JP4719348B2 - 徴小寸法測定方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、TVカメラ等の二次元センサを用いて非接触で対象物の寸法を測定する装置のリニアリティ校正方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の基本的な寸法測定装置の構成(例えば、特公平6−103168号公報)としては、図2に示すように、光学顕微鏡1で投影された被写体(被測定物)2の空間像をTVカメラ3で撮像し、寸法測定演算処理装置4’で所望部分の寸法を測定し、TVモニタ5に被測定物2の画像と寸法測定値を表示するものがある。ここで、図3(a)に示すようにTVカメラ3の撮像した被測定物2のモニタ画像5’における1水平走査線Li上の輝度分布は、走査線Liに対応する映像信号をN分解した各画素位置とそれぞれの輝度により、図3(b)の輝度―画素特性が得られる。従来の処理方法としては、この特性より、以下のようにして寸法を測定する。図3において、輝度分布における最大輝度レベル51を100%とし、最小輝度レベル52を0%とし、50%の輝度レベル53に相当するa番目の位置の画素とb番目の位置の画素間の位置差Nabを求めて、この位置差Nabに、この時の顕微鏡1の測定倍率とTVカメラ3から被測定物2までの被写体距離により決まる係数kを乗じ、対応する被測定物2の寸法値Wを求める。
W=k×Nab
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
このように従来技術では、画面内のどの場所で測定しても係数kは同一であり、光学系の歪みとセンサの歪みを考慮しておらず、画面内の測定箇所により測定値が0.5%程度変動する。
例えば、図3(a)の被測定物2を画面内の9箇所で測定した場合に、下記の表1のように寸法値が変動する。
【0004】
【表1】
このために、画面内の同一箇所で測定するように、XYステージで被測定物2を微調整したあとで測定しており、高精度のXYステージ機構にて被測定物2を微調整する必要があり、構成が複雑化し、測定時間もかかることになる。
本発明はこれらの欠点を除去し、測定画面内の二次元歪みに応じて、寸法測定値を校正して、画面内の測定箇所による測定値の変動をなくし、XYステージ機構による微調整を不要とし、測定時間の短縮を図ることを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記の目的を達成するために、光学顕微鏡と二次元センサを用いて被測定物を撮像し、得られた映像信号から所定の輝度レベルに一致する2点の信号位置を抽出し、この2点間の位置差情報に基づき上記被測定物の寸法を算出測定する微小寸法測定装置において、測定した位置差Nabに、この時の上記光学顕微鏡の測定倍率と被写体距離により決まる係数kを乗じ、対応する被測定物の寸法Wを求める際、測定箇所(Xn,Ym)における二次元歪み比率rPyに応じ、上記測定した寸法Wを、
W=k×Nab/rPy
としてリニアリティ校正し求めるようにしたものである。この様に、測定画面内の二次元歪みを測定しておき、この二次元歪みに応じ、測定値を校正する方法で、画面内の測定箇所により測定値が0.5%程度変動する欠点を解決することができる。
【0006】
【発明の実施の形態】
以下、図1(a)〜(c)により、本発明の一実施例の構成、動作について、詳細に説明する。ここで、例えば、測定画面の視野が、X=20μm、Y=20μmにおいて、センサの画素数が、1000×1000の装置では、上記の係数kは、
k=20/1000=0.02μm
となる。従来装置では、前述のように、測定した線幅を、Nab=D(X,Y)とし、寸法Wを、 W=k×Nab=k×D(X,Y)で求めている。本発明では、測定した線幅を、Nab=D(Xn,Ym)とし、この係数kの他に、測定箇所(Xn,Ym)における画面歪み比率rPyを用いて、寸法Wを、W=k×D(Xn,Ym)/rPy として求める。
【0007】
以下に、本発明の画面歪み比率rPyの求め方について、詳しく説明する。
まず、図1(a)を用いて画面歪みの登録方法について説明する。
光学顕微鏡1で投影された被写体(被測定物)2の空間像をTVカメラ3で撮像し、寸法測定演算処理装置4で所望部分の寸法を電気的に測定し、TVモニタ5に被測定物2の画像と寸法測定値を表示する。 被測定物2の移動は、寸法測定演算処理装置4から、XY電動ステージ(図示せず)に指示して行う。
ここで、XY電動ステージは、0.1μmの分解能で移動するものとする。 また、被測定物2を既知寸法Wの基準試料とする。 また、図1(b)の様に、測定画面内のX方向n箇所、Y方向m箇所を、測定箇所(Xn,Ym)とする。
ここで、まず、XY電動ステージを測定箇所(X1,Y1)に移動し、測定値D(X1,Y1)を得る。
次に、XY電動ステージを測定箇所(X1,Y2)に移動、測定値D(X1,Y2)を得る。
さらに、順次、XY電動ステージを測定箇所(X1,Yn)に移動し、測定値D(X1,Yn)を得る。
次に、XY電動ステージを測定箇所(X2,Y1)に移動、測定値D(X2,Y1)を得る。
そして、XY電動ステージを測定箇所(X2,Y2)に移動、測定値D(X2,Y2)を得る。
