5のいずれかに記載の自己傾斜型光触媒組成物。
7.該光触媒粒子の該変性剤化合物による該変性処理を、ケイ素原子に結合した該水素原子に対して脱水素縮合活性を有する脱水素縮合触媒の存在下で行うことを特徴とする前項6に記載の自己傾斜型光触媒組成物。
9.該変性剤化合物が、式(4)で表される平均組成を有するケイ素化合物であることを特徴とする前項7に記載の自己傾斜型光触媒組成物。
HpRqQrXsSiO(4-p-q-r-s)/2 (4)
[式中、Rは、直鎖状または分岐状の炭素数1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、及び置換されていないか又は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基からなる群より選ばれる少なくとも1つの炭化水素基を表し、Qは、
(2) カルボキシル基及びその塩、リン酸基及びその塩、スルホン酸基及びその塩、及びポリオキシアルキレン基からなる群より選ばれる少なくとも1つの親水性基、
(3) エポキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイル基、酸無水物基、ケト基、ヒドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、水酸基、アミノ基、環状カーボネート基、及びエステル基からなる群より選ばれる少なくとも1つの反応性基、及び
(4) 少なくとも1つの分光増感基、
からなる群より選ばれる少なくとも1つの機能性付与基を含有する基を表し、
Xは、炭素数1〜20のアルコキシ基、水酸基、ヒドロキシイミノ基、エノキシ基、アミノ基、アミド基、アシロキシ基、アミノキシ基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも1つの加水分解性基を表し、
0<p<4、0<q<4、0≦r<4、0≦s<2、及び(p+q+r+s)<4である。]
(R1 HSiO)a(R1 2SiO)b (R1 QSiO)c (R1 3SiO1/2)d (5)
[式中、R1 は式(1)で定義した通りであり、Qは式(4)で定義した通りであり、aは1以上の整数であり、b、cは0又は1以上の整数であり、(a+b+c)≦10000であり、そして、dは0又は2であり、但し、(a+b+c)が2以上の整数であり且つd=0の場合、該シリコーン化合物は環状シリコーン化合物であり、d=2の場合、該シリコーン化合物は鎖状シリコーン化合物である。]
11.該変性剤化合物が、炭素数1〜30のフルオロアルキル基を包含する化合物であることを特徴とする前項1〜5のいずれかに記載の自己傾斜型光触媒組成物。
CF3(CF2)g−Y−(V)w (11)
[式中、gは0〜29の整数を表す。Yは分子量14〜50000のw価の有機基を表す。wは1〜20の整数である。Vは、エポキシ基、水酸基、アセトアセチル基、チオール基、環状酸無水物基、カルボキシル基、スルホン酸基、ポリオキシアルキレン基、及び下式で表される基からなる群から選ばれた少なくとも1つの官能基を表す。
−SiWxRy
(式中、Wは炭素数1〜20のアルコキシ基、水酸基、炭素数1〜20のアセトキシ基、ハロゲン原子、水素原子、炭素数1〜20のオキシム基、エノキシ基、アミノキシ基、アミド基から選ばれた少なくとも1種の基を表す。Rは、直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、及び置換されていないか或いは炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基から選ばれる少なくとも1種の炭化水素基を表す。xは1以上3以下の整数であり、yは0以上2以下の整数である。また、(x+y)=3である。)]
13.該変性剤化合物が、数平均分子量100〜1,000,000のフルオロアルキレン化合物であることを特徴とする前項1〜5のいずれかに記載の自己傾斜型光触媒組成物。
mは10以上1000000以下の整数であり、nは0以上100000以下の整数を表す。
Yは分子量14〜50000のw価の有機基を表す。
wは1〜20の整数である。
Vは、エポキシ基、水酸基、アセトアセチル基、チオール基、環状酸無水物基、カルボキシル基、スルホン酸基、ポリオキシアルキレン基、及び下式で表される基からなる群から選ばれた少なくとも1つの官能基を表す。
−SiWxRy
[式中、Wは炭素数1〜20のアルコキシ基、水酸基、炭素数1〜20のアセトキシ基、ハロゲン原子、水素原子、炭素数1〜20のオキシム基、エノキシ基、アミノキシ基、アミド基から選ばれた少なくとも1種の基を表す。Rは、直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、及び置換されていないか或いは炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基から選ばれる少なくとも1種の炭化水素基を表す。xは1以上3以下の整数であり、yは0以上2以下の整数である。また、(x+y)=3である。)]
16.前項1〜14のいずれかに記載の自己傾斜型光触媒組成物を成形して得られる変性光触媒粒子の分布に関して異方性を有する成形体。
17.前項1〜15のいずれかに記載の自己傾斜型光触媒組成物を含む皮膜を基材上に形成して得られる機能性複合体であって、該皮膜が変性光触媒の分布に関して異方性を有することを特徴とする機能性複合体。
18.光照射により親水性あるいは疎水性及び/又は光触媒活性を発現することを特徴とする前項16に記載の成形体。
19.光照射により親水性あるいは疎水性及び/又は光触媒活性を発現することを特徴とする前項17に記載の機能性複合体。
20.光電変換機能を発現することを特徴とする前項16に記載の成形体。
21.光電変換機能を発現することを特徴とする前項17に記載の機能性複合体。
また本発明の機能性複合体および成形体は、その表面において変性光触媒が十分な効果を示すため、表面への汚れの付着や曇りが効果的に防止される。
本発明の自己傾斜型光触媒組成物における変性光触媒粒子は、光触媒粒子を、後述する少なくとも1種の変性剤化合物を用いて変性処理することによって得られる。
本発明において変性とは、後述する少なくとも1種の変性剤化合物を、光触媒粒子の表面に固定化することを意味する。上記の変性剤化合物を光触媒粒子の表面への固定化はファン・デル・ワールス力(物理吸着)やクーロン力または化学結合によるものと考えられる。特に、化学結合を利用した変性は、変性剤化合物と光触媒との相互作用が強く、変性剤化合物が光触媒粒子の表面に強固に固定化されるので好ましい。
また、Ti、Nb、Ta、Vから選ばれた少なくとも1種の元素を有する層状酸化物(特開昭62−74452号公報、特開平2−172535号公報、特開平7−24329号公報、特開平8−89799号公報、特開平8−89800号公報、特開平8−89804号公報、特開平8−198061号公報、特開平9−248465号公報、特開平10−99694号公報、特開平10−244165号公報等参照)を用いることもできる。
これらの光触媒のうち、TiO2 (酸化チタン)は無毒であり、化学的安定性にも優れるため好ましい。酸化チタンには、アナターゼ型、ルチル型、ブルッカイト型の3つの結晶形が知られているが、これらのうちのいずれを使用してもよい。
上記光触媒の結晶粒子径(1次粒子径)は1〜200nm、であることが好ましく、より好ましくは1〜50nmである。
本発明で好適に使用できる光触媒ゾルとしては、平均粒子径が、体積平均粒子径で400nm以下のものが変性後の光触媒の表面特性を有効に利用できるために望ましい。
また平均粒子径が、体積平均粒子径で、200nm以下の光触媒ゾルを使用した場合、生成する変性光触媒ゾルからは透明な被膜を得ることができるため非常に好ましい。より好ましくは平均粒子径が、体積平均粒子径で、1〜100nm、さらに好ましくは3〜20nmの光触媒ゾルが好適に使用される。
上記酸化チタンヒドロゾル中の固形分は50重量%以下、好ましくは30重量%以下である。さらに好ましくは30重量%以下0.1重量%以上である。このようなヒドロゾルの粘度(20℃)は比較的低い。本発明においては、ヒドロゾルの粘度は、2000cps〜0.5cps程度の範囲にあればよい。好ましくは1000cps〜1cps、さらに好ましくは500cps〜1cpsである。
また、例えば酸化セリウムゾル(特開平8−59235号公報参照)やTi、Nb、Ta、Vよりなる群から選ばれた少なくとも1種の元素を有する層状酸化物のゾル(特開平9−25123号公報、特開平9−67124号公報、特開平9−227122号公報、特開平9−227123号公報、特開平10−259023号公報等参照)等、様々な光触媒ゾルの製造方法についても酸化チタンゾルと同様に知られている。
また、上述した光触媒ゾルを用いると、これをそのまま上記の変成剤化合物で変性することによって、本発明の変性光触媒ゾルを直接に得ることができるので好ましい。
−(R1 R2 SiO)− (1)
(式中、R1 、R2 は各々独立して水素原子、直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、又は置換されていないか又は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基を表す)、
−(CF2 )− (3)
また、式(3)で表されるジフルオロメチレン単位を有する変成剤化合物を用いた場合、本発明の変性光触媒ゾルまたは後述する本発明の変性光触媒組成物からは、光触媒活性を有する、非常に疎水性の高い皮膜や成形体を得ることが可能となる。
増感色素としては、例えばキサンテン系色素、オキソノール系色素、シアニン系色素、メロシアニン系色素、ローダシアニン系色素、スチリル系色素、ヘミシアニン系色素、フタロシアニン系色素(金属錯体を含む)、ポルフィリン系色素(金属錯体を含む)、トリフェニルメタン系色素、ペリレン系色素、コロネン系色素、アゾ系色素、ニトロフェノール系色素、さらには特開平1−220380号公報や特表平5−504023号公報に記載のルテニウム、オスミウム、鉄、亜鉛の錯体や、他にルテニウムレッド等の金属錯体を挙げることができる。
上記の増感色素に由来する分光増感基を有する変成剤化合物を得る方法には特に限定はないが、後述する反応性基を有する変成剤化合物と、この反応性基と反応性を有する増感色素を反応させることによって得ることができる。
また、本発明において用いる変性剤化合物は、エポキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイル基、酸無水物基、ケト基、カルボキシル基、ヒドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、水酸基、アミノ基、環状カーボネート基、エステル基からなる群より選ばれる少なくとも1つの反応性基を含有することが好ましい。
上記反応性基を有する変性剤化合物を用いて得られた変性光触媒ゾルは架橋性を有し、耐久性等に優れた皮膜を形成することができるので好ましい。
−NR12NH2 (6)
(式中、R12は水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基を表す。)
また、本発明で用いる変性剤化合物は、水中で自己乳化性又は溶解性を示す化合物であることが好ましい。そのような変成剤化合物は、親水性基を導入することによって得ることができる。親水性基の例としては、カルボキシル基あるいはその塩、リン酸基あるいはその塩、スルホン酸基あるいはその塩、ポリオキシアルキレン基が挙げられる。親水性基を有する変成剤化合物を用いると、得られる変性光触媒の水に対する分散安定性が非常に良好なものとなるため、本発明の体積平均粒子径が800nm以下の変性光触媒ゾル(ヒドロゾル)を容易に得ることができるので好ましい。
−CH2 CH2 CH2 O(CH2 CH2 O)m R7 (7)
(式中、mは1〜1000の整数を表す。R7 は、水素原子或いは直鎖状または分岐状の炭素数1〜30個のアルキル基を表す。)
HNR9 R10R11
(R9 、R10、R11は、それぞれ独立して、水素原子、又は置換されていないか或いは水酸基で置換されている直鎖状または分岐状の炭素数1〜20のアルキル基を表す。)]
HNR9 R10R11
(R9 、R10、R11は、それぞれ独立して、水素原子、又は置換されていないか或いは水酸基で置換されている直鎖状または分岐状の炭素数1〜20のアルキル基を表す。)]
これらの例としては、例えば平均組成式(4)で表される少なくとも1つの水素原子が結合した少なくとも1つのケイ素原子を包含する化合物(以下、屡々「Si−H基含有ケイ素化合物」と称す)や該Si−H基含有ケイ素化合物と下記式(5' )で表されるビニルシリコーン化合物とを反応させた生成物、さらには平均組成式(10)で表される加水分解性シリル基含有ケイ素化合物を挙げることができる。
Hp Rq Qr Xs SiO(4-p-q-r-s)/2 (4)
(1) 直鎖状または分岐状の炭素数1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、置換されていないか又は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも1 つの置換基で置換されている炭素数6〜20のアリール基、及び炭素数1〜30のフルオロアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも1つの疎水性基、
(2) カルボキシル基及びその塩、リン酸基及びその塩、スルホン酸基及びその塩、及びポリオキシアルキレン基からなる群より選ばれる少なくとも1つの親水性基、
(3) エポキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイル基、酸無水物基、ケト基、ヒドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、水酸基、アミノ基、環状カーボネート基、及びエステル基からなる群より選ばれる少なくとも1つの反応性基、及び
からなる群より選ばれる少なくとも1つの機能性付与基を含有する基を表し、
Xは、炭素数1〜20のアルコキシ基、水酸基、ヒドロキシイミノ基、エノキシ基、アミノ基、アミド基、炭素数1〜20のアシロキシ基、アミノキシ基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも1つの加水分解性基を表し、0<p<4、0<q<4、0≦r<4、0≦s<2、
及び(p+q+r+s)<4である。]
CH2=CH-(R1R1SiO)e -(R1R1Si)-CH=CH2 (5' )
(式中、R1 は直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、もしくは置換されていないか或いは炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基から選ばれた1種もしくは2種以上からなる炭化水素基を表す。eは1以上10000以下の整数を表す。)
(式中、Rは、直鎖状または分岐状の炭素数1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、及び置換されていないか又は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基からなる群より選ばれる少なくとも1つの炭化水素基を表し、
X’は、炭素数1〜20のアルコキシ基、水酸基、エノキシ基、炭素数1〜20のアシロキシ基、アミノキシ基、炭素数1〜20のオキシム基からなる群より選ばれる少なくとも1つの加水分解性基を表し、