さらに、順次、XY電動ステージを測定箇所(X2,Yn)に移動し、測定値D(X2,Yn)を得る。
そして最終的に、XY電動ステージにより基準試料の中心を、測定箇所(Xn,Ym)に移動し、測定値D(Xn,Ym)を得る。
【0008】
ここで、以上のようにして測定した測定箇所(X1,Y1)の測定値D(X1,Y1)を既知寸法Wとする係数kを、下記式から求める。
k=W/D(X1,Y1)
つまり、このkは、測定箇所(X1,Y1)の測定値D(X1,Y1)をWとする係数である。 W=k×D(X1,Y1)
そして、測定値D(Xn,Ym)を測定値D(X1,Y1)で除算して、比率r(X1,Y1)から、比率r(Yn,Ym)を得る。
例えば、n=3,m=3箇所で測定した場合には、m=1のY座標上で、n=1,2,3のX座標での比率r(X1,Y1)、r(X2,Y1)、r(X3,Y1)を得る。
即ち、X1,X2,X3の座標と比率r(x1,Y1)、r(X2,Y1)、r(X3,Y1)より、
2次方程式 r(Y1)=A1・X2+B1・X+C1 の係数A1,B1,C1を計算で求め、
2次方程式 r(Y1)=A1・X2+B1・X+C1 を登録する。
次に、m=2のY座標上で、n=1,2,3のX座標での比率r(X1,Y2)、r(X2,Y2)、r(X3,Y2)を得る。
【0009】
そして、同様に、2次方程式 r(Y2)=A2・X2+B2・X+C2 を登録する。
また、m=3のY座標上で、n=1,2,3のX座標での比率r(X1,Y3)、r(X2,Y3)、r(X3,Y3)を得る。
そして、同様に、2次方程式 r(Y3)=A3・X2+B3・X+C3 を登録する。
以上の様にして、m=1,2,3のY座標のr(Y1)、r(Y2)、r(Y3)を登録する。
つまり、n,m箇所で測定した場合には、最大で(n−1)次の方程式が形成できる。
【0010】
以上のようにして登録した、m=1,2,3のY座標の2次方程式r(Y1)、(Y2)、r(Y3)を、Y座標も入れて表現すると、登録した2次方程式r(Ym)と測定点P(Px,Py)の関係は、図1(c)のようになる。
即ち、測定点P(Px,Py)で測定した場合は、
m=1の方程式 r(Y1)=A1・X2+B1・X+C1
m=2の方程式 r(Y2)=A2・X2+B2・X+C2
m=3の方程式 r(Y3)=A3・X2+B3・X+C3
に、X=Pxを代入し、
r(Y1)=A1・Px2+B1・Px+C1
r(Y2)=A2・Px2+B2・Px+C2
r(Y3)=A3・Px2+B3・Px+C3
を得る。
ここで、r(Y1)、r(Y2)、r(Y3)はY座標の関数であり、
2次方程式 rPy=Ap・Y2+Bp・Y+Cp に、Y=Y1,Y2,Y3を代入することで、Ap,Bp,Cpが求まる。
そして、最終的に求める比率rPyは、
Y=Pyを、rPy=Ap・Y2+Bp・Y+Cpに代入することで、
rPy=Ap・Yp2+Bp・Yp+Cp が求まる。
従って、求めたい線幅Wは、k×D(X1,Y1)を比率rPyで除算することにより、 W=k×D(X1,Y1)/rPy から、画面歪みの補正された線幅Wを求めることができる。
【0011】
以上のことを、実際の数値を使って検証する。画素数1000×1000の二次元センサを用い、画面視野20μm×20μmにて、1.05μmの線幅を測定し、それぞれの線幅の測定値D(Xn,Ym)が前述の表1のようになったと仮定する。ここで、測定箇所(X1,Y1)の測定値D(X1,Y1)を、既知寸法W=1.050とする係数kを求める。
k=W/D(X1,Y1)=1.050/50.52=0.020784
即ち、下記の様に、このkは、測定箇所(X1,Y1)の測定値D(X1,Y1)を、線幅寸法Wとする係数である。
W=k×D(X1,Y1)=0.020784×50.52=1.050
次に、下記の表2に示す様に、測定値D(Xn,Xm)を測定値D(X1,Y1)で除算して、比率r(X1,Y1)から比率r(Yn,Ym)を得る。
【0012】
【表2】
ここで、m=1のY座標上で、n=1,2,3のX座標箇所の比率r(X1,Y1)、r(X2,Y1)、r(X3,Y1)を得る。
【0013】
次に、X1,X2,X3の座標と比率r(X1,Y1)、r(X2,Y1)、r(X3,Y1)より、2次方程式 r(Y1)=A1・X2+B1・X+C1 の係数A1,B1,C1を、以下の計算によって求める。
1.0000=A1・2002+B1・200+C1
1.0022=A1・5502+B1・550+C1
1.0018=A1・8002+B1・800+C1
1.0000=40000A1+200B1+C1 ・・・・・(1)
1.0022=302500A1+550B1+C1 ・・・・・(2)
1.0018=640000A1+800B1+C1 ・・・・・(3)
C1=1.0000−(40000A1+200B1)より、式(2)、(3)は、
1.0022=302500A1+550B1+1.0000−(40000A1+200B1)
0.0022=262500A1+350B1 ・・・・・・(4)
1.0018=640000A1+800B1+1.0000
−(40000A1+200B1) 0.0018=600000A1+600B1 ・・・・・・(5)
B1=(0.0018−600000A1)/600を、式(4)に代入し、