0<q<4、0<s<4、及び0<(q+s)≦4である。)
また、本発明の変性光触媒ゾルを得るのに使用される上式(3)で表される構造単位を有する化合物としては、例えばSi−H基、加水分解性シリル基(アルコキシシリル基、ヒドロキシシリル基、ハロゲン化シリル基、アセトキシシリル基、アミノキシシリル基等)、エポキシ基、アセトアセチル基、チオール基、酸無水物基等の光触媒粒子と化学結合の生成が期待できる反応性基やポリオキシアルキレン基等の光触媒粒子との親和性が期待できる親水性基を有する、炭素数1〜30のフルオロアルキル化合物や数平均分子量100〜1,000,000のフルオロアルキレン化合物を挙げることができる。
CF3 (CF2 )g −Y−(V)w (11)
(式中、gは0〜29の整数を表す。Yは分子量14〜50000のw価の有機基を表す。wは1〜20の整数である。
Vは、エポキシ基、水酸基、アセトアセチル基、チオール基、酸無水物基、カルボキシル基、スルホン酸基、ポリオキシアルキレン基、及び下式で表される基からなる群から選ばれた少なくとも1つの官能基を表す。
−SiWx Ry
(式中、Wは炭素数1〜20のアルコキシ基、水酸基、炭素数1〜20のアシロキシ基、ハロゲン原子、水素原子、炭素数1〜20のオキシム基、エノキシ基、アミノキシ基、アミド基から選ばれた少なくとも1種の基を表す。
Rは、直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、及び置換されていないか或いは炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基から選ばれる少なくとも1種の炭化水素基を表す。
xは1以上3以下の整数であり、yは0以上2以下の整数である。
また、(x+y)=3である。))
mは10以上1, 000, 000以下の整数であり、nは0以上1, 000, 000以下の整数を表す。
Yは分子量14〜50, 000のw価の有機基を表す。wは1〜20の整数である。Vは、式(11)で定義した通り。)
さらに、本発明の変性光触媒ゾルを得るのに使用される上式(1)及び/又は上式(2)と上式(3)で表される構造単位を有する変成剤化合物としては、例えばフルオロアルキル基とSi−H基、加水分解性シリル基(アルコキシシリル基、ヒドロキシシリル基、ハロゲン化シリル基、アセトキシシリル基、アミノキシシリル基等)、エポキシ基、アセトアセチル基、チオール基、酸無水物基等の光触媒粒子と化学結合の生成が期待できる反応性基を有するケイ素化合物等を挙げることができる。
ここで上記変性を行う場合、使用できる有機溶媒としては、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミド、アセトン、メチルエチルケトン、エチレングリコール、ブチルセロソルブ、エタノール、メタノール等の親水性有機溶媒、及びトルエン、キシレン、ヘキサン等の疎水性有機溶媒が挙げられる。
本発明の変性光触媒ゾルを得るのに好ましい方法は、体積平均粒子径200nm以下、好ましくは体積平均粒子径が1〜100nmの光触媒(A)粒子を含む光触媒ゾルを使用し、変成剤化合物で前述した方法により変性する方法である。このような体積平均粒子径が比較的小さい光触媒粒子を含む光触媒ゾルは、例えば、光触媒として酸化チタンを例にとると、含水酸化チタンを塩酸、硝酸、アンモニア等の存在下で解膠させて、水熱処理をすることによって光触媒ゾルを得る際に、例えば、水熱処理の時間を調節することによって得ることができる。その際、水熱処理時間が短いほど体積平均粒子径の小さいものが得られる。
すなわち、本発明の変性光触媒ゾルとして好ましい形態は、体積平均粒子径が800nm以下である分散粒子が、光触媒部分を有し、該光触媒部分の体積平均粒子径が200nm以下のものである。(この様な形態は、例えば0.01重量%以下に希釈した変性光触媒ゾルから作成したサンプルのTEM観察等によって確認できる。)さらに、この様な形態が長期に持続する変性光触媒ゾル(例えば、30℃で100日の静置保存によっても体積平均粒子径が800nm以下を保つ等)は、それから得られる皮膜の物性等が安定しており、非常に好ましい。
この様な変性光触媒ゾルを得るのに有用な変成剤化合物としては、例えば前述したSi−H基含有ケイ素化合物を挙げることができる。
これらのことより、変成剤化合物としてSi−H基含有ケイ素化合物を選択した場合は、本発明の変性光触媒ゾルは、光触媒とSi−H基含有ケイ素化合物の単なる混合物ではなく、化学結合等の何らかの相互作用をもったものであることが予測できるため非常に好ましい。実際、この様にして得られた変性光触媒ゾルは、分散安定性や化学的安定性、耐久性等が非常に優れた物となる。
[式中、R1 は式(1)で定義した通りであり、Qは式(4)で定義した通りであり、aは1以上の整数であり、b、cは0又は1以上の整数であり、(a+b+c)≦10000であり、そしてdは0又は2であり、但し、(a+b+c)が2以上の整数であり且つd=0の場合、式(5)で表される化合物は環状シリコーン化合物であり、d=2の場合、式(5)で表される化合物は鎖状シリコーン化合物である。]
上記平均組成式(4)のSi−H基含有ケイ素化合物の他の例として、分子中に下記一般式(4’)で表される繰り返し単位、下記一般式(4’’)で表される繰り返し単位、末端基Aを各々有し、該末端基Aが1つの酸素原子を介して繰り返し単位中の珪素原子に結合しているシリコーン化合物等も挙げることができる。
(1) 直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、もしくは置換されていないか或いは炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基、及び炭素数1〜30のフルオロアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも1つの疎水性基。
(2) カルボキシル基あるいはその塩、リン酸基あるいはその塩、スルホン酸基あるいはその塩、ポリオキシアルキレン基からなる群から選ばれた少なくとも1つの親水性基。
(3) エポキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイル基、(環状)酸無水物基、ケト基、カルボキシル基、ヒドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、水酸基、アミノ基、環状カーボネート基、エステル基からなる群から選ばれた少なくとも1つの反応性基。
(4) 少なくとも1つの分光増感基。
また、式(4’)及び式(4’’)で表される繰り返し単位を有する化合物は、少なくとも1個のSi−H基を有する。]
Z−SiR4 R5 R6 (13)
(R4 、R5 、R6 は同じであっても異なっていてもよく、水素原子または直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、もしくは置換されていないか或いは炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基から選ばれた炭化水素基を表す。Zはハロゲン原子又は水酸基を表す。)
また、上記平均組成式(4)で表されるSi−H基含有ケイ素化合物として、機能性付与基含有基(Q)を有するものを選択すると、本発明で得られる変性光触媒ゾルに種々の機能を付与できるため好ましい。機能性付与基含有基(Q)は下記式で表される基であることが好ましい。
−Y−(Z)w
(式中、Yは分子量14〜50,000のW価の有機基を表し、Zは上記機能性付与基(1)〜(4)からなる群から選ばれる少なくとも1つであり、Wは1〜20の整数である。)
ここで、上記親水性基の好ましい具体例として、例えば上記式(7)で表されるポリオキシエチレン基や上記式(8)で表されるスルホン酸基あるいはその塩、さらには上記式(9)で表されるカルボキシル基あるいはその塩等を挙げることができる。
また、例えば機能性付与基含有基(Q)として、エポキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイル基、酸無水物基、ケト基、カルボキシル基、ヒドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、水酸基、アミノ基、環状カーボネート基、エステル基からなる群から選ばれた少なくとも1つの反応性基(式(4)中の(3) )を含有する基を選択すると本発明の変性光触媒ゾルは架橋性を有し、耐久性等に優れた被膜を形成することができるので好ましい。
また、例えば機能性付与基含有基(Q)として、上記した分光増感基(式(4)中の(4) )を有するものを選択すると、本発明の変性光触媒ゾルは、紫外線領域だけでなく、可視光領域及び/又は赤外光領域の光の照射によっても触媒活性や光電変換機能を発現することができる。
上記機能性付与基含有基(Q)は、上述したものから少なくとも1種以上を選択して用いることができる。特に、変性する光触媒として光触媒ヒドロゾルを選択した場合、親水性基(式(4)中の(2) )と他の機能性付与基(式(4)中の(1) 、(3) 、(4) )を併用した系は、生成する機能性付与基を有する変性光触媒ゾルの安定性が良好となるため好ましい。
(a)下記平均組成式(14)で表されるSi−H基含有化合物と、機能性付与基(式(4)中の(1) 〜(4) )を有する炭素−炭素不飽和結合化合物をヒドロシリル化反応させる方法、
(b)下記平均組成式(14)で表されるSi−H基含有化合物と、反応性基(式(4)中の(3))を有する炭素−炭素不飽和結合化合物をヒドロシリル化反応させて反応性基を有するSi−H基含有化合物を得た後、該反応性基と反応性を有する機能性付与基含有化合物を反応させる方法が挙げられる。
Hp Rq Qr Xs SiO(4-p-q-r-s)/2 (4a)
(式中、R、Q、及びXは式(4)で定義した通り。0<p<4、0<q<4、0<r<4、0≦s<2であり、(p+q+r+s)<4である。)
H(p+r) Rq Xs SiO(4-p-q-r-s)/2 (14)
(式中、R及びXは式(4)で定義した通り。0<p<4、0<q<4、0<r<4、0≦s<2であり、(p+q+r+s)<4である。)
(a)−方法において、上記式(14)で表されるSi−H基含有化合物に、機能性付与基として直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、もしくは置換されていないか或いは炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基から選ばれた疎水性基を導入する場合に用いる炭素−炭素不飽和結合化合物としては、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、1−オクテン、イソブテン、2−メチル−1−ブテン、2−ヘキセン、シクロヘキセン、5−ノルボルネンの如きオレフィン類、酢酸アリル、プロピオン酸アリル、2−エチルヘキサン酸アリル、安息香酸 アリル等のアリルエステル類、アリルメチルエーテル、アリルエチルエーテル、アリル−n−ヘキシルエーテル、アリルシクロヘキシルエーテル、アリル−2−エチルヘキシルエーテル、アリルフェニルエーテル等のアリルエーテル類、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸フェニル等の(メタ)アクリル酸エステル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ステアリン酸ビニル、安息香酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等のビニルエーテル類、スチレン、(メタ)アクリロニトリル、クロトン酸エステル類等の炭素−炭素不飽和結合化合物等が挙げられる。これらのうち、末端オレフィン類、5−ノルボルネン類、アリルエステル類、アリルエーテル類が反応性の面で好ましい。
−(CF2 )g CF3 (15)
(式中、gは0〜29の整数を表す。)
上記式(14)で表されるSi−H基含有化合物に親水性基を導入するのに用いる炭素−炭素不飽和結合化合物としては、カルボキシル基あるいはその塩、リン酸基あるいはその塩、スルホン酸基あるいはその塩、ポリオキシアルキレン基、環状酸無水物からなる群から選ばれた少なくとも1つの親水性基を有するオレフィン類、アリルエーテル類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、(メタ)アクリル酸エステル類、スチレン誘導体等が挙げられる。
CH2 =CHCH2 O(CH2 CH2 O)m R7 (16)
(式中、mは1〜1、000の整数を表す。R7 は、水素原子或いは直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のアルキル基を表す。)
HNR9 R10R11
(R9 、R10、R11は、それぞれ独立して、水素原子、又は置換されていないか或いは水酸基で置換されている直鎖状または分岐状の炭素数1〜20のアルキル基を表す。))
また、上記式(14)で表されるSi−H基含有化合物に反応性基を導入するのに用いる炭素−炭素不飽和結合化合物としては、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、酸無水物基、ケト基、カルボキシル基、ヒドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、水酸基、アミノ基、環状カーボネート基、エステル基からなる群から選ばれた少なくとも1種の反応性基を有するオレフィン類、アリルエーテル類、アリルエステル類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、(メタ)アクリル酸エステル類、スチレン誘導体等が挙げられる。
また、上記式(14)で表されるSi−H基含有化合物に分光増感基を導入するのに用いる炭素−炭素不飽和結合化合物としては、前述した分光増感基を有するオレフィン類、アリルエーテル類、アリルエステル類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、(メタ)アクリル酸エステル類、スチレン誘導体等が挙げられる。これらは、例えば前述した反応性基を有する炭素−炭素不飽和結合化合物と、該反応性基と反応性を有する増感色素との反応によって容易に得ることができる。
(b)−方法において使用される反応性基を有する炭素−炭素不飽和結合化合物としては、(a)−方法において述べたものを挙げることができる。また、上記平均組成式(14)で表されるSi−H基含有化合物と該反応性基を有する炭素−炭素不飽和結合化合物とのヒドロシリル化反応は、(a)−方法で述べたヒドロシリル化反応と同じ条件で実施することができる。
(b)−方法によると、上記ヒドロシリル化反応によって下記式(18)で表される平均組成を有する、反応性基を有するSi−H基含有ケイ素化合物を得ることができる。
Hp Rq Q3 r Xs SiO(4-p-q-r-s)/2 (18)
(式中、R及びXは式(4)で定義した通りであり、Q3 は、エポキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイル基、酸無水物基、ケト基、ヒドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、水酸基、アミノ基、環状カーボネート基、エステル基からなる群から選ばれた少なくとも1つの反応性基を有する1価の基を表し、0<p<4、0<q<4、0≦r<4、0≦s<2であり、(p+q+r+s)<4である。)
本発明の変性光触媒ゾルにおいて、上述した機能性付与基を有する変性光触媒ゾルを得る方法としては、
(I)光触媒ゾルを、上記平均組成式(4a)で表される機能性付与基を有するSi−H基含有化合物を用い、前述した方法で変性する方法、
(II)光触媒ゾルを、上記平均組成式(18)で表される反応性基を有するSi−H基含有ケイ素化合物で変性した後、同じく前述した該反応性基と反応性を有する機能性付与基含有化合物を反応させる方法を挙げることができる。
ところで、上述した平均組成式(4)で表されるSi−H基含有ケイ素化合物による光触媒の変性は、Si−H基に対し脱水素縮合触媒として働く物質が光触媒に固定された状態において0〜100℃で実施するのがより好ましい。
この場合、あらかじめ光還元法等の方法で脱水素縮合触媒として働く物質を光触媒に固定し、Si−H基含有ケイ素化合物で変性しても良いし、脱水素縮合触媒として働く物質の存在下にSi−H基含有ケイ素化合物で光触媒を変性しても良い。後者の場合、脱水素縮合触媒として働く物質は物理吸着や光還元によって光触媒に固定されSi−H基含有ケイ素化合物で変性されることになる。
該Si−H基に対し脱水素縮合触媒として働く物質としては、例えば白金族触媒、すなわちルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金の単体及びその化合物や、銀、鉄、銅、コバルト、ニッケル、錫等の単体及びその化合物が挙げられる。これらの中で白金族触媒が好ましく、白金の単体及びその化合物が特に好ましい。
まず、白金溶液を光触媒ゾル溶液に固形分として0.001〜5重量%を添加する。ここで白金溶液のpHを光触媒ゾル溶液とほぼ同じにし、光触媒ゾルの溶液中のゼータ電位をなるべく変化させないようにすることにより、光触媒ゾルの単分散性を維持することが好ましい。
ここで白金溶液とは白金を含む塩と溶媒からなる溶液をいう。白金を含む塩としては、例えば塩化白金(II)、テトラクロロ白金(II)酸、塩化白金(IV)、ヘキサクロロ白金(IV)酸、ヘキサクロロ白金(IV)酸アンモニウム、ヘキサクロロ白金(IV)酸カリウム、水酸化白金(II)、二酸化白金(IV)、ジクロロ−ジシクロペンタジエニル−白金(II)、白金−ビニルシロキサン錯体、白金−ホスフィン錯体、白金−オレフィン錯体等を使用することができる。また溶媒としては水、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエン等が使用できる。白金溶液における、白金を含む塩の濃度は、0.001〜80重量%が好ましい。
光の照射方法も基本的には問わないが、容器として透明のものを用いる場合でも容器の壁面が光を吸収するため、容器の開口部から光を照射するほうがよい。 光源と容器との距離は数cm〜数10cm程度がよい。近すぎると光源から発する熱により試料溶液の上面が乾くおそれがあり、遠すぎると照度が低下するからである。照射時間は光源の照度により異なるが数秒〜数10分程度照射すれば白金が光触媒粒子に強固に付着する。
本発明の変性光触媒ゾルにおける、変性光触媒粒子の平均粒子径は、体積平均粒子径で、800nm以下である。なおこの平均粒子径は、本発明の変性光触媒ゾル中に分散している状態における平均粒子径を指すものであり、変性光触媒ゾル中から分離された状態における平均粒子径ではない。
変性光触媒粒子の平均粒子径が800nmより大きいと、該変性光触媒ゾルの分散安定性が悪く、変性光触媒ゾル自体はもとより、変性光触媒ゾルと樹脂とを包含する変性光触媒組成物でさえコーティング剤として用いることができない。 本発明において、変性光触媒ゾルの分散安定性をさらに優れたものにし、成膜性等の種々の機能が効率的に発現されるようにするためには、変性光触媒粒子の平均粒子径が、体積平均粒子径で400nm以下であることが好ましく、より好ましくは200nm以下、さらに好ましくは1nm以上100nm以下、特に好ましくは5nm以上80nm以下である。
なお、従来、二酸化チタンなどで単に粒径として表示されている数値は、多くの場合一次粒子径であり、凝集による二次粒子径を考慮した数値ではない。
液体媒体の種類には特に限定はないが、水及び/又有機溶媒を用いることができる。使用できる有機溶媒としては、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミド、アセトン、メチルエチルケトン、エチレングリコール、ブチルセロソルブ、エタノール、メタノール等の親水性有機溶媒、及びトルエン、キシレン、ヘキサン等の疎水性有機溶媒が挙げられる。
(i)水系の変性光触媒ゾルに有機溶媒を添加した後、水を減圧あるいは常圧下で加熱除去する方法、
(ii)水系の変性光触媒ゾルの水を減圧あるいは常圧下で加熱除去した後、有機溶媒を添加する方法、
(iii)水系の変性光触媒ゾル中の変性光触媒を有機溶媒で溶媒抽出する方法等が挙げられる。
本発明における光触媒組成物は、上記変性光触媒ゾル(C)と機能性物質(D)の固形分重量比(C)/(D)=0.0001〜100であることが好ましい。また、(C)/(D)=0.001〜10の割合からなることがより好ましい。
上記機能性物質として樹脂を用いる場合に関して以下に説明する。
本発明の光触媒組成物に使用できる樹脂としては、全ての合成樹脂及び天然樹脂が使用可能である。また、その形態については、ペレットであっても溶媒に溶解あるいは分散した形態であっても良く、特に制限はないが、コーティング用としての樹脂塗料の形態が最も好ましい。
これらの樹脂塗料の中で、光触媒に対し難分解性であるシリコン系樹脂やフッ素系樹脂、さらにはシリコン系樹脂とフッ素系樹脂の併用系の樹脂塗料が好ましく用いられる。
これらのうち、トリアルコキシシラン類、ジアルコキシシラン類が好ましく、またトリアルコキシシラン類としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシランが好ましく、またジアルコキシシラン類としては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシランが好ましい。また、これらのアルコキシシラン及び/又はオルガノアルコキシシランは、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
また、上記フッ素系樹脂としては、例えばPTFEやポリフッ化ビニリデン、さらにはフッ素含有量1〜80重量%のアクリル−フッ素樹脂、エポキシ−フッ素樹脂、ウレタン−フッ素樹脂やフルオロオレフィンと炭素−炭素不飽和化合物(ビニルエーテル類、ビニルエステル類、アリル化合物、(メタ)アクリル酸エステル類等)との共重合体等が挙げられる。これらのフッ素系樹脂は、溶剤に溶けたタイプ、分散タイプ、粉体タイプのいずれであっても良く、また架橋剤、触媒等の添加剤が含まれていても良い。
上記ポリヒドラジン化合物としては、ポリヒドラジド化合物、ポリセミカルバジド化合物、炭酸ポリヒドラジド類等が挙げられる。
これらの中で好ましいポリヒドラジン化合物としては、アジピン酸ジヒドラジドや、国際出願公開公報第WO96/01252号明細書で提案されているポリセミカルバジド誘導体を挙げることができる。
これらの中で好ましいポリカルボニル化合物は、カルボニル基含有エチレン性不飽和単量体(イ)と、該単量体(イ)と共重合可能なエチレン性不飽和単量体(ロ)とを共重合することによって得られるカルボニル基を含有する共重合体であり、さらに好ましくはポリカルボニル化合物が、カルボニル基含有エチレン性不飽和単量体(イ)0.1〜30重量%と、該単量体(イ)と共重合可能なエチレン性不飽和単量体(ロ)70〜99.9重量%とを共重合することによって得られるカルボニル基を含有する共重合体である。
カルボニル基含有エチレン性不飽和単量体(イ)としては、ダイアセトンアクリルアミド、ダイアセトンメタクリルアミド、アクロレイン、ビニルメチルケトン、アセトアセトキシエチルメタクリレート、アセトアセトキシエチルアクリレート、ホルミルスチロール等や、その併用が挙げられる。
(メタ)アクリル酸エステルの具体例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸メチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ドデシル等が挙げられる。(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの具体例としては、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシシクロヘキシル等が挙げられる。
(ポリ)オキシエチレンジ(メタ)アクリレートの具体例としては、ジ(メタ) アクリル酸エチレングリコール、ジ(メタ) アクリル酸ジエチレングリコール、ジ(メタ) アクリル酸テトラエチレングリコール等が挙げられる。
エポキシ基を持つエチレン性不飽和単量体類として具体的には、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸2,3−エポキシシクロヘキシル、アリルグリシジルエーテル等が挙げられる。
上記ポリカルボニル化合物を得るに当たって、ラジカル重合触媒として、熱または還元性物質などによってラジカル分解してエチレン性不飽和単量体の付加重合を起こさせるもので、水溶性または油溶性の過硫酸塩、過酸化物、アゾビス化合物等が使用される。その例としては、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素、t−ブチルハイドロパーオキサイド、t−ブチルパーオキシベンゾエート、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)ハイドロクロライド、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)等があり、その量としてはエチレン性不飽和単量体に対して通常0.1〜1重量%配合される。
通常は常圧下、65〜90℃の重合温度で実施されるのが好ましいが、モノマーの重合温度における蒸気圧等の特性に合わせ、高圧下でも実施することができる。なお、重合速度の促進、及び70℃以下での低温の重合を望まれるときには、例えば重亜硫酸ナトリウム、塩化第一鉄、アスコルビン酸塩、ロンガリット等の還元剤をラジカル重合触媒と組み合わせて用いると有利である。さらに分子量を調節するために、ドデシルメルカプタン等の連鎖移動剤を任意に添加することも可能である。
また、上記自己傾斜型の変性光触媒組成物において、本発明の変性光触媒の自己傾斜機能を発揮する要因の1つは、上記(1)〜(3)の構造単位由来の低い表面エネルギーであると考えられる。よって本発明の自己傾斜型の変性光触媒組成物に使用される機能性物質は、その表面エネルギーが変性光触媒よりも大きい化合物であることが必要であり、表面エネルギーが変性光触媒よりも2ダイン/cm以上大きいものが好ましい。
また、本発明の上記自己傾斜型の変性光触媒組成物に用いることができる高表面エネルギー化合物としては、そのもの自体が組成物であり、その組成物のうちの変性光触媒に対する難分解性である成分の濃度が、皮膜や成形体の内部から表面に向かって高くなるような傾斜構造をとることができるシリコン系樹脂組成物及び/又はフッ素系樹脂組成物が好ましく用いられる。
また、自己傾斜型の変性光触媒組成物の形態については、ペレットであっても溶媒に溶解あるいは分散した形態であっても良く、特に制限はないが、コーティング用としての樹脂塗料の形態が最も好ましい。
また、該自己傾斜型の変性光触媒組成物から得られる、変性光触媒粒子が内部から表面側に向かって多くなるような濃度勾配を有する構造を有する皮膜は基材との密着性に優れ非常に耐久性の良好な光触媒能を有する機能性複合体を提供することができる。
本発明において、上記変性光触媒ゾルや該変性光触媒ゾルと機能性物質とからなる変性光触媒組成物、あるいは該変性光触媒ゾル中の変性光触媒とそれより表面エネルギーが大きい化合物とを含有する自己傾斜型の変性光触媒組成物から皮膜や成形体を得る方法としては、例えばそれらの形態が塗料の場合は、基材に塗布し、乾燥した後、必要に応じ熱処理等をする事により、光照射により疎水性あるいは親水性及び/又は光触媒活性、さらには光電変換機能を有する機能性複合体を得ることができる。塗布方法としては、例えばスプレー吹き付け法、フローコーティング法、ロールコート法、刷毛塗り法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、スクリーン印刷法、キャスティング法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法等が挙げられる。
本発明の変性光触媒ゾルあるいは変性光触媒組成物(自己傾斜型を含む)から得られる皮膜や成形体は、それに含まれる光触媒のバンドギャップエネルギーよりも高いエネルギーの光(該変性光触媒が増感色素を有する場合は、該増感色素の吸収光を含む光)を照射することにより疎水性あるいは親水性及び/又は光触媒活性、さらには光電変換機能を示す。
この際、本発明の変性光触媒ゾルもしくは変性光触媒組成物(自己傾斜型を含む)から得られる皮膜や成形体は、それらに含まれる変性光触媒の変性光触媒周辺には光触媒の分解作用で分子骨格が分解されない構造単位(上記式(1)〜(3)の構造単位)を有する変性剤化合物が存在するため、バインダーあるいは構造材としての樹脂を光触媒作用で劣化することがない。
また、上記式(3)で表される構造単位を有する変成剤化合物を用いた場合、該変性光触媒ゾルあるいは変性光触媒組成物(自己傾斜型を含む)からは、非常に疎水性の高い皮膜や構造材料を得ることも可能である。
また、本発明の変性光触媒ゾルあるいは変性光触媒組成物(自己傾斜型を含む)には、必要により通常塗料等に添加配合される成分、例えば顔料、充填剤、分散剤、光安定剤、湿潤剤、増粘剤、レオロジーコントロール剤、消泡剤、可塑剤、成膜助剤、防錆剤、染料、防腐剤等がそれぞれの目的に応じて選択、組み合わせて配合することができる。
本発明において、上記変性光触媒ゾルや変性光触媒組成物(自己傾斜型を含む)から形成される成形体、及び上記変性光触媒ゾルや変性光触媒組成物(自己傾斜型を含む)を含む皮膜を基材上に形成して得られる機能性複合体は、光照射により疎水性あるいは親水性及び/又は光触媒活性、さらには光電変換機能を発現することが可能である。即ち、本発明の別の態様においては、上記変性光触媒ゾルや変性光触媒組成物(自己傾斜型を含む)から形成される成形体や、上記変性光触媒ゾルや変性光触媒組成物(自己傾斜型を含む)を含む皮膜を基材上に形成して得られる機能性複合体が提供される。
本発明によって提供される上記成形体又は機能性複合体であって、光照射により20℃における水との接触角が60゜以下(好ましくは10゜以下)となった親水性のもの(親水性の成形体や親水性膜、及び該親水性膜で被覆された基材等)は、鏡やガラスの曇りを防止する防曇技術、さらには建築外装等に対する防汚技術や帯電防止技術等への応用が可能であり、窓ガラス、鏡、レンズ、ゴーグル、カバー、碍子、建材、建物外装、建物内装、構造部材、乗物の外装及び塗装、機械装置や物品の外装、各種表示装置、照明装置、住宅設備、食器、台所用品、家庭用電気製品、磁気光記録メディアや光記録メディア等の用途に使用することができる。
本発明によって提供される上記成形体又は機能性複合体であって光電変換機能を有するものは、太陽エネルギーの電力変換等の機能を発現することが可能であり、(湿式)太陽電池等に用いる光半導体電極等の用途に使用することができる。