0.0022=262500A1+350(0.0018−600000A1)/600
0.0022−0.0018(350/600)=(262500−600000(350/600))A1
0.0022−0.00105=(262500−350000)A1
A1=−0.00115/87500 ・・・・・・・・(6)
B1=(0.0018−600000A1)/600に、式(6)を代入し、
B1=(0.0018+0.0078857)/600
B1=0.0096857/600 ・・・・・・・・(7)
C1=1.0000−(40000A1+200B1) に、式(6)、(7)を代入し、
C1=1.0000−(40000(−0.00115/87500)+200・0.0096857/600)
=1.0000−(−0.0005257+0.00322856)
C1=0.99729 ・・・・・・・・・・・(8)
以上のようにして、上記式(6)、(7)、(8)の係数A1,B1,C1を計算で求め、r(Y1)の2次方程式を登録する。
r(100)=−0.00115/87500X2+(0.0096857/600)X+0.99729
【0014】
上記と同様にして、m=2のY座標上で、n=1,2,3のX座標箇所の比率r(X1,Y2)、r(X2,Y2)、r(X3,Y2)を得る。
0.9899=40000A2+200B2+C2
0.9901=302500A2+550B2+C2
0.9912=640000A2+800B2+C2
そして、2次方程式 r(Y2)=A2・X2+B2・X+C2 の係数A2,B2,C2を、上記r(Y1)と同様にして求め、r(Y2) の2次方程式を登録する。
r(500)=−0.0005583/87500・X2−(0.00253/600)X+0.9990488
また、同様にして、m=3のY座標上で、n=1,2,3のX座標箇所の比率r(X1,Y3)、r(X2,Y3)、r(X3,Y3)を得る。
0.9956=40000A3+200B3+C3
0.9966=302500A3+550B3+C3
0.9976=640000A3+800B3+C3
そして、2次方程式 r(Y3)=A3・X2+B3・X+C3 の係数A3,B3,C3を、上記r(Y1)と同様にして求め、r(Y3) の2次方程式を登録する。
r(900)=0.000167/87500・X2−0.000857/600・X+0.995238
以上のようにして登録した、m=1,2,3のY座標の2次方程式r(Y1)、(Y2)、r(Y3)を、Y座標も入れて表現すると、登録した2次方程式r(Ym)と測定点P(Px,Py)の関係は、図1(c)のようになる。
【0015】
一例として、測定箇所P(Px,Py)=P(300,400)点で測定した場合は、
m=1の方程式 r(l00)=(−0.00115/87500)X2+(0.0096857/600)X+0.99729
m=2の方程式 r(500)=(−0.005583/87500)X2−(0.00253/600)X+0.9990488
m=3の方程式 r(900)=(0.000167/87500)X2−(0.000857/600)X+0.995238
に、X=300を代入し r(100)=1.00958
r(500)=0.98980
r(900)=0.99583 を得る。
r(Yl),r(Y2),r(Y3)はY座標の関数であり、2次方程式 rPy=Ap・Y2+Bp・Y+Cp に、Y=Y1,Y2,Y3を代入し、
1.00958=Ap・1002+Bp・100+Cp
0.98980=Ap・5002+Bp・500+Cp
0.99583=Ap・9002+Bp・900+Cp
から、Ap、Bp、Cpが求まる。
Ap=8.04063E-8、Bp=−9.75E-5、Cp=1.018445
最終的に求める比率rPyは、Y=Py=400を、 rPy=Ap・Y2+Bp・Y+Cp に代入し、
で求まる。
W=1.05μm、k=0.020784、X1=Px=800、Y2=Py=400とすると、
W=k×D(300,400)/rPy
1.05=0.020784×D(300,400) /0.99231
D(300,700)=(1.05/0.020784)×0.99231=50.13 画素となることが予想でき、
W=k×D(300,400)/rPY 式に、rPy=0.99231を用いることで、W=0.020784×50.13/0.99231=1.05μm となる。
【0016】
以上の説明では、3点測定の2次方程式の例を示したが、
(1)4点以上測定し、その最小自乗法で2次方程式を求める。
(2)4点測定し、その最小自乗法で3次方程式を求める。
(3)5点以上測定し、その最小自乗法で3次方程式を求める。
(4)n点測定し、その最小自乗法で(n−1)次方程式を求める。
(5)(n+1)点以上測定し、その最小自乗法で(n−1)次方程式を求める。
ことも、本発明によるところである。
【0017】
【発明の効果】
(1)登録時に、測定した点から多次方程式を作成し、任意測定点でのリニアリティを校正できるので、画面内のどこで測定しても同じ寸法が得られる。
(2)既知の基準試料をXY電動ステージに設定するだけで、リニアリティ校正の自動登録が可能で、作業者の操作と判断に依存せず信頼性がある。