また、本発明によって提供される、光照射によって水との濡れ性が変化(疎水性から親水性への変化、あるいは親水性から疎水性への変化)する部材は、オフセット印刷用原版等への応用に対し非常に有用である。
実施例、参考例及び比較例中において各種の物性は下記の方法で測定した。
(1) 平均粒子径(体積平均粒子径)
試料中の固形分の含有量が1−20wt%となるよう適宜溶媒を加えて希釈し、湿式粒度分析計(日機装製マイクロトラックUPA−9230)を用いて測定した。
(2) 重量平均分子量
ジメチルシリコーン標品を用いて作成した検量線を用い、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によって求めた。
GPCの条件は以下の通りである。
・装置:東ソー製HLC−8020LC−3A型クロマトグラフ
・カラム:TSKgelG1000HXL、TSKgelG2000HXLおよびTSKgelG4000HXL(いずれも東ソー製)を直列に接続して用いた。
・データ処理装置:島津製作所製CR−4A型データ処理装置
・移動相:クロロホルム
・流速:1.0ml/min.
・サンプル調製法
クロロホルム溶液(濃度は0.5〜2重量%の範囲で適宜調節した)として分析に供した。
日本分光製FT/IR−5300型赤外分光計を用いて測定した。
(4) 粘度
ブルックフィールド粘度計を用い、ローターNo.2、回転数60rpm、20℃の条件で測定した。
(5) 皮膜(または成形体)の表面エネルギー
下記(7) の方法で測定した、皮膜(または成形体)表面に対する水の接触角(θ)より、下記のSellとNeumannの実験式に従って算出した。
オーバーヘッドプロジェクター用フィルム(以降「OHPフィルム」と称する)上に膜厚が20μmとなるように変性光触媒組成物をキャストし、室温で2日間乾燥した後、50℃で3日間加熱乾燥することにより、OHPフィルム表面に平滑な皮膜を形成させた。
このOHPフィルムを、日新EM社製Quetol 812セットを用いてエポキシ樹脂内に包埋した後、皮膜ごと切断し、その断面をエネルギー分散型X線分光光度計(日本フィリップス製DX−4型X線分光光度計)を用いて分析し、皮膜中の各位置における光触媒の含有量を測定することにより行った。
(7) 皮膜(または成形体)表面に対する水の接触角
皮膜(または成形体)の表面に脱イオン水の滴を乗せ、20℃で1分間放置した後、協和界面科学製CA−X150型接触角計を用いて測定した。
皮膜(または成形体)に対する水の接触角が小さいほど、皮膜(または成形体)表面は親水性が高い。
(8) 紫外線照射前後の、皮膜(または成形体)表面の親水性又は疎水性の変化
皮膜(または成形体)の表面に、東芝ライテック製FL20SBLB型ブラックライトの光を1日間または3日間照射後、上記(7)の方法にて水の接触角を測定し、照射前のそれと比較した。
なおこのとき、トプコン製UVR−2型紫外線強度計{受光部として、トプコン製UD−36型受光部(波長310〜400nmの光に対応)を使用}を用いて測定した紫外線強度が1mW/cm2 となるよう調整した。
皮膜(または成形体)の表面に太陽光を3時間照射後、上記(7)の方法にて水の接触角を測定し、照射前のそれと比較した。
なおこのとき、上記UVR−2型紫外線強度計を用いて測定した紫外線強度(受光部として、上記UD−36型受光部を使用)が0.3mW/cm2 、同紫外線強度計を用いて測定した可視光強度{受光部として、トプコン製UD−40型受光部(波長370〜490nmの光に対応)を使用}が3mW/cm2 となるよう、太陽光強度をガラス板を透過させることにより調整した。
(10)紫外線をほとんど含まない光の照射前後の、皮膜(または成形体)の親水性又は疎水性の変化
皮膜(または成形体)の表面に、東芝ライテック製FL20S・N−SDLNU型蛍光ランプからの、紫外線をほとんど含まない光{この光の分光エネルギー分布を図1に示す。この光が波長380〜390nmの可視光線および紫外線(波長380nm未満)をほとんど含まないことを示している。}を24時間照射後、上記(7)の方法にて水の接触角を測定し、照射前のそれと比較した。
なおこのとき、紫外線をほとんど含まない光の強度を、上記UVR−2型紫外線強度計を用いて測定した可視光強度(受光部として、上記UD−40型受光部を使用)が0.3mW/cm2 となるよう調整した。
皮膜(または成形体)表面にメチレンブルーの5重量%エタノール溶液を塗布した後、上記ブラックライトの光を5日間照射した。
なおこのとき、上記UVR−2型紫外線強度計(受光部として、上記UD−36型受光部を使用)を用いて測定した紫外線強度が1mW/cm2 となるよう調整した。
その後、光触媒の作用によるメチレンブルーの分解の程度{皮膜(または成形体)表面の退色の程度に基づき、目視で評価}に基づき、光触媒の活性を以下の3段階で評価した。
◎:メチレンブルーが完全に分解。
△:メチレンブルーの青色がわずかに残る。
×:メチレンブルーの分解はほとんど観測されず。
変性光触媒組成物をガラス板上に膜厚が30μmとなるようにスプレーコーティングした後、室温で1週間乾燥することにより、ガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成させた。
この皮膜をガラス板からはぎ取り、金網(200メッシュ)の袋に入れ、アセトン中に室温にて24時間浸漬した後、皮膜重量の保持率を、次の式に従って算出した。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、ジオキサン500gと、KF9901{メチルハイドロジェンシロキサン−ジメチルシロキサンコポリマーの商品名(信越化学製)、Si−H基含量7.14mmol/g(カタログ記載値)、重量平均分子量3900}500gを入れ、撹拌下80℃に昇温した。これに、ユニオックスMUS−8{ポリオキシエチレンアリルメチルエーテルの商品名(日本油脂製)、重量平均分子量800(カタログ記載値)}1370gと塩化白金(IV)酸六水和物の5重量%イソプロパノール溶液5gをジオキサン2310gに溶解した溶液を、80℃にて撹拌下約1時間かけて添加し、さらに80℃にて2時間攪拌を続けた後室温にまで冷却することにより、Si−H基含有ケイ素化合物(1){以降「化合物(1)」と称する}を含む溶液を得た。
得られた化合物(1)を含む溶液4gに水100gを加えると、均一透明な溶液となった。また、この化合物(1)を含む溶液4gに、ブチルセロソルブ8gを添加・混合した後、1N水酸化ナトリウム水溶液8mlを添加すると、水素ガスが発生し、その体積は23℃において37mlであった。この水素ガス生成量から求めた、化合物(1)を含む溶液1g当りのSi−H基含量は、0.36mmol/g(KF9901 1g当りに換算したSi−H基含量は約3.5mmol/g)であった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、ジオキサン170gと、HMS−301−100GM{メチルハイドロジェンシロキサン−ジメチルシロキサンコポリマーの商品名(チッソ製)、Si−H基含量4.523mmol/g、重量平均分子量5400)}100gを入れ、撹拌下80℃に昇温した。これに、ユニオックスMUS−8(参考例1で使用したものと同じ)50gと5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物25g及び塩化白金(IV)酸六水和物の5重量%イソプロパノール溶液1.07gをジオキサン170gに溶解した溶液を撹拌下80℃にて約1時間かけて添加し、さらに80℃にて3時間攪拌を続けた後室温にまで冷却することにより、Si−H基含有ケイ素化合物(2){以降「化合物(2)」と称する}を含む溶液を得た。
得られた化合物(2)を含む溶液4gに水100gを加えると、わずかに白濁した分散液となった。また、この化合物(2)を含む溶液2.119gに、ブチルセロソルブ8gを添加・混合した後、1N水酸化ナトリウム水溶液8mlを添加すると、水素ガスが発生し、その体積は22℃において31.0mlであった。この水素ガス生成量から求めた、化合物(2)を含む溶液1g当りのSi−H基含量は0.588mmol/g(HMS−301−100GM:1g当たりに換算したSi−H基含量は約2.58mmol/g)であった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、タイノックA−6{アナターゼ型酸化チタンゾルの商品名(多木化学製)、アンモニア解膠型、ゾル中に分散した粒子の体積平均粒子径13nm、TiO2 濃度6重量%、平均結晶子径10nm(カタログ記載値)}200gを入れ、これに参考例1で得た化合物(1)を含む溶液12.5gを30℃にて撹拌下約30分かけて添加し、さらに30℃にて3時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径20nmの変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。この時、化合物(1)の反応に伴い水素ガスが発生し、その体積は23℃において125mlであった。
また、得られたゾルをKRS−5板上に塗布した後、50℃で2時間乾燥させることにより、KRS−5板上に皮膜を形成させたものをサンプルとしてIRスペクトルを測定したところ、変性前の酸化チタンのIRスペクトル中では観測されていた、チタン原子に直結した水酸基(以降「Ti−OH基」と称する)に基づく、3630〜3640cm-1の吸収の消失が観測された。
また、得られたゾルを30℃で100日間静置保存した後の体積平均粒子径は23nmであった。
得られたゾルを用い、ガラス板上に膜厚が2μmとなるようにスプレーコーティングした後、室温で1週間乾燥することにより、ガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、紫外線照射前後の親水性又は疎水性の変化(皮膜表面に対する水の接触角の変化に基づき評価)及び光触媒活性を評価した。結果を表1に示す。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、ナノチタニアNTB−1{ブルッカイト型酸化チタンゾルの商品名(昭和電工製)、塩酸解膠型、ゾル中の粒子の体積平均粒子径8nm、TiO2 濃度15重量%}200gに参考例1で得た化合物(1)を含む溶液70.2gを30℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに30℃にて10時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径15nmの変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。この時、化合物(1)の反応に伴い水素ガスが発生し、その体積は23℃において274mlであった。
参考実施例1と同様の方法でIRスペクトルを測定したところ、変性前の酸化チタンのIRスペクトル中では観測されていた、Ti−OH基の吸収の消失が観測された。
また、得られたゾルを30℃で100日間静置保存した後の体積平均粒子径は21nmであった。
得られたゾルを用い、参考実施例1と同様の方法でガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、紫外線照射前後の親水性又は疎水性の変化及び光触媒活性を評価した。結果を表1に示す。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、TO−240{粒子表面がペルオキソ基で修飾されたアナターゼ型酸化チタンを含有するゾルの商品名(田中転写製)、ゾル中に分散した粒子の体積平均粒子径15nm、TiO2 濃度2.4重量%}420gを入れ、参考例1で得た化合物(1)を含む溶液23.4gを30℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに30℃にて10時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径17nmの変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。この時、化合物(1)の反応に伴い化合物(1)の反応に伴い水素ガスが発生し、その体積は23℃において67.5mlであった。
また、得られたゾルを30℃で100日間静置保存した後の体積平均粒子径は17nmであった。
得られたゾルを用い、参考実施例1と同様の方法でガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、紫外線照射前後の親水性又は疎水性の変化及び光触媒活性を評価した。結果を表1に示す。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、ジュピターF6−APS{粒子表面がアパタイトで修飾されたアナターゼ型酸化チタンを含有するゾルの商品名(昭和電工製)、ゾル中の粒子の体積平均粒子径36nm、TiO2 濃度23.7重量%)}316gを入れ、参考例1で得た化合物(1)を含む溶液78gを撹拌下30℃にて約30分かけて添加し、さらに30℃にて10時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径61nmの変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。この時、化合物(1)の反応に伴い化合物(1)の反応に伴い水素ガスが発生し、その体積は23℃において85.7mlであった。
参考実施例1と同様の方法でIRスペクトルを測定したところ、変性前の酸化チタンのIRスペクトル中では観測されていた、Ti−OH基の吸収の消失が観測された。
また、得られたゾルを30℃で100日間静置保存した後の体積平均粒子径は80nmであった。
得られたゾルを用い、参考実施例1と同様の方法でガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、紫外線照射前後の親水性又は疎水性の変化及び光触媒活性を評価した。結果を表1に示す。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、STS−02{アナターゼ型酸化チタンゾルの商品名(石原産業製)、塩酸解膠型、ゾル中に分散した粒子の体積平均粒子径18nm、TiO2 濃度30重量%、平均結晶子径7nm(カタログ記載値)、粘度175cps}100gと水50gを入れ、撹拌下50℃に昇温した。これに参考例1で得た化合物(1)を含む溶液31gを50℃にて撹拌下約30分かけて添加し、さらに50℃にて3時間攪拌を続けた後室温にまで冷却することにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径49nmの変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。この時、化合物(1)の反応に伴い水素ガスが発生し、その体積は24℃において200mlであった。
参考実施例1と同様の方法でIRスペクトルを測定したところ、変性前の酸化チタンのIRスペクトル中では観測されていた、Ti−OH基に基づく吸収の消失が観測された。
得られたゾル44gに、撹拌下室温(23℃)でブチルセロソルブ48gを約10分かけて添加し、水をエバポレーターにて減圧除去した後、適量のブチルセロソルブを加え、固形分の含有量がゾルの全重量に対して6重量%となるようにすることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径53nmの変性酸化チタン粒子を含有し、ブチルセロソルブを分散媒とするオルガノゾルを得た。
得られたオルガノゾル10gにトルエン10gを添加した分散液は、室温で6ヶ月放置後においても、変性酸化チタン粒子の凝集が起こらず安定であった。
得られたオルガノゾルを用い、参考実施例1と同様の方法でガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、紫外線照射前後の親水性又は疎水性の変化及び光触媒活性を評価した。結果を表1に示す。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、タイノックA−6(参考実施例1で使用したものと同じ)300gを入れ、これに参考例2で得た化合物(2)を含む溶液8.8gを30℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに30℃にて24時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径48nmの変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。この時、化合物(2)の反応に伴い水素ガスが発生し、その体積は23℃において93mlであった。
参考実施例1と同様の方法でIRスペクトルを測定したところ、変性前の酸化チタンのIRスペクトル中では観測されていた、Ti−OH基に基づく吸収の消失が観測された。さらに化合物(2)の製造に用いた5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物に由来する環状酸無水物基が開環していることも、上記IRスペクトルにより確認された。
また、得られたゾルを30℃で100日間静置保存した後の体積平均粒子径は78nmであった。
得られたゾルを用い、参考実施例1と同様の方法でガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、紫外線照射前後の親水性又は疎水性の変化及び光触媒活性を評価した。結果を表2に示す。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、タイノックA−6(参考実施例1で使用したものと同じ)300gを入れ、これに参考例2で得た化合物(2)を含む溶液19.7gを30℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに30℃にて24時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径190nmの変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。この時、化合物(2)の反応に伴い水素ガスが発生し、その体積は23℃において72mlであった。
参考実施例1と同様の方法でIRスペクトルを測定したところ、変性前の酸化チタンのIRスペクトル中では観測されていた、Ti−OH基に基づく吸収の消失が観測された。さらに化合物(2)の製造に用いた5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物に由来する環状酸無水物基が開環していることも、上記IRスペクトルにより確認された。
また、得られたゾルを30℃で100日間静置保存した後の体積平均粒子径は198nmであった。
得られたゾルを用い、参考実施例1と同様の方法でガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、紫外線照射前後の親水性又は疎水性の変化及び光触媒活性を評価した。結果を表2に示す。
ST−21{石原産業製酸化チタン粉末の商品名、平均結晶子径20nm(カタログ記載値)}10gと炭酸セシウム7.2gを乳鉢にて混合し、得られた混合物を蓋付白金ルツボに移し、電気炉中800℃で30分加熱・焼成して炭酸塩を分解した。得られた焼成物を再び乳鉢で摩砕して800℃で40時間焼成することにより、チタン酸セシウム(Csx Ti(2-x/4) O4 )(x=0.68)(斜方晶系の結晶性粉末)を得た。
得られたチタン酸セシウム9gに1規定の塩酸水溶液300gを添加し、室温で3日間撹拌し、得られた反応混合物をろ過(規格5Cのろ紙を使用)し、残査を得た。得られた残査をイオン交換水で洗浄し、100℃で3時間乾燥することにより、セシウムイオンが水素イオンで置換されたチタン酸(Hx Ti(2-x/4) O4 ・nH2 O)(x=0.68)(結晶性粉末)5.1gを得た。このものは層状の結晶構造を有することが知られている。
次に、このチタン酸5gに0.1mol/lのテトラブチルアンモニウム水酸化物水溶液1000gを加え、シェーカーで150rpmにて振とうすることにより、体積平均粒子径110nmの酸化チタン粒子(微細な薄片状)を含有するゾルを得た。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、参考例3で得た薄片状酸化チタン粒子を含有するゾル500gを入れ、参考例1で得た化合物(1)を含む溶液5.8gを30℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに30℃にて10時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径120nmの変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。この時、化合物(1)の反応に伴い水素ガスが発生し、その体積は23℃において13.7mlであった。
また、得られたゾルを30℃で100日間静置保存した後の体積平均粒子径は143nmであった。
得られたゾルを用い、参考実施例1と同様の方法でガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、紫外線照射前後の親水性又は疎水性の変化及び光触媒活性を評価した。結果を表2に示す。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、ジオキサン1400g、トリクロロシラン25.9g及びメチルトリクロロシラン51.6gを入れ、室温にて約10分間撹拌し、得られた混合物に、水14.5gとジオキサン58gの混合溶媒を、温度を25〜30℃に保ちながら、攪拌下約30分かけて滴下した後、さらに25〜30℃で約30分、次いで60℃で3時間撹拌した。 得られた反応混合物を25〜30℃まで冷却した後、トリメチルクロロシラン65.5gを添加し、さらに、水5.4gとジオキサン22gの混合溶媒を、温度を25〜30℃に保ちながら、攪拌下約30分かけて添加した。その後さらに25〜30℃にて約2時間撹拌した。
得られた反応混合物を反応器から取り出し、約60℃で減圧下に溶媒を溜去することにより、ラダー型骨格を有する、重量平均分子量3900のSi−H基含有ケイ素化合物を得た。(以降「ラダー型ケイ素化合物」と称する。この化合物のIRスペクトルにおいては、ラダー型骨格に基づく吸収(1130cm-1及び1050cm-1)が観測された。)
続いて、還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、上記ラダー型ケイ素化合物10gとテトラヒドロフラン20gを添加し、撹拌下30℃に保持した。これに白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の2.2重量%キシレン溶液を0.2g添加した後、アデカリアソープSE−10N{下式(19)で表される化合物の商品名(旭電化製)}1.5gをテトラヒドロフラン13.5gに溶解した溶液を、攪拌下30℃にて約2時間かけて添加し、さらに30℃にて3時間撹拌を続けることにより、水に対して自己乳化性を有し、ラダー型骨格を有するSi−H基含有ケイ素化合物(3)(以降「化合物(3)」と称する)を含む溶液を得た。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、ジオキサン445gおよびメチルトリクロロシラン25.9gを入れ、室温にて約10分間撹拌し、得られた混合物に、水4.7gとジオキサン18.8gの混合溶媒を、温度を25〜30℃に保ちながら、攪拌下約30分かけて滴下した後、さらに25〜30℃で約30分、次いで60℃で3時間撹拌した。
得られた反応混合物を25〜30℃まで冷却した後、ジメチルクロロシラン25.1gを添加し、さらに、水1.56gとジオキサン6.24gの混合溶媒を、温度を25〜30℃に保ちながら、攪拌下約30分かけて添加した。その後さらに25〜30℃にて約2時間撹拌した。
得られた反応混合物を反応器から取り出し、約60℃で減圧下に溶媒を溜去することにより、ラダー型骨格を有する、重量平均分子量3100のSi−H基含有ケイ素化合物を得た。(以降「ラダー型ケイ素化合物」と称する。この化合物のIRスペクトルにおいては、ラダー型骨格に基づく吸収(1130cm-1及び1050cm-1)が観測された。)
続いて、還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、上記ラダー型ケイ素化合物10gとジオキサン15gを添加し、撹拌下80℃に昇温した。これに、ユニオックスMUS−8(参考例1で使用したものと同じ)3gと塩化白金(IV)酸六水和物の5重量%イソプロパノール溶液0.1gをジオキサン2.25gに溶解した溶液を、80℃にて撹拌下約1時間かけて添加し、さらに80℃にて2時間攪拌を続けた後室温にまで冷却することにより、水に対して自己乳化性を有し、ラダー型骨格を有するSi−H基含有ケイ素化合物(4){以降「化合物(4)」と称する}を含む溶液を得た。
得られた化合物(4)を含む溶液1.42gにブチルセロソルブ8gを添加・混合した後、1N水酸化ナトリウム水溶液8mlを添加すると、水素ガスが発生し、その体積は22℃において28.0mlであった。この水素ガス生成量から求めた、化合物(4)を含む溶液1g当りのSi−H基含量は、0.795mmol/g(化合物(4)1g当たりに換算したSi−H基含量は約2.98mmol/g)であった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、タイノックA−6(参考実施例1で使用したものと同じ)500gを入れ、これに参考例4で得た化合物(3)を含む溶液15gを30℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに30℃にて24時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径53nmの変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。この時、化合物(3)の反応に伴い水素ガスが発生し、その体積は23℃において40mlであった。
参考実施例1と同様の方法でIRスペクトルを測定したところ、変性前の酸化チタンのIRスペクトル中では観測されていた、Ti−OH基の吸収の消失が観測された。
また、得られたゾルを30℃で100日間静置保存した後の体積平均粒子径は63nmであった。
得られたゾルを用い、参考実施例1と同様の方法でガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、紫外線照射前後の親水性又は疎水性の変化及び光触媒活性を評価した。結果を表2に示す。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、タイノックA−6(参考実施例1で使用したものと同じ)500gを入れ、これに参考例5で得た化合物(4)を含む溶液10.8gを30℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに30℃にて8時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径29nmの変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。この時、化合物(3)の反応に伴い水素ガスが発生し、その体積は23℃において100mlであった。
参考実施例1と同様の方法でIRスペクトルを測定したところ、変性前の酸化チタンのIRスペクトル中では観測されていた、Ti−OH基の吸収の消失が観測された。
また、得られたゾルを30℃で100日間静置保存した後の体積平均粒子径は30nmであった。
得られたゾルを用い、参考実施例1と同様の方法でガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、紫外線照射前後の親水性又は疎水性の変化及び光触媒活性を評価した。結果を表2に示す。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、タイノックA−6(参考実施例1で使用したものと同じ)50gを入れ、これにAciplex( −SS950{ス
ルホン酸基を有するフッ素樹脂の5重量%エタノール−水(重量比1:1)溶液の商品名(旭化成工業製)}6gを30℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに30℃にて8時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径150nmの変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。得られたゾルを30℃で100日間静置保存した後の体積平均粒子径は147nmであった。
得られたゾルを用い、参考実施例1と同様の方法でガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、紫外線照射前後の親水性又は疎水性の変化及び光触媒活性を評価した。
ビストレーターLNSC−200A{有機溶剤系シリコン−アクリルコーティング剤の商品名(日本曹達製)、固形分20重量%}(従来の光触媒含有コーティング剤用の、アンダーコート用塗料)100gに、参考実施例5で得たオルガノゾル150gを撹拌下室温にて約10分かけて添加し、変性光触媒組成物を得た。得られた変性光触媒組成物を用い、ガラス板上に膜厚が30μmとなるようにスプレーコーティングした後、室温で1週間乾燥し、続いて50℃にて5日間加熱することにより、ガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、紫外線照射前後の親水性又は疎水性の変化及び光触媒活性を評価した。
参考実施例12で得られた変性光触媒組成物の代わりにビストレーターLNSC−200A(参考実施例12で使用したものと同じ)を用い、参考実施例12と同様の方法でガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、紫外線照射前後の親水性又は疎水性の変化及び光触媒活性を評価した。
〔比較例2〕
ポリデュレックスG633{水系アクリル−シリコンエマルジョンの商品名(旭化成工業製)、固形分46重量%、pH8.8}250gに、成膜助剤としてCS−12{2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール−モノイソブチレートの商品名(チッソ製)}22.8gを撹拌下室温にて20分かけて添加した。次いで、同じく成膜助剤としてブチルセロソルブ水溶液(50重量%)22.8gを室温にて撹拌下20分かけて添加した後、さらに室温で3時間撹拌し、成膜助剤を含むアクリル−シリコンエマルジョンを得た。このエマルジョンにおける、固形分の含有量は38.6重量%であった。