(3)画面内の任意測定点で自動読み出し、自動計算するので、作業者の操作と判断に依存せず簡便かつ信頼性がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の微小寸法測定装置の構成、動作を説明するための図
【図2】従来の微小寸法測定装置の構成を示す図
【図3】従来の測定方法を説明する図
【符号の説明】
1:光学顕微鏡、2:被測定物、3:TVカメラ、4:寸法測定演算処理装置、5:TVモニタ、41:フレームメモリ、42:高分解能メモリ、43:CPU
Claims (1)
- 光学顕微鏡と二次元センサを用いて被測定物を撮像し、得られた映像信号から所定の輝度レベルに一致する2点の信号位置を抽出し、この2点間の位置差情報に基づき上記被測定物の寸法を算出測定する微小寸法測定装置において、測定した位置差Nabに、この時の上記光学顕微鏡の測定倍率と被写体距離により決まる係数kを乗じ、対応する被測定物の寸法Wを求める際、測定箇所(Xn,Ym)における二次元歪み比率rPyに応じ、上記測定した寸法Wを、W=k×Nab/rPy
としてリニアリティ校正し求めることを特徴とする徴小寸法測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000326485A JP4719348B2 (ja) | 2000-10-26 | 2000-10-26 | 徴小寸法測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000326485A JP4719348B2 (ja) | 2000-10-26 | 2000-10-26 | 徴小寸法測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002131019A JP2002131019A (ja) | 2002-05-09 |
JP4719348B2 true JP4719348B2 (ja) | 2011-07-06 |
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ID=18803662
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000326485A Expired - Lifetime JP4719348B2 (ja) | 2000-10-26 | 2000-10-26 | 徴小寸法測定方法 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4719348B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101464129B (zh) * | 2007-12-17 | 2010-08-25 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种显微图像的校准方法 |
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---|---|---|---|---|
JP2001133225A (ja) * | 1999-11-01 | 2001-05-18 | Ohbayashi Corp | デジタルカメラを用いる寸法,形状の計測方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06103168B2 (ja) * | 1989-09-25 | 1994-12-14 | 日立電子株式会社 | 微小寸法測定方法 |
JPH0474909A (ja) * | 1990-07-17 | 1992-03-10 | Hitachi Constr Mach Co Ltd | 測長装置 |
JP4016472B2 (ja) * | 1997-01-10 | 2007-12-05 | 株式会社日立製作所 | 外観検査方法及びその装置 |
-
2000
- 2000-10-26 JP JP2000326485A patent/JP4719348B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001133225A (ja) * | 1999-11-01 | 2001-05-18 | Ohbayashi Corp | デジタルカメラを用いる寸法,形状の計測方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002131019A (ja) | 2002-05-09 |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070928 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100127 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100202 |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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