参考実施例12で得られた変性光触媒組成物の代わりに上記のエマルジョンを用い、参考実施例12と同様の方法でガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、紫外線照射前後の親水性又は疎水性の変化及び光触媒活性を評価した。
比較例2で得られた成膜助剤を含むアクリル−シリコンエマルジョン100gに、参考実施例6で得たゾル75gを撹拌下室温にて約10分かけて添加し、変性光触媒組成物を得た。
得られた変性光触媒組成物を用い、参考実施例12と同様の方法でガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、紫外線照射前後の親水性又は疎水性の変化及び光触媒活性を評価した。
〔比較例3〕
STS−02(参考実施例5で使用したものと同じ)100gを水50gで希釈して得られたゾルを用い、参考実施例1と同様の方法でガラス板表面に皮膜を形成したが、得られた皮膜はひび割れていたため、この皮膜の表面について、紫外線照射前後の親水性又は疎水性の変化及び光触媒活性を評価することはできなかった。また、得られたゾル68gに、ブチルセロソルブ100gを撹拌下室温にて約10分かけて添加した後、水をエバポレーターにて減圧除去してオルガノゾルを得たが、ゾル中の粒子は液体媒体中に安定に分散した状態で保持されることなく沈殿してしまい、分散性の良好なオルガノゾルを得ることはできなかった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、ST−01{石原産業製アナターゼ型酸化チタン粉末の商品名、平均結晶子径7nm(カタログ記載値)}30gに水120gを添加し、撹拌下50℃に昇温した。これに参考例1で得た化合物(1)を含む溶液31gを50℃にて撹拌下約30分かけて添加し、さらに50℃にて3時間撹拌を続けた後室温まで冷却した。得られた反応混合物中の粒子は分離・沈降した状態であり、体積平均粒子径は3μm以上であった。
また、この反応混合物にブチルセロソルブ200gを添加した後、水をエバポレーターにて減圧除去してオルガノゾルを得たが、ゾル中の粒子は液体媒体中に安定に分散した状態で保持されることなく沈殿してしまい、分散性の良好なオルガノゾルを得ることはできなかった。従って、このゾルを用い、ガラス板表面に皮膜を形成することはできなかった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、STS−02{アナターゼ型酸化チタンゾルの商品名(石原産業製)、体積平均粒子径18nm、塩酸解膠型、TiO2 濃度30重量%、平均結晶子径7nm(カタログ記載値)}100gと水100gを入れ、これにメチルトリメトキシシラン7.5gをジオキサン7.5gに溶解した溶液を30℃にて撹拌下約30分かけて添加し、さらに30℃にて3時間撹拌することにより、体積平均粒子径900nmの変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。
参考実施例1と同様の方法でIRスペクトルを測定したところ、変性前の酸化チタンのIRスペクトル中では観測されていた、Ti−OH基の吸収が小さくなっていたものの、消失してはいなかったことから、Ti−OH基がかなり残存していることが判明した。
得られたゾルを用い、参考実施例1と同様の方法でガラス板表面に皮膜を形成したが、白濁した、凹凸の大きな皮膜を有するしか得られなかった。
また、得られた変性酸化チタンゾルは、30℃での2ヶ月の保存によりゲル化したため、塗膜評価を実施することができなかった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、タイノックA−6(参考実施例1で使用したものと同じ)200gを入れ、これにメチルトリメトキシシラン3gをジオキサン3gに溶解した溶液を攪拌下30℃にて約30分かけて添加し、さらに30℃にて3時間撹拌を続けることにより、体積粒子径1μmの変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。
参考実施例1と同様の方法でIRスペクトルを測定したところ、変性前の酸化チタンのIRスペクトル中では観測されていた、Ti−OH基の吸収が小さくなっていたものの、消失してはいなかったことから、Ti−OH基がかなり残存していることが判明した。
得られた変性酸化チタンゾルは、30℃での1週間の保存によりゲル化したため、塗膜評価を実施することができなかった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、STS−02(参考実施例5で使用したものと同じ)100gと水100gを入れ、これにAciplex−SS950(参考実施例11で使用したものと同じ)6gを30℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに30℃にて8時間撹拌を続けることにより、体積平均粒子径3μm以上の変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。
得られた変性酸化チタンゾルは経時的に沈殿を生じた為、スプレーコーティングが不可能であった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、ジオキサン500gとKF9901(参考例1で使用したものと同じ)500gを入れ、撹拌下60℃に昇温した。これにジクロロ−ジシクロペンタジエニル−白金(II)の0.25重量%ジオキサン溶液16.3gを添加した後、ユニオックスMUS−8(参考例1で使用したものと同じ)250gをジオキサン250gに溶解した溶液を60℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに60℃にて30分間撹拌した後、5−ヘキセン−2−オン100gをジオキサン100gに溶解した溶液を攪拌下60℃にて約30分かけて添加した後、さらに60℃で1時間撹拌を続けることにより、ケト基を有するSi−H基ケイ素含有化合物(5){以降「化合物(5)」と称する}を含む溶液を得た。
得られた化合物(5)を含む溶液4gに水100gを加えると、わずかに白濁した分散液となった。また、この化合物(5)を含む溶液0.89gにブチルセロソルブ8gを添加・混合した後、1N水酸化ナトリウム水溶液8mlを添加すると、水素ガスが発生し、その体積は23℃において27.2mlであった。この水素ガス生成量から求めた、化合物(5)を含む溶液1g当りのSi−H基含量は1.2mmol/g(KF9901 1g当たりに換算したSi−H基含量は約4.1mmol/g)であった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、ジオキサン100gとKF9901(参考例1で使用したものと同じ)100gを入れ、撹拌下60℃に昇温した。これにジクロロ−ジシクロペンタジエニル−白金(II)の0.25重量%ジオキサン溶液5gを添加した後、ユニオックスMUS−8(参考例1で使用したものと同じ)50gをジオキサン50gに溶解した溶液を60℃にて攪拌下約1時間かけて添加した。続いて、メタクリル酸アリル20gと重合禁止剤の4−メトキシヒドロキノン0.01gをジオキサン20gに溶解した溶液を60℃にて攪拌下約30分かけて添加した後、さらに60℃で1時間撹拌を続けることによりメタクリロイル基を有するSi−H基含有ケイ素化合物(6){以降「化合物(6)」と称する}を含む溶液を得た。
得られた化合物(6)を含む溶液4gに水100gを加えると、わずかに白濁した分散液となった。また、この化合物(6)を含む溶液1.25gにブチルセロソルブ8gを添加・混合した後、1N水酸化ナトリウム水溶液8mlを添加すると、水素ガスが発生し、その体積は23℃において42.0mlであった。この水素ガス生成量から求めた、化合物(6)を含む溶液1g当りのSi−H基含量は1.3mmol/g(KF9901 1g当たりに換算したSi−H基含量は約4.6mmol/g)であった。
撹拌機、還流冷却器、滴下槽および温度計を取りつけた反応器に、メタクリル酸8g、ダイアセトンアクリルアミド3g、メタクリル酸メチル34g、アクリル酸ブチル40g、メタクリル酸シクロヘキシル15g、水300g、ラテムルS−180A{エチレン性不飽和単量体と共重合可能な二重結合を分子中に持つスルホコハク酸ジエステルアンモニウム塩の商品名(花王製)}の20%水溶液20gを入れ、反応器内の温度を78℃に上げてから、過硫酸アンモニウム0.5gを添加して、78℃で1時間攪拌し、第一段階のシードラテックスを得た。得られた第一段階のシードラテックスのpHは1.8であった。
次に、第一段階のシードラテックスに、メタクリル酸3g、ジアセトンアクリルアミド12g、メタクリル酸メチル165g、アクリル酸ブチル160g、メタクリル酸シクロヘキシル60g、水330g、ラテムルS−180Aの20%水溶液20g、過硫酸アンモニウム1.0gを含む溶液と、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン2.5g、ジメチルジメトキシシラン25g、メチルトリメトキシシラン25gを含む溶液とを、各々別の滴下槽から、攪拌下80℃で3時間かけて反応器中へ滴下した。滴下が終了後、反応器内の温度を85℃に上げ、6時間攪拌した。その後室温まで冷却し、反応器内容物の水素イオン濃度を測定したところ2.1であった。25%アンモニア水溶液を添加して反応器内容物のpHを8に調整してから、100メッシュの金網でろ過し、凝集物をろ去することにより、エマルジョンを得た。凝集物の乾燥重量は、使用した単量体の総重量に対して0.02%と非常にわずかであった。
得られたエマルジョンの固形分含有量は44.0重量%、体積平均粒子径は128μmであった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、室温下イソプロピルアルコール230gとヒドラジン1水和物20gを入れ、これにデュラネート24A{ビウレット型ポリイソシアネートの商品名(旭化成工業製)、NCO含有量23.3重量%}42gをテトラヒドロフラン168gに溶解した溶液を、40℃にて攪拌下約1時間かけて添加し、さらに40℃にて3時間撹拌を続けた。得られた反応混合物中のテトラヒドロフラン、ヒドラジン、水等を減圧下に留去した後、適量の水を添加することにより、固形分30%のセミカルバジド誘導体水溶液を得た。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、タイノックA−6(参考実施例1で使用したものと同じ)300gを入れ、これに参考例6で得た化合物(5)を含む溶液15.3gを30℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに30℃にて5時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径18nmの変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。この時、化合物(5)の反応に伴い水素ガスが発生し、その体積は23℃において122mlであった。
参考実施例1と同様の方法でIRスペクトルを測定したところ、変性前の酸化チタンのIRスペクトル中では観測されていた、Ti−OH基の吸収の消失が観測された。
また、得られたゾルを30℃で100日間静置保存した後の体積平均粒子径は23nmであった。
次に、参考例8で得た、ケト基を有する、シリコン変性された重合体のエマルジョン200gに、参考例9で得たセミカルバジド誘導体水溶液11.3gを撹拌下室温にて約20分かけて添加し、得られた混合物に、上記のゾル230gを撹拌下室温にて約30分かけて添加し、さらに室温にて3時間撹拌することにより、変性光触媒組成物を得た。
得られた変性光触媒組成物を用い、参考実施例12と同様の方法でガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について光触媒活性を評価したところ良好(◎)であった。また、得られた皮膜のアセトン浸漬による皮膜重量の保持率は97%であり、耐溶剤性は非常に良好であった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、STS−02(参考実施例5で使用したものと同じ)100gと水50gを入れ、これに参考例7で得た化合物(6)を含む溶液26gを30℃にて撹拌下約30分かけて添加し、さらに30℃にて7時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径38nmの変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。この時、化合物(6)の反応に伴い水素ガスが発生し、その体積は24℃において240mlであった。
参考実施例1と同様の方法でIRスペクトルを測定したところ、変性前の酸化チタンのIRスペクトル中では観測されていた、Ti−OH基の吸収の消失が観測された。
次いで、撹拌機、還流冷却器、滴下槽および温度計を取りつけた反応器に、上記のゾル100g、水353g、アデカリアソープSE−1025N{界面活性剤の商品名(旭電化製)、25%水溶液)2gを投入し、反応器内の温度を80℃に上げてから、メタクリル酸6g、アクリル酸ブチル61g、メタクリル酸メチル70g、アクリルアミド1.2g、水80g、アデカリアソープSE−1025N2.7g、p−スチレンスルホン酸ナトリウム1.4g、過硫酸アンモニウム0.5gを含む溶液を反応容中へ滴下槽より攪拌下80℃で2時間かけて滴下した。滴下終了後、80℃で2時間攪拌した。その後室温まで冷却し、25%アンモニア水溶液を添加して反応器内容物のpHを8に調整してから、100メッシュの金網で濾過して凝集物をろ去し、固形分23.4%、平均粒子径95nmの変性光触媒組成物(変性光触媒−アクリル複合エマルジョン)を得た。
得られた変性光触媒組成物を用い、参考実施例12と同様の方法でガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について光触媒活性を評価したところ良好(◎)であった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、ジオキサン50gと、HMS−301−100GM(参考例2で使用したものと同じ)50gを入れ、撹拌下80℃に昇温した。これにユニオックスMUS−8(参考例1で使用したものと同じ)25gと塩化白金(IV)酸六水和物の5重量%イソプロパノール溶液0.53gをジオキサン62.5gに溶解した溶液を80℃にて攪拌下約1時間かけて添加し、さらに80℃にて2時間攪拌を続けた後室温にまで冷却することにより、Si−H基含有ケイ素化合物(7){以降「化合物(7)」と称する}を含む溶液を得た。
得られた化合物(7)を含む溶液4gに水100gを加えると、わずかに白濁した分散液となった。また、この化合物(7)を含む溶液2.23gにブチルセロソルブ8gを添加・混合した後、1N水酸化ナトリウム水溶液8mlを添加すると、水素ガスが発生し、その体積は21℃において45.2mlであった。この水素ガス生成量から求めた、化合物(7)を含む溶液1g当りのSi−H基含量は0.825mmol/g(HMS−301−100GM 1g当たりに換算したSi−H基含量は約3.1mmol/g)であった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、メチルエチルケトン50gと、HMS−301−100GM(参考例2で使用したものと同じ)50gを入れ、撹拌下60℃に昇温した。これにジクロロ−ジシクロペンタジエニル−白金(II)の0.25%ジオキサン溶液1.6gを添加した後、ユニオックスMUS−8(参考例1で使用したものと同じ)25gをメチルエチルケトン25gに溶解した溶液を60℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに60℃にて30分撹拌を続けた。これにパーフルオロオクチルエチレン10gとジクロロ−ジシクロペンタジエニル−白金(II)の0.25%ジオキサン溶液1.1gをメチルエチルケトン10gに溶解した溶液を60℃にて約1時間かけて添加し、さらに60℃にて8時間攪拌を続けた後室温にまで冷却することにより、フルオロアルキル基を有するSi−H基含有ケイ素化合物(8){以降「化合物(8)」と称する}を含む溶液を得た。
得られた化合物(8)を含む溶液4gに水100gを加えると、わずかに白濁した分散液となった。また、この化合物(8)を含む溶液1.094gにブチルセロソルブ8gを添加・混合した後、1N水酸化ナトリウム水溶液8mlを添加すると、水素ガスが発生し、その体積は17℃において25.5mlであった。この水素ガス生成量から求めた化合物(8)を含む溶液1g当りのSi−H基含量は0.962mmol/g(HMS−301−100GM:1g当たりに換算したSi−H基含量は約3.31mmol/g)であった。
プラエース{有機溶剤系アクリルコーティング剤の商品名(武蔵塗料製)、固形分50重量%}をガラス板上に膜厚が20μmとなるようにキャストした後、室温で2日間乾燥し、50℃にて3日間加熱乾燥することにより、ガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成した。
得られた皮膜表面に対する、20℃における水の接触角は84゜であり、Sell−Neumannの実験式から求めた、上記皮膜の表面エネルギーは35.5ダイン/cm(20℃)であった。
〔参考例13〕(水系アクリル−シリコンエマルジョンの表面エネルギーの測定)
比較例2で調製した、成膜助剤を含むアクリル−シリコンエマルジョンを用いて、参考例12と同様の方法でガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成した。
得られた皮膜表面に対する、20℃における水の接触角は89゜であり、Sell−Neumannの実験式から求めた、上記皮膜の表面エネルギーは31.5ダイン/cm(20℃)であった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、タイノックA−6(参考実施例1で使用したものと同じ)400gと、参考例10で得た化合物(7)を含む溶液10.3gを室温30℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに30℃にて3時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径17nmの変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。この時、化合物(7)の反応に伴い水素ガスが発生し、その体積は16℃において80mlであった。参考実施例1と同様の方法でIRスペクトルを測定したところ、変性前の酸化チタンのIRスペクトル中では観測されていた、Ti−OH基の吸収の消失が観測された。
得られたゾル100gにブチルセロソルブ100gを撹拌下室温(23℃)で約10分かけて添加し、水をエバポレーターにて減圧除去した後、適量のブチルセロソルブを加え、固形分の含有量がゾルの全重量に対して5.8重量%となるようにすることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径25nmの粒子を含むオルガノゾルを得た。
得られた皮膜表面に対する、20℃における水の接触角は95.6゜であり、Sell−Neumannの実験式から求めた上記皮膜の表面エネルギーは26.5ダイン/cm(20℃)であった。
上記オルガノゾル20gを、プラエース(参考例12で使用したものと同じ)に撹拌下室温で約10分かけて添加することにより、変性光触媒組成物を得た。 得られた変性光触媒組成物をOHPフィルム上に膜厚が20μmとなるようにキャストし、室温で2日間乾燥した後、50℃にて3日間加熱乾燥することにより、OHPフィルム表面に平滑な皮膜を形成させた。
この皮膜の断面におけるチタン原子の分布を、エネルギー分散型X線分光器を用いて測定した結果を図2に示す。
基材であるOHPフィルムと皮膜との界面には酸化チタンは存在せず、皮膜内部から皮膜表面側(上記界面の反対側)に向かって、酸化チタンの含有量が高まってゆくような分布となっていることが分かる。
また、この皮膜の表面について光触媒活性を評価したところ良好(◎)であった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、タイノックA−6(参考実施例1で使用したものと同じ)300gと、参考例11で得た化合物(8)を含む溶液15.5gを室温30℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに30℃にて5時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径30nmの変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。この時、化合物(8)の反応に伴い水素ガスが発生し、その体積は16℃において140mlであった。
参考実施例1と同様の方法でIRスペクトルを測定したところ、変性前の酸化チタンのIRスペクトル中では観測されていた、Ti−OH基の吸収の消失が観測された。
得られたゾル100gにブチルセロソルブ100gを撹拌下室温(23℃)で約10分かけて添加し、水をエバポレーターにて減圧除去した後、適量のブチルセロソルブを加え、固形分の含有量がゾルの全重量に対して7.1重量%となるようにすることにより、ブチルセロソルブを分散媒とする非常に分散性の良好なオルガノゾルを得た。
得られた皮膜表面に対する、20℃における水の接触角は106.0゜であり、Sell−Neumannの実験式から求めた上記皮膜の表面エネルギーは19.2ダイン/cm(20℃)であった。
上記オルガノゾル20gを、プラエース(参考例12で使用したものと同じ)100gに室温(23℃)で撹拌下室温で約10分かけて添加することにより、変性光触媒組成物を得た。
得られた変性光触媒組成物をOHPフィルム上に膜厚が20μmとなるようにキャストし、室温で2日間乾燥した後、50℃にて3日間加熱乾燥することにより、OHPフィルム表面に平滑な皮膜を形成させた。
この皮膜の断面におけるチタン原子の分布を、エネルギー分散型X線分光器を用いて測定した結果を図3に示す。
基材であるOHPフィルムと皮膜との界面には酸化チタンは存在せず、皮膜内部から皮膜表面側(上記界面の反対側)に向かって、酸化チタンの含有量が高まってゆくような分布となっていることが分かった。
また、この皮膜の表面について光触媒活性を評価したところ良好(◎)であった。
比較例2で得た、成膜助剤が添加された成膜助剤を含むアクリル−シリコンエマルジョン100gに、実施例18で得たゾル19gを室温(23℃)で撹拌下において約10分かけて添加することにより、変性光触媒組成物を得た。
得られた変性光触媒組成物を用い、実施例18と同様の方法でOHPフィルム表面に平滑な皮膜を形成させた。
この皮膜の断面におけるチタン原子の分布を、エネルギー分散型X線分光器を用いて測定した結果、皮膜内部から皮膜表面側(上記界面の反対側)に向かって、酸化チタンの含有量が高まってゆくような分布となっていることが確認された。
また、この皮膜の表面について光触媒活性を評価したところ良好(◎)であった。
〔比較例8〕
プラエース(参考例12で使用したものと同じ)を用い、実施例18と同様の方法でOHPフィルム表面に平滑な皮膜を形成させた。
しかし得られた皮膜表面において、光触媒活性は全く認められなかった(×)。
KS−247{アナターゼ型酸化チタンオルガノゾルの商品名(テイカ製)、平均粒子径6nm(カタログ記載値)、ミセル径30〜60nm(カタログ記載値)、固形分15重量%}を用い、ガラス板上に膜厚が0.5μmとなるようにスプレーコーティングした後、50℃で1週間乾燥し、ガラス板表面に皮膜を形成させた。
得られた皮膜表面に対する、20℃における水の接触角は69.8゜であり、Sell−Neumannの実験式から求めた上記皮膜の表面エネルギーは48.0ダイン/cm(20℃)であった。
次いで、上記KS−247 8gを、プラエース(参考例12で使用したものと同じ)100gに撹拌下室温(23℃)で約10分かけて添加し、得られた組成物を用いて、実施例18と同様の方法でOHPフィルム表面に平滑な皮膜を形成させた。
この皮膜の断面におけるチタン原子の分布を、エネルギー分散型X線分光器を用いて測定した結果、チタン原子の分布はランダムであり、皮膜内部から皮膜表面側(上記界面の反対側)に向かって、酸化チタンの含有量が高まってゆくような分布は観察されなかった。
また、この皮膜の表面について光触媒活性を評価したところ不良(×〜△)であった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、ST−01(比較例4で使用したものと同じ)30gとトルエン120gを入れ、撹拌下50℃に昇温したが、反応器内容物中の粒子は液体媒体中に分散せず沈降してしまい、ゾルにはならなかった。
これに参考例10で得た化合物(7)を含む溶液12.9gを撹拌下50℃にて約30分かけて添加し、さらに50℃にて3時間撹拌を続けることにより、変性光触媒分散液を得た。この時、化合物(7)の反応に伴い水素ガスが発生し、その体積は19℃において70mlであった。得られた変性光触媒分散液は、変性光触媒粒子が液体媒体中に分散した状態のまま保持されず、経時的に沈降する不安定な分散液であった。
得られた変性光触媒分散液から液体媒体を50℃にて減圧除去し、得られた変性酸化チタン粉末を、赤外線吸収スペクトル測定用試料作成用錠剤成型器に入れ、圧力750kg/cm2 で圧縮し、ペレットを作成した。得られたペレットの表面に対する、20℃における水の接触角は93.0゜であり、Sell−Neumannの実験式から求めた上記ペレットの表面エネルギーは28.4ダイン/cm(20℃)であった。
得られた組成物を用いて、実施例17と同様の方法で、OHPフィルム表面に皮膜を形成させた。
この皮膜の断面におけるチタン原子の分布を、エネルギー分散型X線分光器を用いて測定した結果、Tiの分布はランダムであり、相当量の酸化チタンがOHPフィルムに接触していることが観察された。
また、この皮膜の表面について光触媒活性を評価したところ不良(×〜△)であった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、ジオキサン168gとKF9901(参考例1で使用したものと同じ)100gを入れ、撹拌下80℃に昇温した。これにユニオックスMUS−8(参考例1で使用したものと同じ)50g、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物28g及び塩化白金(IV)酸六水和物の5重量%イソプロパノール溶液1.1gをジオキサン100gに溶解した溶液を80℃にて攪拌下約1時間かけて添加し、さらに80℃にて2時間攪拌を続けた後室温にまで冷却することにより、環状酸無水物基を有するSi−H基含有ケイ素化合物(9){以降「化合物(9)」と称する}を含む溶液を得た。
得られた化合物(9)を含む溶液1.4gにブチルセロソルブ8gを添加・混合した後、1N水酸化ナトリウム水溶液8mlを添加すると、水素ガスが発生し、その体積は21℃において35.8mlであった。この水素ガス生成量から求めた、化合物(9)を含む溶液1g当りのSi−H基含量はは1.02mmol/g(KF9901 1g当たりに換算したSi−H基含量は約4.5mmol/g)であった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、参考例14で得た化合物(9)を含む溶液30gを入れ、これに2,4−ジニトロフェニルヒドラジン0.23gをテトラヒドロフラン22.7gに溶解した溶液を20℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに20℃にて3時間撹拌を続けることにより分光増感基を有するSi−H基含有ケイ素化合物(10){以降「化合物(10)」と称する}を含む溶液を得た。
(参考実施例20){環状酸無水物基を有するSi−H基含有化合物(9)を用いる、変性光触媒ゾルの調製}
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、STS−02(参考実施例5で使用したものと同じ)200gと水100gを入れ、撹拌下30℃に加温した。これに参考例14で得た化合物(9)を含む溶液30gを30℃にて撹拌下約30分かけて添加し、さらに30℃にて3時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径29nmの変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。この時、化合物(9)の反応に伴い水素ガスが発生し、その体積は20℃において112mlであった。
参考実施例1と同様の方法でIRスペクトルを測定したところ、変性前の酸化チタンのIRスペクトル中では観測されていた、Ti−OH基に基づく吸収の消失が観測された。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、STS−02(参考実施例5で使用したものと同じ)100gと水50gを入れ、撹拌下30℃に加温した。これに参考例15で得た化合物(10)を含む溶液26gを30℃にて撹拌下約30分かけて添加し、さらに30℃にて3時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径36nmのオレンジ色の変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。この時、化合物(10)の反応に伴い水素ガスが発生し、その体積は20℃において110mlであった。
参考実施例1と同様の方法でIRスペクトルを測定したところ、変性前の酸化チタンのIRスペクトル中では観測されていた、Ti−OH基に基づく吸収の消失が観測された。
得られたゾルを用い、参考実施例1と同様の方法でガラス板表面に透明(オレンジ色)で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、太陽光照射前後の親水性又は疎水性の変化を評価した。結果を表4に示す。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、参考実施例20で得たゾル100gを入れ、これに2,4−ジニトロフェニルヒドラジン0.07gをテトラヒドロフラン7gに溶解した溶液を攪拌下20℃にて約30分かけて添加し、さらに20℃にて3時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径33nmのオレンジ色の変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。
得られたゾルを用い、参考実施例1と同様の方法でガラス板表面に透明(オレンジ色)で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、太陽光照射前後の親水性又は疎水性の変化を評価した。結果を表4に示す。
〔参考比較例1〕
参考実施例20で得たゾルを用い、参考実施例1と同様の方法でガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、太陽光照射前後の親水性又は疎水性の変化を評価した。結果を表4に示す。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、4−アミノフルオレセイン10gとジオキサン1400gを入れ、これにアリルイソシアネート2.4gをジオキサン22.6gに溶解した溶液を、撹拌下30℃にて約30分かけて添加し、さらに30℃で5時間撹拌した。得られた反応混合物に、KF9901(参考例1で使用したものと同じ)500gを添加し、撹拌下80℃に昇温した。これにユニオックスMUS−8(参考例1で使用したものと同じ)1370gと塩化白金(IV)酸六水和物の5重量%イソプロパノール溶液5gをジオキサン1370gに溶解した溶液を80℃にて約1時間かけて添加し、さらに80℃にて2時間攪拌を続けた後室温にまで冷却することにより分光増感基を有するSi−H基含有ケイ素化合物(11){以降「化合物(11)」と称する}を含む溶液を得た。
得られた化合物(11)を含む溶液4gに水100gを加えると、均一透明で蛍光色を持った水溶液となった。また、この化合物(11)を含む溶液4gにブチルセロソルブ8gを添加・混合した後、1N水酸化ナトリウム水溶液8mlを添加すると、水素ガスが発生し、その体積は23℃において33mlであった。この水素ガス生成量から求めた、化合物(11)を含む溶液1g当りのSi−H基含量は0.32mmol/g(KF9901 1g当りに換算したSi−H基含量は約3.1mmol/g)であった。
還流冷却器、温度計および撹拌装置を取りつけた反応器に、タイノックA−6(参考実施例1で使用したものと同じ)200gを入れ、これに参考例16で得た化合物(11)を含む溶液12.5gを30℃にて攪拌下約30分かけて添加し、さらに30℃にて3時間撹拌を続けることにより、非常に分散性の良好な、体積平均粒子径23nmの蛍光色を有する変性酸化チタン粒子を含有するゾルを得た。この時、化合物(11)の反応に伴い水素ガスが発生し、その体積は23℃において120mlであった。
参考実施例1と同様の方法でIRスペクトルを測定したところ、変性前の酸化チタンのIRスペクトル中では観測されていた、Ti−OH基に基づく吸収の消失が観測された。
得られたゾルを用い、参考実施例1と同様の方法でガラス板表面に透明(黄色〜緑色)で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、紫外線をほとんど含まない光の照射前後の親水性又は疎水性の変化を評価した。結果を表5に示す。
参考実施例1において、ガラス板表面に形成した皮膜の表面について、紫外線をほとんど含まない光の照射前後の親水性又は疎水性の変化を評価した。結果を表5に示す。
〔比較例11〕
タイノックA−6(参考実施例1で使用したものと同じ)を用い、ガラス板上に膜厚が0.5μmとなるようにスプレーコーティングした後、室温で1週間乾燥することにより、ガラス板表面に透明で平滑な皮膜を形成し、この皮膜の表面について、紫外線をほとんど含まない光の照射前後の親水性又は疎水性の変化を評価した。結果を表5に示す。
また本発明の機能性複合体および成形体は、その表面において変性光触媒が十分な効果を示すため、表面への汚れの付着や曇りが効果的に防止される。
Claims (9)
- 光触媒粒子を、式(1)で表されるモノオキシジオルガノシラン単位、及び式(3)で表されるジフルオロメチレン単位よりなる群から選ばれる少なくとも1種の構造単位を有する化合物類よりなる群から選ばれる少なくとも1種の変性剤化合物を用いて変性処理することによって得られる変性光触媒粒子と、該変性光触媒粒子より表面エネルギーが2ダイン/cm以上大きい樹脂を含む光触媒組成物であって、該光触媒組成物から形成される皮膜または成形体が該変性光触媒粒子の分布に関して異方性を有することを特徴とする自己傾斜型光触媒組成物。
−(R1 R2 SiO)− (1)
(式中、R1 、R2 は各々独立して水素原子、直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、又は置換されていないか又は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基を表す)、及び
−(CF2 )− (3) - 該変性光触媒粒子が液体媒体に分散されてなり、その平均粒子径が体積平均径で800nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の自己傾斜型光触媒組成物。
- 該光触媒粒子の該変性剤化合物による該変性処理を、ケイ素原子に結合した該水素原子に対して脱水素縮合活性を有する脱水素縮合触媒の存在下で行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の自己傾斜型光触媒組成物。
- 該脱水素縮合触媒が少なくとも1種の白金族の金属又はその化合物を包含することを特徴とする請求項3に記載の自己傾斜型光触媒組成物。
- 該樹脂が塗料組成物であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の自己傾斜型光触媒組成物。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の自己傾斜型光触媒組成物を成形して得られる、変性光触媒粒子の分布について異方性を有する成形体。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の自己傾斜型光触媒組成物を含む皮膜を基材上に形成して得られる機能性複合体であって、該皮膜が変性光触媒の分布について異方性を有することを特徴とする機能性複合体。
- 光照射により親水性あるいは疎水性及び/又は光触媒活性を発現することを特徴とする請求項6に記載の成形体。
- 光照射により親水性あるいは疎水性及び/又は光触媒活性を発現することを特徴とする請求項7に記載の機能性複合体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004335561A JP4737972B2 (ja) | 1998-11-20 | 2004-11-19 | 自己傾斜型光触媒組成物 |
Applications Claiming Priority (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33094198 | 1998-11-20 | ||
JP1998330941 | 1998-11-20 | ||
JP1998334519 | 1998-11-25 | ||
JP33451998 | 1998-11-25 | ||
JP36337698 | 1998-12-21 | ||
JP1998363376 | 1998-12-21 | ||
JP9747199 | 1999-04-05 | ||
JP1999097471 | 1999-04-05 | ||
JP21205099 | 1999-07-27 | ||
JP1999212050 | 1999-07-27 | ||
JP2004335561A JP4737972B2 (ja) | 1998-11-20 | 2004-11-19 | 自己傾斜型光触媒組成物 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000583623A Division JP4212242B2 (ja) | 1998-11-20 | 1999-11-22 | 変性光触媒ゾル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005131640A JP2005131640A (ja) | 2005-05-26 |
JP4737972B2 true JP4737972B2 (ja) | 2011-08-03 |
Family
ID=34658275
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004335561A Expired - Fee Related JP4737972B2 (ja) | 1998-11-20 | 2004-11-19 | 自己傾斜型光触媒組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4737972B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004107841A (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 機能性繊維 |
JP5283322B2 (ja) * | 2006-08-10 | 2013-09-04 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 高耐久コーティング用組成物 |
JP5511159B2 (ja) | 2007-10-16 | 2014-06-04 | 宇部エクシモ株式会社 | 光触媒膜、光触媒膜の製造方法、物品および親水化方法 |
JP5097682B2 (ja) * | 2008-11-13 | 2012-12-12 | 宇部日東化成株式会社 | 光触媒膜およびそれを有する物品 |
KR20120011884A (ko) * | 2009-06-26 | 2012-02-08 | 토토 가부시키가이샤 | 광 촉매 도장체 및 광 촉매 코팅액 |
JP7147492B2 (ja) * | 2018-11-08 | 2022-10-05 | 荒川化学工業株式会社 | 光触媒コーティング剤用バインダー水溶液、光触媒コーティング剤、硬化物、及び物品 |
KR102418944B1 (ko) * | 2020-11-16 | 2022-07-11 | 한국생산기술연구원 | 오염물질 저감을 위한 섬유 가공제 |
CN113913049B (zh) * | 2021-11-25 | 2023-08-29 | 河南京硕信息科技有限公司 | 一种光触媒荧光墨水及其制备方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3930591B2 (ja) * | 1995-12-22 | 2007-06-13 | 東陶機器株式会社 | 光触媒性親水性コーティング組成物、親水性被膜の形成方法および被覆物品 |
JP3493959B2 (ja) * | 1996-10-30 | 2004-02-03 | Jsr株式会社 | コーティング用組成物 |
JP3682506B2 (ja) * | 1996-10-30 | 2005-08-10 | Jsr株式会社 | コーティング用組成物 |
JPH1112539A (ja) * | 1997-06-20 | 1999-01-19 | Nippon Parkerizing Co Ltd | 機能性塗料組成物、および機能性塗膜の形成方法 |
JP2000017230A (ja) * | 1998-07-02 | 2000-01-18 | Showa Denko Kk | 光触媒を含有するコーティング組成物及び塗膜形成方法 |
JP3609262B2 (ja) * | 1998-08-07 | 2005-01-12 | 石原産業株式会社 | 酸化チタンゾルおよびその製造方法 |
JP2000144015A (ja) * | 1998-11-18 | 2000-05-26 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 光触媒塗料 |
JP4771574B2 (ja) * | 2000-05-24 | 2011-09-14 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 光触媒組成物 |
-
2004
- 2004-11-19 JP JP2004335561A patent/JP4737972B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005131640A (ja) | 2005-05-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4212242B2 (ja) | 変性光触媒ゾル | |
JP4771574B2 (ja) | 光触媒組成物 | |
JP2003275597A (ja) | 変性光触媒、及びそれを用いた光触媒組成物 | |
JP4737972B2 (ja) | 自己傾斜型光触媒組成物 | |
JP4454476B2 (ja) | 色素増感光触媒、及びそれを用いた光触媒組成物 | |
JP2002273233A (ja) | 変性光触媒、それを用いた光触媒組成物 | |
JP4454477B2 (ja) | 変性光触媒粒子 | |
JP2004100110A (ja) | 光触媒担持紙 | |
JP2006136782A (ja) | 光触媒アルミニウム部材 | |
JP4148835B2 (ja) | 機能性木材 | |
JP4397013B2 (ja) | 光触媒組成物 | |
JP2006136758A (ja) | 光触媒組成物、および光触媒部材 | |
JP4082967B2 (ja) | 防汚性目地構造体 | |
JP2004209345A (ja) | 光触媒組成物、及びそれから形成される光触媒体 | |
JP4102625B2 (ja) | 光触媒表層部を有する樹脂板 | |
JP2005060794A (ja) | 機能性アルミニウム建材 | |
JP2004111577A (ja) | 防汚性能を有する太陽電池カバー | |
JP4102622B2 (ja) | 防汚性テント地キャンバス | |
JP3922991B2 (ja) | 低汚染性ブラインド | |
JP2004099637A (ja) | 変性光触媒分散ポリッシュ | |
JP2004107952A (ja) | 防汚性能を有する便器 | |
JP2004105317A (ja) | 防汚性能を有する浴槽 | |
JP2004105087A (ja) | 農業用光触媒フィルム | |
JP2004108026A (ja) | 防汚性能を有するプール | |
JP2004107407A (ja) | 防汚性能を有する浴室用部材 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080603 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080731 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091208 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110329 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110408 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110426 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110426 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140513 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |